检测设备及使用该检测设备的检测方法技术

技术编号:18395487 阅读:30 留言:0更新日期:2018-07-08 18:00
在此公开用于检测透明膜的方法。所述方法包括使用偏光器以光照射检测靶,接收由检测靶反射且接着由线扫描相机传递通过分析器的光并将所述光的波长的振幅和相位合成为光的强度,以及比较所述光的所述强度与用于预计设定的具有不同厚度的检测靶的光的强度以基于比较的结果探测检测靶的缺陷。可以确定是否有透明膜以及透明膜的厚度可以在大区域中测量。在形成透明膜之后实时地执行检测,使得若生成缺陷可以立即地反馈,由此减少缺陷。在此情况下,可以节约处理成本。

【技术实现步骤摘要】
检测设备及使用该检测设备的检测方法相关申请的交叉引用本申请要求于2016年12月29日向韩国知识产权局递交的韩国专利申请第10-2016-0182989号的优先权,该申请的公开内容在此以引用方式全部并入本文中。
本公开内容涉及一种检测设备,以及一种使用所述设备的检测方法,具体而言,涉及一种用于确定在用于有机发光面板的基板上形成的透明膜的残余层的存在、和用于测量其厚度的检测设备,以及一种使用该设备的检测方法。
技术介绍
显示装置在屏幕上提供各种的图像信息,并且是信息和通信时代的核心技术。这些显示装置变得更薄、更轻、且可携带,并伴随有更高的性能。在这些显示装置中,有机发光显示装置正在引发关注,其通过控制从有机发光元件发射的光的量来显示图像。有机发光元件通过使用电极之间的薄发射层以自己的方式发出层,并且具有可以变得更薄的优点。一般而言,有机发光显示装置具有基板,于该基板上形成像素驱动电路和有机发光元件。随着来自有机发光元件发射的光透射基板或阻挡层,图像得以显示。有机发光显示装置包括:有机发光元件,该有机发光元件包括有机发射层,阳极和阴极;用于驱动有机发光元件的驱动元件,诸如晶体管和电容器。具体而言,有机发光显示装置利用以下现象:从阳极注入的空穴和从阴极注入的电子在有机发射层中重组以形成激子(excitons),并且当激子从激发状态释放到基态(groundstate)时,随着释放能量而产生特定波长的光。因此,有机发光显示装置具有高响应速率、高对比度、良好的发光效率、高亮度和可视角度大的优点。不幸的是,有机发光装置可由诸如因氧气所致的电极和发射层的劣化、发射层与界面之间的反应所致的劣化等内部因素、以及诸如湿气、氧气、紫外线和装置的制造条件之类的外部因素而易于劣化。在这些因素中,由外部引入的氧气和湿气严重地影响有机发光显示装置的寿命,因而装置的封装是十分重要的。因此,为了抑制氧气和湿气渗透进入这种有机发光层,多种封装有机发光元件的技术正在使用中。
技术实现思路
目前,柔性有机发光显示装置通过采用由诸如塑料的柔性材料所形成的柔性基板而正得以发展,使得即使在其弯曲之时也可以显示出图像。因此,封装层也具有柔性结构。由于柔性有机发光显示装置对于弯曲和折叠有利,因而显示器件的边框(bezel)可以通过弯曲面板的一部分而减少。在本文中,面板的弯曲部分指的是弯曲区域。为了密封有机发光元件,执行在母基板上形成封装层的工序,在该母基板上形成有用于形成面板的所有单元的像素驱动电路和有机发光元件。在封装层沉积于母基板上之后,执行划线工序以将母基板切割成单元。封装层可以由金属膜、玻璃基板、塑料、有机层、无机层或类似物形成。具体而言,有机层和无机层由透明材料形成且沉积在母基板上。具有开口的掩模在待沉积封装层的位置处使用。尽管设置在基板上用于沉积封装层的掩模被制造成带有制造公差,但沉积位置的面积由于热变形或类似因素可能增加或减少。具体而言,待沉积封装层的区域边缘随着有机发光显示装置的边框减少而减少。并且,使用更易于受到热变形影响的单元型掩模。在此情况下,封装层沉积位置的面积可以容易地改变。有机层或无机层可由具有与水类似粘度的材料形成。若这样制出,有机层或无机层可通过喷墨打印(inkjetprinting)形成。当材料粘度低时,材料更有可能流动。因此,为了将有机层或无机层沉积在所期望的位置处,有必要适当调整将要涂敷的材料的量。若没有调整涂敷的材料的量,那么材料可能会从待形成有机层或无机层的位置流出。在此情况下,封装层的有机层或无机层可以跨过上述弯曲区域或划线。若折弯弯曲区域或基板沿着划线切割,则形成在弯曲区域或划线中的封装层部分可能会受损。在此情况下,有机发光元件可能会由于受损的封装层而劣化。不幸的是,直到在切割母基板之后执行光检测工序才会检查封装层的沉积位置是否正确。换言之,没有实时检测是否有缺陷,因而耗费时间向用于沉积封装层的装备反馈缺陷的起因,由此引起更高的成本。而且,由于封装层保护有机发光显示装置,保持或维护封装层免于受损是重要的。因此,有必要在形成封装层的工序期间以及该工序之后的随后工序期间探测任何损害封装层的可能性。鉴于以上,本公开内容的专利技术人已认识到上述问题,并已经设计出一种在实时沉积封装层之后用于确定是否存在残余层和用于测量封装层厚度的检测设备,以便降低缺陷面板的数量,以及一种使用该设备的检测方法。本公开内容的一方面提供一种用于确定横跨基板的整个区域是否沉积有检测靶和该检测靶的厚度的检测设备。本公开内容的另一方面提供一种用于实时地确定是否沉积检测靶和该检测靶厚度的检测设备。应当注意,本公开内容的目的并不限于上述方面,对于本领域技术人员而言,本公开内容的其它目的根据以下说明将变得显而易见。根据本公开内容的一方面,提供一种检测方法,该方法包括:使用偏光器以光照射检测靶,接收由检测靶反射并由线扫描相机传递通过分析器的光,将反射光的波长的振幅和相位合成为光的强度,比较该光的强度与用于具有不同厚度的检测靶的光的预定强度,以及基于与预定强度比较的强度探测该检测靶的缺陷。能够确定是否存在透明膜,并且透明膜的厚度能够横跨基板的整个区域进行测量。在形成透明膜之后实时地执行该检测,使得如果产生缺陷能够立即反馈至处理装备,由此减少缺陷。在这种情况下,可以节约处理成本。根据本公开内容的另一方面,在此提供一种检测设备,该设备包括:偏光器,该偏光器线性偏振由光源发射出的光;分析器,该分析器透射通过偏光器并由检测靶反射的光;以及光学检测单元,该光学检测单元包括线扫描相机,该线扫描相机接收分析器透射的光并将反射光的波长的振幅和相位合成为光的强度;以及探测单元,该探测单元比较该光的强度与用于具有不同厚度的检测靶的光的预定强度,并且基于比较的结果探测检测靶的缺陷。透明膜的识别能够得以改善,并且基板的整个区域能够进行检测。在此情况下,有效地确定是否存在透明膜并测量其厚度是可行的。在本说明书中描述的检测靶本体的一或多个方面的细节将在附图及以下描述中进行公开。根据本公开内容的这些方面,通过在用于检测由透明膜形成的基板的检测设备中设置偏光器和分析器,透明膜的识别能够得以改善,使得能够有效地确定是否存在透明膜。根据本公开内容的这些方面,通过在检测设备中包括线扫描相机,能够执行扫描检测而非点检测,从而不应沉积透明膜的部分能够沿着多个单元的周缘进行扫描,由此减少缺陷。根据本公开内容的这些方面,检测设备包括光源,该光源发射具有400nm至800nm波长的光,使得在可见光范围之外的透明膜的识别能够得以改善,由此有效地确定是否存在透明膜。根据本公开内容的这些方面,检测设备包括分术器(beamsplitter),使得通过偏光器的光能够以正确的角度入射到检测靶上,由此有效地实施检测设备。根据本公开内容的这些方面,在检测靶形成于基板上之后且在单元的后处理或模块处理之前,检查是否存在检测靶的残余层和测量残余层的厚度,使得在图像检测或可靠性检测期间减少遗漏的缺陷是可行的,由此节约了成本。本
技术实现思路
没有详述所附权利要求的必要特征,因此权利要求的范围并不限于此。附图说明本公开内容的以上和其它方面、特征和其它优点将根据以下结合附图的具体描述而得到更清楚地理解,其中:图1为示出根据本公开内本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种检测方法,包括:使用偏光器以光照射检测靶;接收由所述检测靶反射的且由线扫描相机传递通过分析器的光;将反射光的波长的振幅和相位合成为光的强度;比较所述光的强度与用于具有不同厚度的检测靶的光的预定强度;以及以基于与预定强度比较的强度探测所述检测靶的缺陷。

【技术特征摘要】
2016.12.29 KR 10-2016-01829891.一种检测方法,包括:使用偏光器以光照射检测靶;接收由所述检测靶反射的且由线扫描相机传递通过分析器的光;将反射光的波长的振幅和相位合成为光的强度;比较所述光的强度与用于具有不同厚度的检测靶的光的预定强度;以及以基于与预定强度比较的强度探测所述检测靶的缺陷。2.如权利要求1所述的方法,其中在扫描所述检测靶的新检测区域的同时执行比较所述光的强度与光的预定强度。3.如权利要求1所述的方法,其中所述检测靶为在有机发光面板上的透明膜,以及其中比较所述光的强度与光的预定强度包括探测所述透明膜的存在以及测量所述透明膜的厚度。4.如权利要求3所述的方法,其中探测所述透明膜的存在包括探测所述透明膜是否形成在以下的至少一处中:所述有机发光面板的弯曲区域、所述有机发光面板的衬垫或者所述有机发光面板的基板上的划线。5.如权利要求4所述的方法,其中探测所述透明膜的存在包括在设置于所述检测靶上的多个金属键中比较被所述透明膜覆盖的金属键的强度与未被所述透明膜覆盖的金属键的强度。6.如权利要求3所述的方法,其中测量所述透明膜的厚度包括测量沉积在测试图案上的透明膜的厚度,所述测试图案设置在所述有机发光面板上。7.一种检测设备,包括:偏光器,所述偏光器线性偏振由光源发射的光;分析器,所述分析器透射已传递通过偏光器并由检测靶反射的光;光学检测单元,所述光学检测单元包括线扫描相机,所述线扫描相机接收所述分析器透射的光并将反射光的波长的振幅和相位合成为光的强度;以及探测单元,所述探测单元比较所述光的强度与用于具有不同厚度的检测靶...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄锡周
申请(专利权)人:乐金显示有限公司
类型:发明
国别省市:韩国,KR

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