一种用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备制造技术

本发明专利技术属于原子层沉积设备领域，并具体公开了一种用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备，包括进料仓、第一反应室、第二反应室和出料仓，进料仓用于控制纳米颗粒进入第一反应室，纳米颗粒在第一反应室中利用超声振动网打散，与第一前驱体反应物发生反应；反应后的纳米颗粒经第一旋转给料装置进入第一清洗室，并通过气体吹扫清洗掉反应副产物；经过清洗后的纳米颗粒送入第二反应室中，并在第二反应室内部利用超声振动网打散，且与第二前驱体反应物发生反应；反应后的纳米颗粒经第二旋转给料装置进入第二清洗室，并通过气体吹扫清洗掉反应副产物，最后送入出料仓中。本发明专利技术可实现纳米颗粒表面薄膜的连续均匀沉积，且无团聚现象。

【技术实现步骤摘要】
一种用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备
本专利技术属于原子层沉积设备领域，更具体地，涉及一种用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备。
技术介绍
原子层沉积技术与用于薄膜制备的化学气相沉积方法或物理气相沉积方法相比有着极其优越的性能，因此被广泛的应用。原子层沉积技术在反应过程中具有自限制性，故原子层沉积技术能够沉积纳米级厚度的薄膜，通过控制反应的循环次数能够精确地控制薄膜的厚度。原子层沉积方法获得的薄膜具有良好的均匀性和保形性，已经在汽车尾气处理、太阳能电池的制备和量子点的包覆改性方面有广泛的应用。而在包覆过程中，纳米颗粒具有容易团聚的特点，现有的原子层沉积设备对实现颗粒分散的作用有限，且不能实现纳米颗粒表面的连续原子层沉积，即纳米颗粒在沉积过程中容易团聚，且无法实现连续原子层沉积。因此，有必要研究设计一种原子层沉积设备，以有效解决纳米颗粒容易团聚的问题，并实现连续沉积。
技术实现思路
针对现有技术的以上缺陷或改进需求，本专利技术提供了一种用于纳米颗粒包覆的连续原子层沉积设备，其通过将纳米颗粒依次通过通有不同前驱体反应物的反应腔体和清洗室实现薄膜在纳米颗粒表面的连续沉积，同时通过反本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备，其特征在于，包括进料仓、第一反应室、第二反应室和出料仓，其中，所述进料仓用于控制纳米颗粒进入所述第一反应室，纳米颗粒在第一反应室内部利用超声振动网被打散，并与第一前驱体反应物发生反应；反应后的纳米颗粒经第一旋转给料装置进入第一清洗室，并在第一清洗室内部通过气体吹扫清洗掉反应副产物；经过第一清洗室清洗后的纳米颗粒送入第二反应室中，并在第二反应室内部利用超声振动网被打散，且与第二前驱体反应物发生反应；反应后的纳米颗粒经第二旋转给料装置进入第二清洗室，并在第二清洗室内部通过气体吹扫清洗掉反应副产物，最后送入出料仓中。

【技术特征摘要】
1.一种用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备，其特征在于，包括进料仓、第一反应室、第二反应室和出料仓，其中，所述进料仓用于控制纳米颗粒进入所述第一反应室，纳米颗粒在第一反应室内部利用超声振动网被打散，并与第一前驱体反应物发生反应；反应后的纳米颗粒经第一旋转给料装置进入第一清洗室，并在第一清洗室内部通过气体吹扫清洗掉反应副产物；经过第一清洗室清洗后的纳米颗粒送入第二反应室中，并在第二反应室内部利用超声振动网被打散，且与第二前驱体反应物发生反应；反应后的纳米颗粒经第二旋转给料装置进入第二清洗室，并在第二清洗室内部通过气体吹扫清洗掉反应副产物，最后送入出料仓中。2.如权利要求1所述的用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备，其特征在于，所述超声振动网为锥形，并且设置有多层，其通过超声振动以打散纳米颗粒之间的团聚。3.如权利要求2所述的用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备，其特征在于，所述超声振动网的超声振动频率为30000Hz-40000Hz。4.如权利要求1-3任一项所述的用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备，其特征在于，所述第一反应室包括第一反应腔体、设于第一反应腔体侧面的第一前驱体反应物进气口以及设于第一反应腔体上方的第一前驱体反应物抽气口。5.如权利要求1-4任一项所述的用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备，其特征在于，所述第二反应室包括第二反应腔体、设于第二反应腔体侧面的第二前驱体反应物进气口以及设于第二反应腔体上方的第二前驱体反应物抽气口。6.如权利要求1所述的用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备，其特征在于，所述第一清洗室和第二清洗室结构相同，均包括清洗室腔体以及设于清洗室腔体上的惰...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈蓉，曲锴，单斌，李嘉伟，张晶，刘潇，曹坤，
申请(专利权)人：华中科技大学，
类型：发明
国别省市：湖北,42