具有与带非接触的液体调节装置的电解设备制造方法及图纸

一种具有与一带非接触的液体调节装置的电解设备，使一带在设在一处理槽一入口侧和一出口侧至少之一之上的液体调节装置的成对的部件之间连续通过。其特征在于：所述液体调节装置的成对的部件之间的一间距设置成略大于通过的带厚，以保持带表面和液体调节装置处于一非接触状态。（*该技术在2017年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有与带非接触的液体调节装置的电解设备本专利技术涉及一种具有一液体调节装置的电解设备，在对金属带表面用锡、锌、铬或其它金属在电解电镀过程中或在酸洗或其它表面处理过程中在带和电解液之间形成一非接触的密封。对用锡、锌、铬或其它金属对金属带表面进行电解电镀已提出了许多方法和装置，最近，对提供超过500米/分钟的性能的高效、高速电镀设备的特别要求越来越强烈。但对这样的高速电镀必须满足特殊的要求，因为在立式电镀设备中，带垂直通过并且运转带进入槽体底端一部分，而在卧式电镀设备中带水平通过并且运转带横向进入槽体中间部位。为了进行电镀(包括酸洗或其他处理)，连续移动要进行电镀的金属带，因此必须对进入的部分进行密封，以防止处理液泄漏。这是因为带连续的运转使得电镀处理液以沿运转带的表面被带走的形式而泄漏。具体地，如图1所示，由于液体被带走而产生的电镀处理液的泄漏量与带运转速度成比例。人们发现当带运转速度约为200米/分钟时，电镀处理液泄漏(损失)的量升至进给处理液的20％或更多，当带运转速度约为500米/分钟时，升至80％或更高，而在目前可获得的最大速度1000米/分钟时，泄漏量几乎为100％。对这样增大的泄漏，进给的处理液的量必须增大而保持电镀处理槽连续装满以使操作连续。防止处理液泄漏的密封方法包括如JP-A-(未经实审的日本专利申请)5-331695所公开的一种，其中一对阻塞辊在带的通过线辊的每一侧安装一个以可转动地与带表面接触，阻塞辊相对的轴端从外由密封圈密封，而且安装密封板通过与阻塞辊的圆周表面接触用于密封。这种对现有转动密封的改进的方法使得针对带表面进行的密封作用与阻塞辊之间的挤压力成比例地大大提高。图12示出了JP-A-5-171495公开的一种立式电解设备。如图所示、电解液103在一带100和电极101、102之间供给，以在带和-->电极之间传送一激励作用。另外，装备有密封辊105a、105b的液体密封装置104a和104b安装在立式电解设备的最下部，以防止电解液103的泄漏，从而获得一高流量密度同时保持电解液的液位。如图13所示，在JP-A-60-56092(美国专利号5,236,566)中公开的一立式电解设备在一带115和一电解液110之间通过使用液体进给喷管113和114，以向浸在电解液110中的电极111和112之间的间隙中供给电解液而产生一激励效应。但是在用阻塞辊挤压带的方法中，带表面容易受到擦伤。一个原因是辊子在带上的挤压力必须较大以保证密封压力。另一个原因是由于带的运转速度与辊子的圆周速度不一致而在带和辊子表面产生了接触擦伤。但最常发生的是从外面带入的尤其是在电解槽中的沉积物、异物如电解沉淀进入处理液并进入带表面和阻塞辊之间而成为擦伤的原因。这会降低生产效率、品级质量，使得辊子检验和更换很频繁，并且使生产线作业速度下降。另外，当带以曲折方式在密封辊之间通过时，如果带以在辊子轴向蜿蜒曲折方式行进，那么因为带在辊子之间受挤压，带由辊子重压的部分在推力方向受约束地通过，从而在带中产生皱折。这同上述异物的侵蚀一起进一步大大降低了品质。在上述的立式电解设备中，在带高速运转过程中在高流量密度下获得电解电镀需要充足的金属离子供给到镀层表面而且需要快速去除由高流量密度电解在电极之间产生的大量气体。这些需要形成的问题仍没有解决。由JP-A-5-171459公开的立式电解设备(图12)还具有以下问题：1)由于电解液103只由电极101和102形成的电极部挡住，而且由成对的密封辊105a、105b防止电解液的流逝，因此作用在液体密封装置104a、104b上的负载很大，使得在带高速运转过程中对液体的阻挡很困难。2)由于带100和密封辊105a、105b之间的滑动而产生的擦伤在带高速运转过程中很容易产生，而且擦伤也会由进入带和密封辊后挤压在带上的异物产生。-->3)由于密封辊本身受到损伤和磨损，降低了它们的密封性能并增大了电解液泄漏，在电极处用于电镀所需的流速很难保证而且由于非匀速的电解液流而产生有缺陷隙的电镀。另一方面，由JP-A-60-56092公开的立式电解设备(图13)使电极111和112浸在电解液100中进行电镀，而且可以充分应付目前使用的带的运转速度。但如果带的运转速度升至一较大值而不采用一些措施如安装一液体调节装置等，由于带115移动而产生的带走的流量损失如图1所示将随带增大的运转速度而增大，即在约为500米/分钟时基本达到100％。既使带的运转速度进而增大至约1000米/分钟，带走的流量的损失将保持饱和。当发生此现象时，带115和电极111、112之间的流速很难保证而且会产生镀层缺陷和灼烧的沉积物。本专利技术是为了克服上述问题。其一个目的是提供一种方法，防止电镀处理液泄漏并最大限度地避免带表面擦伤和变皱折。其另一个目的是提供一具有与带非接触的液体调节装置的电解设备，能在带高速运转过程中方便阻挡电解液、防止带与电极粘着，并增进电镀的产品质量和电镀操作效率。为了实现这些目的，本专利技术的一第一方面提供了一种具有与一带非接触的液体调节装置的电解设备，使一带在设在一处理槽一入口侧和一出口侧至少之一之上的液体调节装置的成对的部件之间连续通过。其特征在于：所述液体调节装置的成对的部件之间的一间距设置成略大于通过的带厚，以保持带表面和液体调节装置处于一非接触状态。本专利技术的一第二方面提供了根据本专利技术第一方面所述的一种具有与一带非接触的液体调节装置的电解设备，其特征在于，所述液体调节装置的成对的部件是密封机构，而且此密封机构包括一对密封辊、一对密封块以及一对楔形密封块中的至少一个装置。本专利技术的一第三方面提供了根据本专利技术第一方面所述的一种具有与一带非接触的液体调节装置的电解设备，其特征在于，液体调节装置是一对用于在处理槽中喷射和循环处理液的喷管装置。本专利技术的一第四方面提供了根据本专利技术第一、第二或第三方面所述-->的一种具有与一带非接触的液体调节装置的电解设备，其特征在于，通过的带与此对密封机构或喷管装置之间的间距为大于带的宽度0.1mm-0.5mm，最好是0.3mm-2mm。本专利技术的一第五方面提供了一种具有与一带非接触的液体调节装置的电解设备，使一带在一处理槽一入口侧和一出口侧至少之一之上的一对密封辊之间连续通过，其特征在于，此对密封机构之间的一间距为大于带厚0.1mm-5mm，最好为0.3mm至2mm，以在带表面和密封辊圆周表面之间形成一非接触状态，处理液在密封辊形成的间隙中得到调节，处理槽中的处理液的薄层在带表面和密封辊圆周表面之间形成，以产生针对处理的密封作用。本专利技术的一第六方面提供了一种具有与一带非接触的液体调节装置的电解设备，其特征在于，采用了一种用于转动密封辊的驱动装置，转动方向与带的通过方向一致，并使密封辊的圆周速度与带的运转速度相等，以使带和密封辊的运转同步。本专利技术的一第七方面提供了一种具有与一带非接触的液体调节装置的电解设备，其中一带通过在以一预定间距设置的电极之间形成的一电极部运转，一设在电极部出口侧的液体进给装置将电解液传至电极部，以进行电解处理，电解处理后电解液由一设置在电极一入口侧上的一废液部回收而一电解液容器设在电极部的入口侧或出口侧，以通过液体进给装置或废液部与电极部接通或连本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1．一种具有与一带非接触的液体调节装置的电解设备，使一带在设在一处理槽一入口侧和一出口侧至少之一之上的液体调节装置的成对的部件之间连续通过。其特征在于：所述液体调节装置的成对的部件之间的一间距设置成略大于通过的带厚，以保持带表面和液体调节装置处于一非接触状态。2．根据权利要求1所述的一种具有与一带非接触的液体调节装置的电解设备，其特征在于，所述液体调节装置的成对的部件是密封机构，而且此密封机构包括一对密封辊、一对密封块以及一对楔形密封块中的至少一个装置。3．根据权利要求1所述的一种具有与一带非接触的液体调节装置的电解设备，其特征在于，液体调节装置是一对用于在处理槽中喷射和循环处理液的喷管装置。4．根据权利要求1至3中任一项所述的一种具有与一带非接触的液体调节装置的电解设备，其特征在于，通过的带与此对密封机构或喷管装置之间的间距为大于带的宽度0.1mm-0.5mm，最好是0.3mm-2mm。5．一种具有一与带非接触的液体调节装置的电解设备，使一带在一处理槽一入口侧和一出口侧至少之一之上的一对密封辊之间连续通过，其特征在于，此对密封机构之间的一间距为大于带厚0.1mm-5mm，最好为0.3mm至2mm，以在带表面和密封辊圆周表面之间形成一非接触状态，处理液在密封辊形成的间隙中得到调节，处理槽中的处理液的薄层在带表面和密封辊圆周表面之间形成，以产生针对处理的密封作用。6．根据权利要求5所述的一种具有与一带非接触的液体调节装置的电解设备，其特征在于，采用了一种用于转动密封辊的驱动装置，转动方向与带的通过方向一...

【专利技术属性】
技术研发人员：村美智广，真田雅治，
申请(专利权)人：新日本制铁株式会社，
类型：发明
国别省市：