一种防着板及镀膜设备制造技术

一种防着板及镀膜设备，包括：在固定部两侧设置有台阶部的防着板；台阶部包括：设置在固定部第一侧的第一台阶、设置在固定部第二侧的第二台阶。本实用新型专利技术实施例降低了等离子体的污染及设备稼动率；减少了材料损耗及人力消耗。

【技术实现步骤摘要】
一种防着板及镀膜设备
本文涉及但不限于薄膜沉积技术，尤指一种防着板及镀膜设备。
技术介绍
薄膜沉积技术在机械、电子、半导体等多个领域有着广泛的应用，以薄膜场效应管液晶显示器(TFT-LCD，ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay)为例，在其制造过程中一般采用真空等离子体磁控溅射镀膜设备(后简称真空溅镀设备)，应用物理气相沉积(PVD，PhysicalVaporDeposition)(工艺沉积金属(比如铜(Cu)、铝(Al)、钼(Mo)等)和非金属(如铟锡氧化物(ITO，IndiumTinOxides)等)薄膜。PVD制备薄膜的原理为：在真空溅镀设备中，溅射源在电场的作用下产生加速电子，加速电子与预先通入的惰性气体(通常为氩(Ar))碰撞得到带正电的粒子，带正电的粒子受到阴极(靶材)的吸引而轰击靶材表面的原子，被轰击出来的靶材原子具有一定的动能，转移至玻璃衬底上沉积而形成薄膜。然而，轰击出来的靶材原子不仅仅沉积在玻璃衬底上，还会沉积在成膜腔室的其他非镀膜区域，对腔室造成污染。为了防止靶材原子溅射到成膜腔室内部的除玻璃衬底之外的非镀膜区域，需要在真空腔室中设置防着板，例如，在腔室的四周设置防着板。图1为相关技术中一可选的防着板的组成示意图，如图1所示，为了增大防着板的附着能力，其表面通常设有均匀排布的凸起；为了保证腔室的洁净和工艺的稳定，防着板需定期清洗；例如，一个或半个靶材周期进行一次清洗。目前，高世代线TFT-LCD生产线中，靶材不是单独的一块，而是由多块组成的，通常称为多联的；例如，由十块靶材并排排列称为十联靶材；每一根靶材在成膜时都会形成自有的等离子体区域，为了防止相邻靶材形成的离子体边缘区域形成干涉，而影响成膜品质，在相邻靶材之间设有防着板，以及供安装防着板的支撑部；防着板通过螺钉将其两端固定在支撑部上；为了防止固定螺钉表面被污染，造成更换时拆卸困难，还要对每个螺钉安装防着帽；图2为相关技术中防着板的端部放大示意图，如图2所示，为了便于实现防着帽的安装，防着板的两端固定部宽度比防着板主体宽度窄，形成了图2中出现的通过左斜线填充的没有遮挡的区域，本文为便于描述将该没有遮挡的区域简称为无遮挡区。为了保证溅射时带正电的粒子有效的轰击靶材，将真空腔室内的靶材设计为带负电(通常称为阴极)，其他非成膜区域进行接地处理。靶材之间设置的支撑部为不锈钢材质，其横截面呈“T”型，防着板安装于“T”型的“1”上，“一”主要起到防止支撑部变形的作用，靶材则安装于“T”的或的拐角内，与其保持一定的安全距离，由于该距离很小，为防止支撑部和靶材导通，通常在“一”的两侧靠近靶材一面装有绝缘树脂螺钉。由于大世代线设备较高，相应的靶材较长，为了防止防着板变形，以及利于安装，防着板被设计成两根或多根；图3为相关技术安装防着板的示意图，如图3所示，安装于同一根支撑部上的防着板彼此搭接成为一个整体。图2所示的无遮挡区为等离子体污染该位置及其附近区域提供了可乘之机；当等离子体在无遮挡区附近的支撑部上成膜，由于所沉积的薄膜和支撑部热膨胀系数的差异，以及支撑部表面附着力较差，当无遮挡区沉积薄膜的膜厚达到一定程度时，膜层如果脱落搭接在靶材和支撑部之间，会导致靶材和支撑部短路而无法起辉；图4为相关技术靶材与支撑部短路示意图，通过测试可以确定靶材与支撑部发生了短路；另外，等离子体也可能沉积在支撑部的绝缘树脂螺钉上，使绝缘树脂螺钉导电，导致靶材和支撑部短路，绝缘树脂螺钉导电后可能被烧毁；此类问题在生产中是非常严重的，只有停机开腔才能解决，从而影响设备稼动率，以及造成不必要的材料损耗(1、纯铝靶材在生命周期内开腔可能会导致靶材表面氧化，如果继续生产，可能会造成靶材边缘非刻蚀区膜层的脱落，异常放电，以及严重的溅落(Splash)等不良，造成品质事故，因此如果出现问题的腔室安装的是纯铝靶材，则该靶材必须下机，经重新切割打磨处理才可再次上机；2、更换的防着板和支撑部等)及大量的人力消耗。综上，目前的防着板的设计存在容易出现由等离子体污染造成的短路，影响设备稼动率、材料损耗及人力消耗的问题。
技术实现思路
以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。本适用新型实施例提供一种防着板及镀膜设备，能够降低等离子体的污染，降低设备稼动率、材料损耗及人力消耗。本技术实施例提供了一种防着板，包括设置在固定部两侧的台阶部；所述台阶部包括：设置在固定部第一侧的第一台阶、设置在固定部第二侧的第二台阶。可选的，所述台阶部与所述防着板的无遮挡区的覆盖区域相同。可选的，所述第一台阶和所述第二台阶与所述防着板的搭接部处于相同高度，且所述第一台阶和所述第二台阶的厚度等于所述搭接部的厚度。可选的，所述第一台阶和第二台阶的长度与所述防着板的固定部的长度相同。可选的，所述第一台阶和第二台阶的长度等于所述固定部与所述搭接部的长度相加。可选的，所述第一台阶和所述第二台阶设置有均匀排布的凸起。可选的，设置于所述第一台阶和所述第二台阶的凸起与所述防着板的主体上的凸起相同。可选的，所述第一台阶和所述第二台阶经过喷砂或熔射处理。另一方面，本技术实施例还提供一种镀膜设备，设置上述防着板。与相关技术相比，本申请技术方案包括：在固定部两侧设置有台阶部的防着板；台阶部包括：设置在固定部第一侧的第一台阶、设置在固定部第二侧的第二台阶。本技术实施例降低了等离子体的污染及设备稼动率；减少了材料损耗及人力消耗。本技术的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本技术而了解。本技术的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。附图说明附图用来提供对本技术技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本技术的技术方案，并不构成对本技术技术方案的限制。图1为相关技术中一可选的防着板的组成示意图；图2为相关技术中防着板的端部放大示意图；图3为相关技术安装防着板的示意图；图4为相关技术靶材与支撑部短路示意图；图5为本技术实施例防着板的结构示意图；图6为本本技术另一实施例防着板的结构示意图。具体实施方式为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本技术的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行。并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。图5为本技术实施例防着板的结构示意图，如图5所示，防着板5包括设置在固定部两侧的台阶部5-1；台阶部5-1包括：设置在固定部5-2第一侧的第一台阶5-1-1、设置在固定部5-2第二侧的第二台阶5-1-2。可选的，本技术实施例台阶部5-1与防着板5的无遮挡区5-3的覆盖区域相同；第一台阶5-1-1和第二台阶5-1-2与防着板5的搭接部5-4处于相同高度，且第一台阶5-1-1和第二台阶5-1-2的厚度等于搭接部5-4的厚度。需要说明的是，本技术实施本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防着板，包括设置在固定部两侧的台阶部；所述台阶部包括：设置在固定部第一侧的第一台阶、设置在固定部第二侧的第二台阶。

【技术特征摘要】
1.一种防着板，包括设置在固定部两侧的台阶部；所述台阶部包括：设置在固定部第一侧的第一台阶、设置在固定部第二侧的第二台阶。2.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，所述台阶部与所述防着板的无遮挡区的覆盖区域相同。3.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，所述第一台阶和所述第二台阶与所述防着板的搭接部处于相同高度，且所述第一台阶和所述第二台阶的厚度等于所述搭接部的厚度。4.根据权利要求1所述的防着板，其特征在于，所述第一台阶和第二台阶的长度与所述防着板的固定部的长度相同。5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：肖亮，边松林，颜毓雷，王召波，王效坤，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：安徽,34