The invention uses double cathode plasma sputtering deposition and ion oxidation to prepare anti-bacterial silver containing MoO3 SiO2 nanocrystalline composite coating. The specific process parameters are as follows: the target voltage 800V~1000V, the workpiece voltage 250V~350V, the distance 10mm~20mm between the target and the workpiece, Ar pressure 25Pa~40Pa, the deposition temperature of 750 C ~950 C, and the deposition time 3. 0h~5.0h; ion oxidation process parameters: target voltage 650V~750V, workpiece voltage 250V~350V, target and workpiece distance 10mm~15mm, Ar pressure 25Pa~40Pa, O2 partial pressure 0.1Pa~1.0Pa, and oxidation time 1.5h~2.0h; the silver containing MoO3 SiO2 nanocrystalline composite coating obtained by this method has high hardness, high toughness and excellent corrosion resistance to ocean. Corrosion resistance and anti microbial corrosion ability can significantly improve the wear resistance, corrosion resistance and antibacterial properties of marine 316L stainless steel.
【技术实现步骤摘要】
耐蚀抗菌的含银MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法
本专利技术涉及双阴极等离子溅射沉积和离子氧化复合工艺以及涂层材料的结构设计与选材的领域,具体涉及一种制备含银MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的新方法,适用于在金属材料表面制备高耐蚀、良好的抗菌性能、高的结合力与强韧性涂层。
技术介绍
在人类生产生活中,腐蚀给人类带来了巨大的损失,其中由于微生物引起的腐蚀占到很大的比重。微生物在海洋环境中种类繁多,种群数目数以万计,他们能够在海洋恶劣环境中生存,面对不同的生存环境,微生物在种群上展现出多样性,因此对金属进行腐蚀的情况也是多样的。由于微生物腐蚀具有学科交叉性,涉及到物理,化学,生物和材料等各学科研究周期长,硬性因素复杂,实验条件苛刻等,给科学工作者的研究带来了巨大的困难。随着生物学技术及表面分析和电化学技术的发展,人们对微生物腐蚀的认识成为可能,对各类细菌的腐蚀机理也进行了研究。作为一个拥有1.8万km海岸线的世界海洋大国之一,研究海洋结构材料在海水中的微生物腐蚀性能具有十分重要的理论和现实意义。海洋腐蚀环境苛刻,海水中的盐浓度高(一般在3.5%左右),富氧,并存在大量海洋微生物,加之海浪冲击和阳光照射,海洋腐蚀环境较为严酷。在海洋环境中服役的基础设施和重工业设施的腐蚀问题严重,特别是船舶与海洋平台的腐蚀问题更加突出,腐蚀已经成为影响船舶、近海工程、远洋设施服役安全、寿命、可靠性的重要因素。而海洋微生物的存在,会附着在船底中生长和繁殖,从而使船体污损和发生腐蚀,造成船体粗糙,摩擦力增大,进而降低船舶航行的速度,增加燃耗。虽然对于大面积的海上构筑物可以采用 ...
【技术保护点】
一种耐蚀抗菌的含银MoO3‑SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:首先利用双阴极等离子溅射Mo‑Si‑Ag层,工艺参数:靶材电压800V~1000V,工件电压250V~350V,靶材与工件间距10mm~20mm,Ar气压25Pa~40Pa,沉积温度750℃~950℃,沉积时间3.0h~5.0h;b.其次进行等离子氧化,工艺参数:靶材电压650V~750V,工件电压250V~350V,靶材与工件间距10mm~15mm,Ar气压25Pa~40Pa,氧分压0.1Pa~1.0Pa,氧化时间1.5h~2.0h。
【技术特征摘要】
1.一种耐蚀抗菌的含银MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,具体步骤如下:首先利用双阴极等离子溅射Mo-Si-Ag层,工艺参数:靶材电压800V~1000V,工件电压250V~350V,靶材与工件间距10mm~20mm,Ar气压25Pa~40Pa,沉积温度750℃~950℃,沉积时间3.0h~5.0h;b.其次进行等离子氧化,工艺参数:靶材电压650V~750V,工件电压250V~350V,靶材与工件间距10mm~15mm,Ar气压25Pa~40Pa,氧分压0.1Pa~1.0Pa,氧化时间1.5h~2.0h。2.根据权利要求1所述耐蚀抗菌的含银MoO3-SiO2纳米晶复合涂层的制备方法,其特征在于,所述靶材为混合Mo-Si-Ag靶。3.根据权利要求2所述耐蚀抗菌的含银MoO3...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐江,孙腾腾,姚凡,
申请(专利权)人:南京航空航天大学,
类型:发明
国别省市:江苏,32
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