一种带磁场方向刻度的旋转靶制造技术

本实用新型专利技术适用于磁控溅射真空镀膜技术领域,公开了一种带磁场方向刻度的旋转靶，包括旋转靶主体(10)；所述旋转靶主体(10)的一端设有分度盘(11)，分度盘(11)设有刻度线(111)，所述旋转靶主体(10)设有靶材(12)、芯轴(13)、磁铁组(14)，所述磁铁组(14)设有第一磁铁条(141)、第二磁铁条(142)、第三磁铁条(143)，在旋转靶主体(10)剖面图中，第一磁铁条(141)、第二磁铁条(142)、第三磁铁条(143)以第二磁铁条(142)的中线(1421)成对称；所述第二磁铁条(142)的中线(1421)对应刻度线(111)的0度。有益效果在于：把旋转靶装入磁控溅射真空镀膜的炉中，可根据旋转靶上刻度线，调整旋转靶的磁场中轴线与基片的角度，保障磁控溅射真空镀膜的膜层均匀。

A rotating target with a magnetic field scale

The utility model is suitable for the technical field of magnetron sputtering vacuum coating, and discloses a rotating target with the direction of the magnetic field, including a rotating target body (10), one end of the rotating target body (10) is provided with a indexing disc (11), a graduation disk (11) is provided with a scale line (111), and the rotating target body (10) is provided with a target (12), a core shaft (13) and a magnet group. 14), the magnet group (14) is provided with a first magnet bar (141), a second magnet bar (142), and a third magnet bar (143). In the rotating target body (10) section, the first magnet bar (141), second magnet bar (142) and third magnet bar (143) are symmetrical in the middle line of the rods. The scale line (111) is 0 degrees. The beneficial effect is that the rotating target can be loaded into the magnetron sputtering vacuum coating, and the axis of the magnetic field and the angle of the substrate can be adjusted according to the calibration line on the rotating target, so as to ensure the uniformity of the film of the magnetron sputtering vacuum coating.

【技术实现步骤摘要】
一种带磁场方向刻度的旋转靶
本技术涉及磁控溅射真空镀膜
，特别涉及一种带磁场方向刻度的旋转靶。
技术介绍
磁控溅射真空镀膜现有技术中，磁控阴极(也称为磁控靶)主要有两种形式体现，一种是平面靶，另一种是旋转靶。旋转靶和平面靶一样也是通过电场和磁场的相互作用，使得靶面粒子被溅射出来，沉积在靶面前的产品表面上，形成膜层。目前旋转靶在镀膜生产中应用较为广泛，使用相对稳定。但在中频磁控溅射时，经常会出现磁场位置不太一致。磁场位置不一样，导致膜层不够均匀。所以需要一种旋转靶装入磁控溅射真空镀膜的炉中，可准确的调节旋转靶磁场与基片位置。
技术实现思路
本技术主要解决的技术问题是提供一种带磁场方向刻度的旋转靶，该旋转靶装入磁控溅射真空镀膜的炉中，可根据旋转靶上刻度线，调整旋转靶的磁场中轴线与基片的角度，为了解决上述问题，本技术提供一种带磁场方向刻度的旋转靶，包括旋转靶主体；所述旋转靶主体的一端设有分度盘，分度盘上设有刻度线，所述旋转靶主体设有靶材、芯轴、磁铁组，所述磁铁组设有第一磁铁条、第二磁铁条、第三磁铁条，在其剖面图中，第一磁铁条、第二磁铁条、第三磁铁条以第二磁铁条的中线成对称；所述第二磁铁条的中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带磁场方向刻度的旋转靶，包括旋转靶主体(10)；其特征在于，所述旋转靶主体(10)的一端设有分度盘(11)，分度盘(11)上设有刻度线(111)，所述旋转靶主体(10)设有靶材(12)、芯轴(13)、磁铁组(14)，所述磁铁组(14)设有第一磁铁条(141)、第二磁铁条(142)、第三磁铁条(143)，在其剖面图中，第一磁铁条(141)、第二磁铁条(142)、第三磁铁条(143)以第二磁铁条(142)的中线(1421)成对称；所述第二磁铁条(142)的中线(1421)对应刻度线(111)的0度。

【技术特征摘要】
1.一种带磁场方向刻度的旋转靶，包括旋转靶主体(10)；其特征在于，所述旋转靶主体(10)的一端设有分度盘(11)，分度盘(11)上设有刻度线(111)，所述旋转靶主体(10)设有靶材(12)、芯轴(13)、磁铁组(14)，所述磁铁组(14)设有第一磁铁条(141)、第二磁铁条(142)、第三磁铁条(143)，在其剖面图中，第一磁铁条(141)、第二磁铁条(142)、第三磁铁条(143)以第二磁铁条(142)的中线(1421)成对称；所述第二磁铁条(142)的中线(1421)对应刻度线(111)的0度。2.根据权利要求1所述一种带磁场方向刻度的旋转靶，其特征在于，所述在旋转靶主体(10)剖面图中，第一磁铁条(141)、第二磁铁条(142)、第三磁铁条(143)所产生磁场线(144)以以第二磁铁条(142)的中线(1421)成对称。3...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋光耀，叶平，
申请(专利权)人：深圳市鼎力真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44