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本实用新型适用于磁控溅射真空镀膜技术领域,公开了一种带磁场方向刻度的旋转靶，包括旋转靶主体(10)；所述旋转靶主体(10)的一端设有分度盘(11)，分度盘(11)设有刻度线(111)，所述旋转靶主体(10)设有靶材(12)、芯轴(13)、磁...
该专利属于深圳市鼎力真空科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市鼎力真空科技有限公司授权不得商用。

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