用于熔浸涂装金属带的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于熔浸涂装金属带（１），特别是钢带的装置，其中金属带（１）垂直地导引穿过装有熔融的涂层金属（２）的容器（３）并穿过前置的导引通道（４），在该导引通道的区域中，在金属带（１）的两侧布置有至少有两个用于产生电磁场的感应器（５），用于阻留容器（３）内的涂层金属（２），并且在部分区段上设有涂层金属（２）的增大体积，为了镇静涂装池，根据本发明专利技术，将上述增大体积设在感应器（５）的磁场区域内。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于熔浸涂装金属带的装置本专利技术涉及一种用于熔浸涂装金属带，特别是钢带的，，其中金属带垂 直地导弓l穿过装有熔融的涂层金属的容器并穿过前置的导弓腿道，在该导引通 道的区域中，在金属带的两侧布置有至少有两个用于产生电磁场的感应器，用 于阻留容器内的涂层金属，并且在部分区段上设有涂层金属的增大体积。一种这样的装置是先前的德国专利申请(2004年7月8日的103 30 656.0)。 那里属于前序部分的专利技术的任务是，提供一种用于熔浸涂装金属带的装置，并 克服那里所述现有技术的一些缺点，特别是EP 0 673 444 Bl， WO 96/03533和 JP 5086446中的缺点。需要保证的是，在使用电磁封闭的时候镇静熔浸浴，这 样可以提高覆层的质量。因为已经确认，涂层金属的池表面由于磁封闭产生的 电磁力而相对不镇静。而覆层厚度精确调节的im是镇静的金属池表面。对此在早些的建议中提出，或者在导引通道和容器的底部之间，或者在导 引通道自身中设置横截面扩大部位，使涂层金属可以,Xi:进入到该扩大部位中。 该横截面的扩大部位由此在最后提到的实施形式中弓l起了涂层金属在导引通道 区域的体积增大，且构成了本专利技术的出发点。本专利技术以下列任务为基础，即提出更多的措施，它们可以在使用电i^寸闭 的时候镇^^熔浸池，以提高涂装质量。根据本专利技术的解决方案的特征在于，在感应器的磁场区域内设有增大体积。在较早的专利申请中，涂层金属的增大体积或者处在容器的底部区域，或 处在导引通道内，但一直是在感应器之上。这样，在那里增大体积至少整个大 部分在感应器的有效磁场的外面。而在本专利技术中，增大体积针对性地在感应器 的磁场区域内，这样使得具有增大体积的区域受至臓场的影响。在优选的方案中规定，增大体积在感应器的上半部至上面三分之一的区域内。本专利技术将指出不同的措施舰至i淋积增大。在第一方案中规定，增大体积 由导引通道的壁体的宽度向上漏斗形增大而形成。当导引通道由分离的且可更 换的管段组成时，这样的结构就因为它特别节省的成本而可行且便于后装备。第二方案也有同样的优点，其中规定增大体积由导弓腿道的壁体的宽度阶 梯状地侧面扩大而形成。最后还可以在第二方案的改进变型中规定，在扩大部位和靠近上感应器棱 边处分别设有阻流壁。这也可以使得金属池或它的表面更镇静。在第二方案的改进变型中，阻流壁的形状可以特别地成形，尤其是^(吏阻流 壁的下棱边或上棱边或者两个棱边是有棱角的，是至少一次倒斜面的、锥形的 或倒圆的。另外还规定，阻流壁是导电的或不导电的。其材料在这里用例如陶瓷或其 它可经受熔融涂层金属的温度或侵蚀性的材料。在第三方案中规定，增大体积是由导弓l通道的壁体的侧面隆起部而形成的。 这里也使得用小成本更换导弓i通道进行后装备成为可能。为实现增大体积，作为前述横截面增大的替代或也是补充，在本专利技术的第 四个方案中规定，增大体积通过侧面输入额外的涂层金属形成。这里额外导入 到导引通道中的涂层金属体积流也形成有时也是附加的体积增大。在第四个方案的改进方案中，有效的体积增加这样实现，即上述侧面的输A3Iil至少两个管子进行，管子优选地在矩形导弓l通道的狭面上进入。用所建议的措施可以使容器内的涂层金属池的表面保持相对镇静，这样可 以得到高质量的浸涂。本专利技术的实施例在附图中示出。附图示出附图说明图1是用于进行熔浸涂装的装置的下部示意图，带有导引穿过其中的金属 带的纵向沿着金属带的中间截面，其中仅仅显示了用于容纳涂层金属的容器底 部区域和其下连接着的带有感应器的导引通道，连同导弓l通道的漏斗形扩大部 位形式的根据本专利技术的第一方案，图2表示本专利技术的第二方案，相应于图l，其形式为导引通道的阶梯形侦腼 的扩大部位，图3表示本专利技术的第三方案，相应于图l，带有阻流壁， 图4表示图3中阻流壁横截面的第一结构， 图5表示图3中阻流壁横截面的第二结构，图6表示图3中阻流壁横截面的第三结构，图7表示图3中阻流壁横截面的第四结构，图8表示本专利技术的第四方案，相应于图1 ，但具有横交于金属带的中间截面， 其形式为隆起部，图9表示本专利技术的第五方案，相应于图l，其形式为侧面将涂层金属输入到 导引通道中。在图1中只部分显示的装置中，待涂装的金属带1以钢带的形式垂直穿过 熔融的涂层金属2，优选地向上，在输送方向R上被抽出。涂层金属2可以特 别是锌或铝，且在隔绝空气的条件下装在合适的示出的容器3中。在容器3的底部3a中安置有用于金属带1的通道口 3b。在底部3a上，通 道口 3b向下连接有原贝膨为狭窄的矩形管子形式的导引通道4。带状的金属带 1在四周都有空隙的情况下导弓l穿过导弓l通道4，其中导引通道4的保持空着的 横截面以环形间隙RS的形式在特定段上被涂层金属2填满，这样金属带1在导 引通道4的上部区域4a被涂层金属2包围。涂层金属2因此在上部区域4a中 表现为一种液态的密封环，其将环形间隙RS向下填充直至U。为了保证密封环的填充效果，也就是，为了持续向下密封导引通道4内的 环形间隙RS，在导引通道4的壁体6的两边设置感应器5。感应器5在导引通 道4的区域产生强烈的磁场，其与那里的环形涂层金属2的重力相反作用，使 涂层金属2不会向下从导引通道4中流出，而是基本上位置固定地保持在U点。在图l中显示的空隙，以及环形间隙RS，为了清晰表示而明显扩大了，且 没有按比例显示。在导引通道4的上部区域4a中，作为密封环作用的环形涂层 金属2的体积实际上可以很小。感应器5的形式和它们的作用方式，以及没有显示的矫正线圈的禾,和该 装置的其他特点，己经详细地在所述先前的德国专利申请中描述。为了确保镇静容器内的池表面，在感应器5的磁场区域内，特别是直接在 感应器5旁，在导弓腿道4内设有涂层金属2的增大1^只。因此在图1中描绘的本专利技术的第一方案中，导引M4的上面的ffiA底部 3a的通道口 3b的区域4a漏斗形扩大，其方式为纵向壁6的下面宽度B1向上扩 大至宽度B2。所形成的狭窄的横向壁7的斜面与垂线成大约1至15度的锐角。导引通道4的纵向壁6的扩大部位，以及由此的区域4a的扩大部位，在下 面从感应器5的高度H的大约一半H/2处开始，延伸至超过高度H，使之随后 过渡到容器3的底部3a的矩形通道口 3b的纵向侧面中。涂层金属的体积在环 形间隙RS的区域中，也就是说在金属带1的窄的横侧面上扩大。由于所述的导引衝直4的漏斗形结构且它在空间上属于感应器5的磁场， 大大避免了由磁场弓胞的烙B虫涂层金属2中的涡流，且熔g虫池在其表面上尤为 镇静。在后面所有的图中，相同的零件将使用相同但带有上标的参考标记来表示。 图2显示了本专利技术的第二方案。这里涂层金属2的增大体积i!M导引通道4'的 阶梯形扩大的区域4a'实现。为此，纵向壁6'从下面宽度为B1，阶梯形地向上扩 大至上面宽度B2'，从而形成阶梯形的、通入到底部3a，的通道口 3b，的区域4a，。导弓l通道4'的纵向壁6'的阶梯形扩大部位，并由此区域4a'的阶梯形扩大部 位，在下面i^巨离高度H的一半高度H/2的X处开始，并由此在大约高度H 的上面三分之一H/3处，大约在感应器5的高度H的一般高度H/2处，并延伸 至U舰高度H,并接着过渡至U容器3'的底部3a'的矩形鹏口 3b'的纵侧本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于熔浸涂装金属带（１，１’，１”，１”’），特别是钢带的装置，在该装置中，金属带（１，１’，１”，１”’）垂直地导引穿过装有熔融的涂层金属（２，２”，２”’，２””）的容器（３，３’，３”，３”’）并穿过前置的导引通道（４，４’，４”，４”’），在该导引通道的区域中，在金属带（１，１’，１”，１”’）的两侧布置有至少有两个用于产生电磁场的感应器（５），用于阻留容器（３，３’，３”，３”’）内的涂层金属（２，２”，２”’，２””），并且在部分区段上（４ａ，４ａ’４ａ”，４ａ”’）设有涂层金属（２，２”，２”’，２””）的增大体积，其特征在于，上述增大体积设在感应器（５）的磁场区域内。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：H贝伦斯，R布里斯伯格，HG哈通，R泽布，
申请(专利权)人：SMS迪马格股份公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]