The present invention discloses a tritiated parrelin dimer and its application. At least one hydrogen is replaced by the substituent on the benzene ring or benzene ring of parrelin dipolymer as shown in structural formula I. The tritiated parrelin dimer uses parrelin dipolymer as a carrier of radioactive tritium, and is compact and stable using parrelin structure. The characteristics of strong radiation and molecular gaseous film formation are developed through the application of vapor deposition seamless compact film.
【技术实现步骤摘要】
氚化派瑞林二聚体及其应用
：本专利技术涉及氚化派瑞林二聚体及其应用。
技术介绍
：派瑞林(Parylene)中文名为聚对二甲苯，是一种超高性能高分子涂层材料，是军事标准中唯一一种固态涂料。其沉积成膜过程如下：使用真空气相沉积工艺，将派瑞林(Parylene)二聚体固态粉末放在涂覆设备的升华腔体内，真空状态下先将派瑞林(Parylene)二聚体固态粉末在150-170℃真空气化，再在裂解腔经650℃高温下裂解成单体，然后常温条件下在沉积腔内聚合成高分子聚合物，沉积在要保护的样品上，形成保护膜。其沉积生长是一种分子级的生长过程，能涂敷到样品各种形状的表面，形成的薄膜厚度均匀、致密无孔、透明无应力，有优异的电绝缘性和防护性，介电常数小、润滑性好、摩擦系数低、绝缘性和防腐性好、抗辐射能力极强。
技术实现思路
：本专利技术的目的是提供一种氚化派瑞林二聚体及其应用。本专利技术是通过以下技术方案予以实现的：一种氚化派瑞林二聚体，其特征在于，结构式如式Ⅰ所示的派瑞林二聚体的苯环或苯环上的取代基的至少一个氢被氚替换：其中，A、B、C、D为任意取代基，E选自氢或卤素。A、B、C、D为氢或...
【技术保护点】
一种氚化派瑞林二聚体，其特征在于，结构式如式Ⅰ所示的派瑞林二聚体的苯环上的或苯环上的取代基的至少一个氢被氚替换：
【技术特征摘要】
1.一种氚化派瑞林二聚体，其特征在于，结构式如式Ⅰ所示的派瑞林二聚体的苯环上的或苯环上的取代基的至少一个氢被氚替换：其中，A、B、C、D为任意取代基，E选自氢或卤素。2.根据权利要求1所述的氚化派瑞林二聚体，其特征在于，A、B、C、D选自氢或乙基。3.权利要求2所述的氚化派瑞林二聚体的合成方法，其特征在于，包括以下：当派瑞林二聚体的苯环的至少一个氢被氚替换时，通过相应的卤代派瑞林二聚体在Pd、Pt、Ni催化条件下氚卤交换实现：当派瑞林二聚体的苯环上的取代基的至少一个氢被氚替换时，通过催化条件下侧链不饱和键氚加成，或通过卤代物和氚化格式试剂偶合反应。4.根据权利要求3所述的氚化派瑞林二聚体的合成方法，其特征在于，当派瑞林二聚体的苯环的至少一个氢被氚替换时，通过Pd、Pt、Ni催化条件下氚卤交换实现，具体包括以下步骤：在圆底烧瓶中加入苯环上卤代的对环苯烷、催化剂，四氢呋喃溶剂，液氮冷冻5分钟，高真空抽气5分钟，然后引进1大气压下的氚气，移开液氮，室温搅拌2小时，再用液氮冷冻圆底烧瓶5分钟，真空转移吸附法回收未反应的氚气，烧瓶中的剩余物回复室温，过滤除去固体物质，减压旋蒸除去溶剂，得到相应的氚化派瑞林目标产物。5.根据权利要求3所述的氚化派瑞林二聚体的合成方法，其特征在于，催化条件下侧链不饱和键氚加成具体包括以下步骤：在圆底烧瓶中加入侧链含有不饱和键的对环苯烷、Pd/C催化剂、四氢呋喃溶剂，液氮冷冻5分钟，高真空抽气5分钟，然后引进1大气压...
【专利技术属性】
技术研发人员：张子庚，靳文丛，詹芝敏，吕丽娴，张瑜桀，
申请(专利权)人：壹号元素广州科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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