具有自适应性的抛光头制造技术

本发明专利技术公开了一种具有自适应性的抛光头,包括：枢轴组件、基体及夹片组件，枢轴组件由轴体及盘体组成，基体上设置有适于与轴体配合的轴孔，夹片组件上设置有适于与盘体配合的凹槽；枢轴组件上的轴体与基体上的轴孔配合设置，枢轴组件上的盘体设置在夹片组件上的凹槽内；盘体的外周壁设有环形凸缘，环形凸缘的外周面与凹槽的内周壁线接触。根据本发明专利技术的具有自适应性的抛光头，能够保证抛光头的定心功能，提高抛光头稳定性和自适应性。

A self adaptable polisher

The invention discloses an adaptive polishing head, which consists of a pivot component, a matrix and a clip component. The pivot component is composed of a shaft body and a disc body, and a shaft is provided with a shaft fit with the shaft body. A groove is arranged on the clip assembly, and the shaft body on the shaft assembly is matched with the shaft hole on the base. The disc body on the pivot assembly is arranged in a groove on the clip component; the outer circumference of the disc body is provided with a ring flange, and the outer circumferential surface of the ring flange contacts the inner circumference line of the groove. The self polishing polishing head according to the invention can ensure the centering function of the polishing head and improve the stability and adaptability of the polishing head.

【技术实现步骤摘要】
具有自适应性的抛光头
本专利技术涉及化学机械抛光
，尤其涉及一种具有自适应性的抛光头。
技术介绍
抛光头是化学机械抛光单元的重要组成部分，相关技术的抛光头相当于一个万向节，枢轴组件只能吸收夹片组件与基座之间的上下方向振动，在旋转驱动机构的带动下，枢轴组件相对于基座做高速旋转运动，使得枢轴组件在会出现一定偏转，会产生周向的摆动，存在定心功能不足、自适应性差的问题。
技术实现思路
本专利技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种具有自适应性的抛光头，能够有效降低枢轴组件的摆动，使得稳定性和自适应性提高根据本专利技术实施例的具有自适应性的抛光头，包括：枢轴组件，所述枢轴组件包括轴体和盘体，所述盘体与所述轴体相连且与所述轴体同轴设置，所述盘体的外周壁设有环形凸缘；夹片组件，所述夹片组件上设有适于与所述盘体配合的凹槽，所述盘体配合在所述凹槽内且所述环形凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁线接触。由此，根据本专利技术实施例的具有自适应性的抛光头，环形凸缘的外周面与凹槽的内周壁线接触，这样，在抛光头旋转时，一方面可防止枢轴组件发生径向方向的移动，以保证抛光头的定心功能，而且环形凸缘可在凹槽内进行适应性摆动，从而可提高抛光头稳定性和自适应性，提高基片的平行度，进而改善基片的抛光特性。另外，根据本专利技术实施例的具有自适应性的抛光头还可以具有如下附加的技术特征：根据本专利技术的一些实施例，所述环形凸缘的外周面在所述盘体过所述中心轴线的横截面上的正投影为外轮廓线a，所述外轮廓线线a为弧形。根据本专利技术的一些实施例，所述环形凸缘的外周面在所述盘体过所述中心轴线的横截面上的正投影为外轮廓线a，所述外轮廓线线a包括至少一条弧形段和至少一条直线段。根据本专利技术的一些实施例，所述环形凸缘的外周面在所述盘体过所述中心轴线的横截面上的正投影为外轮廓线a，所述外轮廓线线a包括多条直线。根据本专利技术的一些实施例，所述环形凸缘的上方和所述环形凸缘的下方分别设有吸振环，所述环形凸缘与所述吸振环配合的一侧上设有通孔。根据本专利技术的一些实施例，所述盘体与所述轴体之间限定出内腔，所述内腔内设有若干肋板，所述肋板分别与所述轴体的外周壁和所述内腔的内周壁相连。可选地，所述肋板沿所述内腔的径向延伸，且若干肋板沿所述内腔的周向间隔开设置。可选地，所述具有自适应性的抛光头还包括：缓冲件，所述缓冲件设在所述夹片组件上且位于所述基体和所述夹片组件之间。可选地，所述缓冲件为缓冲柱，所述缓冲柱为多个，多个所述缓冲柱沿所述夹片组件的周向间隔开设置。本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明图1是根据本专利技术实施例的具有适应性抛光头的枢轴组件的结构示意图；图2是根据本专利技术一个实施例的具有适应性抛光头的枢轴组件的剖视意图；图3是图2中A的放大图；图4是根据本专利技术另一个实施例的具有适应性抛光头的枢轴组件的环形凸缘部分的结构示意图；图5是根据本专利技术实施例的具有自适应抛光头的盘体的通孔处的放大图；图6是根据本专利技术实施例的具有适应性抛光头的结构示意图；图7是图6中B部的放大图；图8是根据本专利技术实施例的化学机械抛光装置的结构示意图。附图标记：1000：化学机械抛光装置；100：具有自适应性的抛光头；10：枢轴组件；11：轴体；12：盘体；13：内腔；14：肋板；15：环形凸缘；16：通孔；20：夹片组件，21：凹槽；30：基体，31：轴孔，32：通气孔；40：弹性件，41：密封腔，42：压板，43：压盖；50：缓冲件，51：螺纹紧固件；60：盖体，61：盖体密封圈，62：安装腔；70：保持环，71：上吸振环，72：下吸振环；80：压环；200：抛光盘；210：抛光垫；300：基片。具体实施方式下面详细描述本专利技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本专利技术，而不能理解为对本专利技术的限制。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接或彼此可通讯；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。下面参考附图描述根据本专利技术实施例的具有自适应性的抛光头100。如图1-图7所示，根据本专利技术实施例的具有自适应性的抛光头100可以包括枢轴组件10和夹片组件20。具体地，枢轴组件10包括轴体11和盘体12，盘体12与轴体11相连且与轴体11同轴设置，盘体12的外周壁设有环形凸缘15，夹片组件20上设有适于与盘体12配合的凹槽21，盘体12配合在凹槽21内且环形凸缘15的外周面与凹槽21的内周壁接触。如图6和图8所示，枢轴组件10固定在夹片组件20上，待抛光的基片300可固定在夹片组件20上，枢轴组件10包括轴体11和盘体12，盘体12设在轴体11的下部且与轴体11同轴设置，盘体12与轴体11可一体成型。盘体12的外周壁上设有环形凸缘15，环形凸缘15可由盘体12的外周壁沿径向方向向外延伸形成，且环形凸缘15沿盘体12的周向延伸，夹片组件20上凹槽21，盘体12配合在凹槽21内且环形凸缘15适于与凹槽21接触配合，如图6所示，凹槽21的上部形成为阶梯状，凹槽21的内周壁上形成有阶梯部，环形凸缘15适于与阶梯部配合。其中，环形凸缘15的外周面与凹槽21内周壁线接触，换言之，盘体12配合在凹槽21内时，环形凸缘15的外周壁与夹片组件20线接触接触配合以防止枢轴组件10发生晃动，即通过环形凸缘15适于配合在凹槽21内且通过凹槽21的内周壁可对环形凸缘15进行限位，进而可对盘体12进行限位，防止枢轴组件10发生晃动。这样，在抛光头100的工作过程中，环形凸缘15位于凹槽21内，通过凹槽21可以对盘体12进行定位以限定盘体15水平方向(例如如图6所示的左右方向)发生平移，同时由于环形凸缘15与凹槽21的内周壁线接触，使得盘体12在上下方向可发生摆动时，环形凸缘15可在凹槽21内发生摆动，例如，盘体12与凹槽21同轴设置，在抛光头100工作时需要盘体12进行适应性摆动时，由于环形凸缘15与凹槽21线接触配合，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有自适应性的抛光头，包括枢轴组件、基体及夹片组件，所述枢轴组件由轴体及盘体组成，所述基体上设置有适于与所述轴体配合的轴孔，所述夹片组件上设置有适于与所述盘体配合的凹槽；所述枢轴组件上的轴体与基体上的轴孔配合设置，枢轴组件上的盘体设置在夹片组件上的凹槽内；其特征在于，所述盘体的外周壁设有环形凸缘，所述环形凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁线接触。

【技术特征摘要】
2017.08.11 CN 201710687742X;2017.08.11 CN 201721011.一种具有自适应性的抛光头，包括枢轴组件、基体及夹片组件，所述枢轴组件由轴体及盘体组成，所述基体上设置有适于与所述轴体配合的轴孔，所述夹片组件上设置有适于与所述盘体配合的凹槽；所述枢轴组件上的轴体与基体上的轴孔配合设置，枢轴组件上的盘体设置在夹片组件上的凹槽内；其特征在于，所述盘体的外周壁设有环形凸缘，所述环形凸缘的外周面与所述凹槽的内周壁线接触。2.根据权利要求1所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述环形凸缘的外周面在所述盘体过所述中心轴线的横截面上的正投影为外轮廓线a，所述外轮廓线a为弧形。3.根据权利要求所述的具有自适应性的抛光头，其特征在于，所述环形凸缘的外周面在所述盘体过所述中心轴线的横截面上的正投影为外轮廓线a，所述外轮廓线线a包括至少一条弧形段和至少一条直线段。...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵德文，路新春，陈祥玉，
申请(专利权)人：清华大学，天津华海清科机电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11