【技术实现步骤摘要】
本申请涉及x射线多特性成像领域,尤其涉及高深宽比x射线光栅的制造方法及高深宽比x射线光栅。
技术介绍
1、如下面列出的参考文献1、2所述,随着微纳加工技术的发展,利用微纳光栅进行成像的同时获得吸收、折射与小角散射的x射线多特性成像技术(x-ray multi-characteristic imaging,xmci)成为国际上x射线成像技术研究的前沿,在医学成像(例如参考文献3所述的乳腺癌诊断、参考文献4所述的肺部疾病筛查)和参考文献5所述的安全检查等领域具有重要的应用。传统x射线成像技术只利用了x射线的穿过物体的衰减信息,从而无法检测低密度的物体,存在一定的局限性。以微纳光栅为基础的x射线多特性成像方法则可以同时探测衰减导致的吸收、折射导致的相位移动以及小角散射产生的暗场三种信息。其中相位信息与暗场信息可以作为吸收信息的补充,揭示物体不同特性下的成像情况,因此称为x射线多特性成像。
2、目前最主流的x射线多特性成像技术利用的是talbot-lau效应(也称为泰伯效应)。如图1所示,其原理是在传统x射线成像技术的基础上,引入三
...【技术保护点】
1.一种高深宽比X射线光栅的制造方法,所述光栅包括m个第一材料部(100)和n个第二材料部(200),-1≤m-n≤1,且m、n均为正整数,其特征在于,
2.根据权利要求1所述的高深宽比X射线光栅的制造方法,其特征在于,所述层叠包括热压层叠,所述热压层叠包括:将所述第一材料部(100)、所述第二材料部(200)交替放置并在设定温度和设定压力下压缩成型所述光栅。
3.根据权利要求1所述的高深宽比X射线光栅的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括:
4.根据权利要求1所述的高深宽比X射线光栅的制造方法,其特征在于,所述层叠包括热压层叠,
...【技术特征摘要】
1.一种高深宽比x射线光栅的制造方法,所述光栅包括m个第一材料部(100)和n个第二材料部(200),-1≤m-n≤1,且m、n均为正整数,其特征在于,
2.根据权利要求1所述的高深宽比x射线光栅的制造方法,其特征在于,所述层叠包括热压层叠,所述热压层叠包括:将所述第一材料部(100)、所述第二材料部(200)交替放置并在设定温度和设定压力下压缩成型所述光栅。
3.根据权利要求1所述的高深宽比x射线光栅的制造方法,其特征在于,所述制造方法包括:
4.根据权利要求1所述的高深宽比x射线光栅的制造方法,其特征在于,所述层叠包括热压层叠,所述热压层叠包括:
5.根据权利要求1所述的高深宽比x射线光栅的制造方法,其特征在于,所述层叠包括固定涂胶层叠,所述固定涂胶层叠包括:
6.根据权利要求5所述的高深宽比x射线光栅的制造方法,其特征在于,在所述光栅的高度方向(a)上,所述第一材料部(100)包括第一材料部第一区(110)、第一材料部第二区(120)和第一材料部第三区(130),
【专利技术属性】
技术研发人员:王振天,张丽,邓润涛,陈志强,邢宇翔,高河伟,李禹锋,
申请(专利权)人:清华大学,
类型:发明
国别省市:
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