一种新型电镀槽用循环搅拌装置制造方法及图纸

本新型涉一种新型电镀槽用循环搅拌装置，包括承载机架、驱动波轮、射流泵、导流管及循环腔，循环腔后端面通过转台机构与承载机架前端面连接，循环腔侧壁上均布至少四个导流口，驱动波轮嵌于循环腔内，射流泵一个通过转台机构安装在循环腔前端面上，另至少一个通过转台机构安装在承载机架内，导流管数量与导流口数量一致，且每个导流口均与一个导流管相互连通，导流管末端与循环腔侧壁铰接，所述的导流管轴线与循环腔侧壁呈0°—90°夹角。本新型结构简单，使用灵活方便，集成化程度高，搅拌作业效率高且运行成本低廉，有助于对电镀槽内电解液浓度和电流密度分布进行灵活调整，改善及提高电镀作业的效率和质量。

A new type of circular stirring device for electroplating bath

A new type of circular stirring device for electroplating bath includes a loader frame, a driving wave wheel, a jet pump, a diversion pipe and a circulation cavity. The rear end face of the circulation cavity is connected to the front end face of the bearing frame through a turntable mechanism, and at least four diversion ports are distributed on the side wall of the circulation cavity. The driving wave wheel is embedded in the circulating cavity and the jet pump is connected. The over turntable mechanism is installed on the front end face of the circulation cavity, and at least one is installed in the loader frame through the turntable mechanism. The number of the diversion pipe is the same as the number of the flow guide, and each diversion port is connected with a diversion pipe, the end of the diversion pipe is articulated with the side wall of the circulation cavity, and the axis of the diversion pipe is 0 to 90 of the side wall of the circulation cavity. Angle. It has the advantages of simple structure, flexible and convenient use, high integration degree, high mixing efficiency and low operating cost. It is helpful to adjust the distribution of electrolyte concentration and current density in electroplating bath, improve and improve the efficiency and quality of electroplating operation.

【技术实现步骤摘要】
一种新型电镀槽用循环搅拌装置
本技术涉及一种电镀槽结构，确切地说是一种新型电镀槽用循环搅拌装置。
技术介绍
目前电镀槽在进行电镀作业过程中，电镀槽内电解液的浓度分布对电镀作业时的导电效率、电流分布范围、电极运行性能及运动方向、运动速度等均有着极大的影响，但在实际中发现，电解液在运行过程中，若不施加外力驱动，则极易发生浓度分布不均等现象，从而导致电镀槽内的电流分布随之受到影响，一方面造成电镀作业效率低下，另一方面也导致工件表面电镀层厚度稳定性差，甚至出现局部未实现电镀而局部出现毛刺现象，严重影响了电镀作业顺利开展，为了解决这一问题，当前主要是在电镀槽内增加基于波轮结构的搅拌设备，实现对电镀槽内部的电解液进行搅拌，避免电解液因静置而发生密度分布不均现象，但在实际使用中发现，当前的搅拌设备虽然可以实现驱动电解液运动，但无法对电解液运动的方向进行约束，同时对电解液运动的速度缺乏有效的调整，从而导致电解液在运动时，不能根据电镀作业的需要，有针对性的引导电解液进行运动，从而造成较大的能量损耗，且对提高电镀作业工作效率和质量意义不大，不能有效满足实际使用的需要，因此针对这一问题，迫切需要开发一种新型的电镀槽搅拌装置，以满足实际使用的需要。
技术实现思路
针对现有技术上存在的不足，本技术提供一种新型电镀槽用循环搅拌装置，该新型结构简单，使用灵活方便，集成化程度高，搅拌作业效率高且运行成本低廉，可根据使用需要，对电镀槽内的电解液进行多种速度和方向搅拌作业的需要，从而实现根据电镀作业需要，对电解液的循环方向进行灵活调整的目的，有助于对电镀槽内电解液浓度和电流密度分布进行灵活调整，改善及提高电镀作业的效率和质量。为了实现上述目的，本技术是通过如下的技术方案来实现：一种新型电镀槽用循环搅拌装置，包括承载机架、驱动波轮、射流泵、导流管及循环腔，其中承载机架为框架结构，其后端面均布至少四个定位结构，循环腔为横截面呈矩形的密闭腔体结构，且后端面通过转台机构与承载机架前端面连接，循环腔轴线与承载机架前端面垂直分布，循环腔侧壁上均布至少四个导流口，各导流口均与循环腔轴线垂直分布，驱动波轮嵌于循环腔内，并与循环腔同轴分布，射流泵至少两个，其中至少一个通过转台机构安装在循环腔前端面上，另至少一个通过转台机构安装在承载机架内，且各射流泵轴线相互平行分布，并均与循环腔轴线垂直分布，导流管数量与导流口数量一致，且每个导流口均与一个导流管相互连通，导流管末端与循环腔侧壁铰接，所述的导流管轴线与循环腔侧壁呈0°—90°夹角。进一步的，所述承载机架与转台机构间通过升降驱动机构相互连接。进一步的，所述升降驱动机构为丝杠、液压缸及气压缸中的任意一种。进一步的，所述导流管包括导流板、调节伸缩杆、连接底座，所述的连接底座为闭合环状结构，安装在循环腔侧表面并与导流口同轴分布，所述的导流板至少四个，环绕导流口轴线均布，其末端与连接底座前端面铰接，并与循环腔侧表面呈0°—180°夹角，所述的导流板外表面通过调节伸缩杆前端面铰接，所述的调节伸缩杆末端与连接底座侧表面铰接。进一步的，所述的导流板长度至少与承载底座半径相同，且当各导流板与循环腔侧壁夹角为0°时，则各导流板将连接底座密封。进一步的，所述的导流板表面上均布若干导流槽，所述的导流槽深度为导流板厚度的1/4—1/2。进一步的，所述的导流板中，相邻的两导流板间通过弹性连接带相互连接。进一步的，所述的转台机构为二维转台及三维转台中的任意一种。进一步的，所述定位结构为螺栓、滑轨及连接扣中的任意一种。本新型结构简单，使用灵活方便，集成化程度高，搅拌作业效率高且运行成本低廉，可根据使用需要，对电镀槽内的电解液进行多种速度和方向搅拌作业的需要，从而实现根据电镀作业需要，对电解液的循环方向进行灵活调整的目的，有助于对电镀槽内电解液浓度和电流密度分布进行灵活调整，改善及提高电镀作业的效率和质量。附图说明下面结合附图和具体实施方式来详细说明本技术。图1为本技术结构示意图。具体实施方式为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。如图1所述的一种新型电镀槽用循环搅拌装置，包括承载机架1、驱动波轮2、射流泵3、导流管4及循环腔5，其中承载机架1为框架结构，其后端面均布至少四个定位结构6，循环腔5为横截面呈矩形的密闭腔体结构，且后端面通过转台机构7与承载机架1前端面连接，循环腔5轴线与承载机架1前端面垂直分布，循环腔5侧壁上均布至少四个导流口8，各导流口8均与循环腔5轴线垂直分布，驱动波轮2嵌于循环腔5内，并与循环腔5同轴分布，射流泵3至少两个，其中至少一个通过转台机构7安装在循环腔5前端面上，另至少一个通过转台机构7安装在承载机架1内，且各射流泵3轴线相互平行分布，并均与循环腔5轴线垂直分布，导流管4数量与导流口8数量一致，且每个导流口8均与一个导流管4相互连通，导流管4末端与循环腔5侧壁铰接，导流管4轴线与循环腔5侧壁呈0°—90°夹角。本实施例中，所述承载机架1与转台机构7间通过升降驱动机构9相互连接。本实施例中，所述升降驱动机构9为丝杠、液压缸及气压缸中的任意一种。本实施例中，所述导流管4包括导流板41、调节伸缩杆42、连接底座43，所述的连接底座43为闭合环状结构，安装在循环腔5侧表面并与导流口8同轴分布，所述的导流板41至少四个，环绕导流口8轴线均布，其末端与连接底座43前端面铰接，并与循环腔5侧表面呈0°—180°夹角，所述的导流板41外表面通过调节伸缩杆42前端面铰接，所述的调节伸缩杆42末端与连接底座43侧表面铰接。本实施例中，所述的导流板41长度至少与承载底座43半径相同，且当各导流板41与循环腔5侧壁夹角为0°时，则各导流板41将连接底座43密封。本实施例中，所述的导流板41表面上均布若干导流槽44，所述的导流槽44深度为导流板41厚度的1/4—1/2。本实施例中，所述的导流板41中，相邻的两导流板41间通过弹性连接带45相互连接。本实施例中，所述的转台机构7为二维转台及三维转台中的任意一种。本实施例中，所述定位结构6为螺栓、滑轨及连接扣中的任意一种。本新型在具体实施时，当需要对电解液进行搅拌作业时，可通过位于循环腔内不的驱动波轮和外部的射流泵中的任意一个，或两个同时运行实现对电解液搅拌作业的需要，其中在搅拌作业时，另可通过调整循环腔位置实现对搅拌方向进行调整的需要。其中射流泵运行时，直接将电解液从射流泵一端吸入后经过驱动高速定向从另一端输出，实现对电解液进行定向驱动，且在射流泵运行时，射流泵可在转台机构驱动下，在0°—360°范围内灵活调整驱动方向。在驱动波轮时，首先根据使用需要，调整循环腔上各导流口的位置，然后在根据使用需要，打开在驱动方向上的两个或多个导流口，然后使电解液从循环腔一侧的导流口流入导流腔内，在经过驱动波轮驱动增速后，从另一侧的导流口排出，在电解液流入和流出循环腔时，均通过导流管对电解液流向进行调整。本新型在具体实施时，电解液可分别经过每个搅拌机构进行独立搅拌作业，另一方面多个搅拌机构可配套接力进行搅拌作业，在多个搅拌机构可配套接力进行搅拌作业时，各搅拌机构的电解液输送搅拌方向均同轴分布，然后电解本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型电镀槽用循环搅拌装置，其特征在于，所述的新型电镀槽用循环搅拌装置包括承载机架、驱动波轮、射流泵、导流管及循环腔，其中所述的承载机架为框架结构，其后端面均布至少四个定位结构，所述的循环腔为横截面呈矩形的密闭腔体结构，且后端面通过转台机构与承载机架前端面连接，所述的循环腔轴线与承载机架前端面垂直分布，所述的循环腔侧壁上均布至少四个导流口，各导流口均与循环腔轴线垂直分布，所述的驱动波轮嵌于循环腔内，并与循环腔同轴分布，所述的射流泵至少两个，其中至少一个通过转台机构安装在循环腔前端面上，另至少一个通过转台机构安装在承载机架内，且各射流泵轴线相互平行分布，并均与循环腔轴线垂直分布，所述的导流管数量与导流口数量一致，且每个导流口均与一个导流管相互连通，所述的导流管末端与循环腔侧壁铰接，所述的导流管轴线与循环腔侧壁呈0°—90°夹角。

【技术特征摘要】
1.一种新型电镀槽用循环搅拌装置，其特征在于，所述的新型电镀槽用循环搅拌装置包括承载机架、驱动波轮、射流泵、导流管及循环腔，其中所述的承载机架为框架结构，其后端面均布至少四个定位结构，所述的循环腔为横截面呈矩形的密闭腔体结构，且后端面通过转台机构与承载机架前端面连接，所述的循环腔轴线与承载机架前端面垂直分布，所述的循环腔侧壁上均布至少四个导流口，各导流口均与循环腔轴线垂直分布，所述的驱动波轮嵌于循环腔内，并与循环腔同轴分布，所述的射流泵至少两个，其中至少一个通过转台机构安装在循环腔前端面上，另至少一个通过转台机构安装在承载机架内，且各射流泵轴线相互平行分布，并均与循环腔轴线垂直分布，所述的导流管数量与导流口数量一致，且每个导流口均与一个导流管相互连通，所述的导流管末端与循环腔侧壁铰接，所述的导流管轴线与循环腔侧壁呈0°—90°夹角。2.根据权利要求1所述的一种新型电镀槽用循环搅拌装置，其特征在于：所述承载机架与转台机构间通过升降驱动机构相互连接。3.根据权利要求2所述的一种新型电镀槽用循环搅拌装置，其特征在于：所述升降驱动机构为丝杠、液压缸及气压缸中的任意一种。4.根据权利要求1所述的一种新...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛志刚，姚远军，花恒武，
申请(专利权)人：孟州市锐鑫金属表面处理有限公司，
类型：新型
国别省市：河南,41