一种新型自循环搅拌式电镀槽结构制造技术

本新型涉一种新型自循环搅拌式电镀槽结构，包括电镀槽本体，电镀槽本体内均布若干搅拌机构，搅拌机构环绕电镀槽本体轴线均布，搅拌机构包括承载机架、驱动波轮、射流泵、导流管及循环腔，其中承载机架安装在电镀槽本体内壁上，循环腔与承载机架连接，循环腔侧壁上均布至少四个导流口，驱动波轮嵌于循环腔内，射流泵安装在循环腔前端面上，导流管与导流管相互连通，导流管末端与循环腔侧壁铰接。本新型结构简单，使用灵活方便，集成化程度高，搅拌作业效率高且运行成本低廉，有助于对电镀槽本体内电解液浓度和电流密度分布进行灵活调整，改善及提高电镀作业的效率和质量。

A new type of self circulating stirred plating bath structure

A new type of self circulating stirring electroplating bath structure is involved, including the body of electroplating bath. The plating bath has a number of stirring mechanisms in the body. The stirring mechanism is surrounded by the axis of the plating bath body. The stirring mechanism includes the bearing frame, the driving wheel, the jet pump, the flow guide tube and the circulation cavity. The bearing frame is installed in the plating bath. On the inner wall of the body, the circulation cavity is connected with the bearing frame, and at least four diversion ports are distributed on the side wall of the circulation cavity. The driving wave wheel is embedded in the circulation cavity. The jet pump is installed on the front end face of the circulation cavity. The diversion pipe is connected with the diversion pipe, and the end of the diversion pipe is articulated with the side wall of the circulation cavity. It has the advantages of simple structure, flexible and convenient use, high integration degree, high mixing efficiency and low operating cost. It is helpful to adjust the electrolyte concentration and current density distribution in the electroplating bath, improve and improve the efficiency and quality of electroplating operation.

【技术实现步骤摘要】
一种新型自循环搅拌式电镀槽结构
本技术涉及一种电镀槽本体结构，确切地说是一种新型自循环搅拌式电镀槽本体结构。
技术介绍
目前电镀槽本体在进行电镀作业过程中，电镀槽本体内电解液的浓度分布对电镀作业时的导电效率、电流分布范围、电极运行性能及运动方向、运动速度等均有着极大的影响，但在实际中发现，电解液在运行过程中，若不施加外力驱动，则极易发生浓度分布不均等现象，从而导致电镀槽本体内的电流分布随之受到影响，一方面造成电镀作业效率低下，另一方面也导致工件表面电镀层厚度稳定性差，甚至出现局部未实现电镀而局部出现毛刺现象，严重影响了电镀作业顺利开展，为了解决这一问题，当前主要是在电镀槽本体内增加基于波轮结构的搅拌设备，实现对电镀槽本体内部的电解液进行搅拌，避免电解液因静置而发生密度分布不均现象，但在实际使用中发现，当前的搅拌设备虽然可以实现驱动电解液运动，但无法对电解液运动的方向进行约束，同时对电解液运动的速度缺乏有效的调整，从而导致电解液在运动时，不能根据电镀作业的需要，有针对性的引导电解液进行运动，从而造成较大的能量损耗，且对提高电镀作业工作效率和质量意义不大，不能有效满足实际使用的需要，因此针对这一问题，迫切需要开发一种新型的电镀槽本体结构，以满足实际使用的需要。
技术实现思路
针对现有技术上存在的不足，本技术提供一种新型自循环搅拌式电镀槽本体结构，该新型结构简单，使用灵活方便，集成化程度高，搅拌作业效率高且运行成本低廉，可根据使用需要，对电镀槽本体内的电解液进行多种速度和方向搅拌作业的需要，从而实现根据电镀作业需要，对电解液的循环方向进行灵活调整的目的，有助于对电镀槽本体内电解液浓度和电流密度分布进行灵活调整，改善及提高电镀作业的效率和质量。为了实现上述目的，本技术是通过如下的技术方案来实现：一种新型自循环搅拌式电镀槽结构，包括电镀槽本体，电镀槽本体内均布若干搅拌机构，搅拌机构环绕电镀槽本体轴线均布，搅拌机构包括承载机架、驱动波轮、射流泵、导流管及循环腔，其中所述的承载机架为框架结构，安装在电镀槽本体内壁上，循环腔为横截面呈矩形的密闭腔体结构，且后端面通过转台机构与承载机架前端面连接，循环腔轴线与其所在电镀槽本体内壁垂直分布，循环腔侧壁上均布至少四个导流口，各导流口均与循环腔轴线垂直分布，驱动波轮嵌于循环腔内，并与循环腔同轴分布，射流泵至少两个，通过转台机构安装在循环腔前端面上，且各射流泵轴线相互平行分布，并均与循环腔轴线垂直分布，导流管数量与导流口数量一致，且每个导流口均与一个导流管相互连通，导流管末端与循环腔侧壁铰接，导流管轴线与循环腔侧壁呈0°—90°夹角。进一步的，所述导流管包括导流板、调节伸缩杆、连接底座，所述的连接底座为闭合环状结构，安装在循环腔侧表面并与导流口同轴分布，所述的导流板至少四个，环绕导流口轴线均布，其末端与连接底座前端面铰接，并与循环腔侧表面呈0°—180°夹角，所述的导流板外表面通过调节伸缩杆前端面铰接，所述的调节伸缩杆末端与连接底座侧表面铰接。进一步的，所述的导流板长度至少与承载底座半径相同，且当各导流板与循环腔侧壁夹角为0°时，则各导流板将连接底座密封。进一步的，所述的导流板表面上均布若干导流槽，所述的导流槽深度为导流板厚度的1/4—1/2。进一步的，所述的导流板中，相邻的两导流板间通过弹性连接带相互连接。进一步的，所述的转台机构为二维转台及三维转台中的任意一种。进一步的，所述承载机架内设升降驱动机构，并通过升降驱动机构与循环腔相互连接。本新型结构简单，使用灵活方便，集成化程度高，搅拌作业效率高且运行成本低廉，可根据使用需要，对电镀槽本体内的电解液进行多种速度和方向搅拌作业的需要，从而实现根据电镀作业需要，对电解液的循环方向进行灵活调整的目的，有助于对电镀槽本体内电解液浓度和电流密度分布进行灵活调整，改善及提高电镀作业的效率和质量。附图说明下面结合附图和具体实施方式来详细说明本技术。图1为本技术结构示意图；图2为搅拌机构结构示意图。具体实施方式为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。如图1所述的一种新型自循环搅拌式电镀槽结构，包括电镀槽本体1，电镀槽本体1内均布若干搅拌机构2，搅拌机构2环绕电镀槽本体1轴线均布，搅拌机构2包括承载机架21、驱动波轮22、射流泵23、导流管24及循环腔25，其中承载机架21为框架结构，安装在电镀槽本体1内壁上，循环腔25为横截面呈矩形的密闭腔体结构，且后端面通过转台机构3与承载机架21前端面连接，循环腔25轴线与其所在电镀槽本体1内壁垂直分布，循环腔25侧壁上均布至少四个导流口26，各导流口26均与循环腔25轴线垂直分布，驱动波轮22嵌于循环腔25内，并与循环腔25同轴分布，射流泵23至少两个，通过转台机构3安装在循环腔25前端面上，且各射流泵23轴线相互平行分布，并均与循环腔25轴线垂直分布，导流管24数量与导流口26数量一致，且每个导流口26均与一个导流管24相互连通，导流管24末端与循环腔25侧壁铰接，导流管24轴线与循环腔25侧壁呈0°—90°夹角。本实施例中，所述导流管24包括导流板241、调节伸缩杆242、连接底座243，所述的连接底座243为闭合环状结构，安装在循环腔25侧表面并与导流口26同轴分布，所述的导流板241至少四个，环绕导流口26轴线均布，其末端与连接底座243前端面铰接，并与循环腔25侧表面呈0°—180°夹角，所述的导流板241外表面通过调节伸缩杆242前端面铰接，所述的调节伸缩杆242末端与连接底座243侧表面铰接。本实施例中，所述的导流板241长度至少与承载底座243半径相同，且当各导流板241与循环腔25侧壁夹角为0°时，则各导流板241将连接底座243密封。本实施例中，所述的导流板241表面上均布若干导流槽244，所述的导流槽244深度为导流板241厚度的1/4—1/2。本实施例中，所述的导流板241中，相邻的两导流板241间通过弹性连接带4相互连接。本实施例中，所述的转台机构3为二维转台及三维转台中的任意一种。本实施例中，所述承载机架21内设升降驱动机构5，并通过升降驱动机构5与循环腔25相互连接。本新型在具体实施时，当需要对电解液进行搅拌作业时，可通过位于循环腔内不的驱动波轮和外部的射流泵中的任意一个，或两个同时运行实现对电解液搅拌作业的需要，其中在搅拌作业时，另可通过调整循环腔位置实现对搅拌方向进行调整的需要。其中射流泵运行时，直接将电解液从射流泵一端吸入后经过驱动高速定向从另一端输出，实现对电解液进行定向驱动，且在射流泵运行时，射流泵可在转台机构驱动下，在0°—360°范围内灵活调整驱动方向。在驱动波轮时，首先根据使用需要，调整循环腔上各导流口的位置，然后在根据使用需要，打开在驱动方向上的两个或多个导流口，然后使电解液从循环腔一侧的导流口流入导流腔内，在经过驱动波轮驱动增速后，从另一侧的导流口排出，在电解液流入和流出循环腔时，均通过导流管对电解液流向进行调整。本新型在具体实施时，电解液可分别经过每个搅拌机构进行独立搅拌作业，另一方面多个搅拌机构可配套接力进行搅拌作业，在多个搅拌机构可配套接力进行搅拌本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型自循环搅拌式电镀槽结构，包括电镀槽本体，其特征在于：所述的电镀槽本体内均布若干搅拌机构，所述的搅拌机构环绕电镀槽本体轴线均布，所述的搅拌机构包括承载机架、驱动波轮、射流泵、导流管及循环腔，其中所述的承载机架为框架结构，安装在电镀槽本体内壁上，所述的循环腔为横截面呈矩形的密闭腔体结构，且后端面通过转台机构与承载机架前端面连接，所述的循环腔轴线与其所在电镀槽本体内壁垂直分布，所述的循环腔侧壁上均布至少四个导流口，各导流口均与循环腔轴线垂直分布，所述的驱动波轮嵌于循环腔内，并与循环腔同轴分布，所述的射流泵至少两个，通过转台机构安装在循环腔前端面上，且各射流泵轴线相互平行分布，并均与循环腔轴线垂直分布，所述的导流管数量与导流口数量一致，且每个导流口均与一个导流管相互连通，所述的导流管末端与循环腔侧壁铰接，所述的导流管轴线与循环腔侧壁呈0°—90°夹角。

【技术特征摘要】
1.一种新型自循环搅拌式电镀槽结构，包括电镀槽本体，其特征在于：所述的电镀槽本体内均布若干搅拌机构，所述的搅拌机构环绕电镀槽本体轴线均布，所述的搅拌机构包括承载机架、驱动波轮、射流泵、导流管及循环腔，其中所述的承载机架为框架结构，安装在电镀槽本体内壁上，所述的循环腔为横截面呈矩形的密闭腔体结构，且后端面通过转台机构与承载机架前端面连接，所述的循环腔轴线与其所在电镀槽本体内壁垂直分布，所述的循环腔侧壁上均布至少四个导流口，各导流口均与循环腔轴线垂直分布，所述的驱动波轮嵌于循环腔内，并与循环腔同轴分布，所述的射流泵至少两个，通过转台机构安装在循环腔前端面上，且各射流泵轴线相互平行分布，并均与循环腔轴线垂直分布，所述的导流管数量与导流口数量一致，且每个导流口均与一个导流管相互连通，所述的导流管末端与循环腔侧壁铰接，所述的导流管轴线与循环腔侧壁呈0°—90°夹角。2.根据权利要求1所述的一种新型自循环搅拌式电镀槽结构，其特征在于：所述导流管包括导流板、调节伸缩杆、连接底座，所述的连接底座为闭合环状结构，安装在循...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛志刚，姚远军，花恒武，
申请(专利权)人：孟州市锐鑫金属表面处理有限公司，
类型：新型
国别省市：河南,41