一种纳米压印组件制造技术

技术编号:17961881 阅读:69 留言:0更新日期:2018-05-16 06:21
本实用新型专利技术提供了一种纳米压印组件,包括上模组(1)、基板(2)及下底板(3),上模组连接有真空发生装置,上模组表面设置有用于吸附固定住压印模片的吸气孔(11),基板用于定位放置待压印产品(4),基板设置在下底板上,上模组可相对下底板转动,从而使上模组上的压印模片可与基板上的待压印产品贴合而实现压印。本实用新型专利技术的纳米压印组件可以大大提高纳米压印工作效率,方便整个工艺实现全程流水线生产,并消除纳米压印过程中人工影响因素,提高生产良率,保证整个生产工艺的稳定性。

A kind of nano imprint component

The utility model provides a nano imprint component, including an upper module (1), a substrate (2) and a lower floor (3). The upper module is connected with a vacuum generating device. The upper module surface is provided with a suction hole (11) for the adsorption and fixation of the embossing die sheet. The substrate is used for positioning and placing the impress product (4). The substrate is set on the bottom plate and the upper module is set. The die can be rotated relative to the bottom plate, so that the stamping die on the upper module can be bonded with the pressing product printed on the substrate to achieve the stamping. The nanoscale imprint module of the utility model can greatly improve the working efficiency of nanoscale imprinting, convenient for the whole process to produce the whole process line, and eliminate the artificial influence factors in the process of nanoscale imprinting, improve the production rate, and ensure the stability of the whole production process.

【技术实现步骤摘要】
一种纳米压印组件
本技术涉及纳米压印设备,特别的,涉及一种纳米压印组件。
技术介绍
目前,纳米压印技术均采用手动将压印模片盖到滴有光固化胶的产品上、再手动将压板盖在压印模片上面的压印方式,采用该工艺有较大的局限性,其一:采用手工操作很难保证压印模片及压板位置的准确性,从而较难保证压印后的产品性能的稳定性及生产良率;其二:手工操作生产效率低下,不具备量产性;其三,手动放置压印模片的方式,压印模片需要手工撕除,容易使压印模片产生脏污,压印无法再重复利用或可重复利用的次数较少,提高了成本。因此,现有技术中需要一种方案来解决上述问题。
技术实现思路
本技术目的在于提供一种纳米压印组件,以解决
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供了一种纳米压印组件,包括上模组1与下模组,所述上模组连接有真空发生装置,上模组表面设置有若干用于吸附固定住压印模片的吸气孔11,所述下模组用于定位放置待压印产品4,所述上模组可相对下模组转动,上模组在转动至贴近下模组的过程中,上模组上的压印模片可与下模组上的待压印产品贴合,从而将压印模片上的图形转印至待压印产品上,所述上模组对应待压印产品的待压印图案位置设置有透光孔本文档来自技高网...
一种纳米压印组件

【技术保护点】
一种纳米压印组件,其特征在于,包括上模组(1)与下模组,所述上模组连接有真空发生装置,上模组表面设置有若干用于吸附固定住压印模片的吸气孔(11),所述下模组用于定位放置待压印产品(4),所述上模组可相对下模组转动,上模组在转动至贴近下模组的过程中,上模组上的压印模片可与下模组上的待压印产品贴合,从而将压印模片上的图形转印至待压印产品上,所述上模组对应待压印产品的待压印图案位置设置有透光孔(12)。

【技术特征摘要】
1.一种纳米压印组件,其特征在于,包括上模组(1)与下模组,所述上模组连接有真空发生装置,上模组表面设置有若干用于吸附固定住压印模片的吸气孔(11),所述下模组用于定位放置待压印产品(4),所述上模组可相对下模组转动,上模组在转动至贴近下模组的过程中,上模组上的压印模片可与下模组上的待压印产品贴合,从而将压印模片上的图形转印至待压印产品上,所述上模组对应待压印产品的待压印图案位置设置有透光孔(12)。2.根据权利要求1所述的一种纳米压印组件,其特征在于,所述下模组包括基板(2)与下底板(3),所述基板用于放置待压印产品,基板设置在下底板上,所述上模组可相对下底板转动,上模组在转动至贴近下模组的基板的过程中,上模组上的压印模片可与基板上的待压印产品贴合。3.根据权利要求2所述的一种纳米压印组件,其特征在于,所述基板上设置有用于定位待压印产品的定位销一(21),定位销一可与待压印产品上预贴的定位膜上的定位孔一栓接匹配。4.根据权利要求2所述的一种纳米压印组件,其特征在于,所述下底板于基板的外围设置有弹性缓冲部件(5),弹性缓冲部件的弹力方向沿上模组与基板之间的压合方向设置。5.根据权利要求4所述的一种纳米压印组件,其特征在于,所述弹性缓冲部件采用弹簧或海绵缓冲垫。6.根据权利要求2~5中任意一项所述的一种纳米压印组件,其特征在于,所述上模组包括盖板(14)与带内腔的上压板(13),所述盖板材质为玻璃,盖板上除透光孔以外...

【专利技术属性】
技术研发人员:饶桥兵王有明
申请(专利权)人:蓝思科技长沙有限公司
类型:新型
国别省市:湖南,43

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