This paper describes a system for placing bare pieces on a substrate using a rotating turntable carrying a bare sheet placement system to supply a bare sheet placement head required to place a variety of bare pieces on a substrate, in which a plurality of bare pieces are placed to the force pole to allow a variety of bare pieces to be placed quickly and effectively on a single substrate.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有转台的裸片放置头相关申请案本申请案主张2015年8月20日申请的第62/207,417号美国临时申请案的权益。本申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。
本专利技术涉及裸片放置,且更特定来说涉及并入用于裸片放置、附接及接合操作(例如分别在环氧树脂上进行裸片放置、共晶附接及倒装芯片接合)的工具承载转台的裸片放置头。
技术介绍
集成电路(IC)的制造通常涉及使用复杂的光刻工艺来形成半导体晶片中的微观固态装置及电路。这些光刻工艺通常包含在晶片上形成材料层,图案化所述层,掺杂衬底及/或经图案化的层以及对所得结构进行热处理(例如,退火)。然后重复这些过程来建立IC结构。结果是含有大量IC的晶片。在晶片形成之后,接着通常将经历分类过程。分类涉及对晶片上的每一IC芯片进行功能性电测试。在分类之后,晶片被分离成个别IC芯片,然后被个别地或成组地封装以便并入到例如印刷电路板(PCB)的衬底上。在所述过程的此阶段,个别IC通常被称为裸片。然后必须将这些裸片放置并固定到衬底上的特定位置,使得裸片与其设计为待相互作用的其它组件电子地及/或光学地连接。负责将裸片放置在衬底上的机器被称为 ...
【技术保护点】
一种用于将裸片放置在衬底上的系统,其包括:框架;壳体,其固定在所述框架,所述壳体包括引导通道,所述引导通道包围施力杆,所述施力杆从所述壳体的远端延伸,所述施力杆经配置用于相对于所述壳体进行线性运动并施加线性力,测量装置经配置以测量所述施力杆的所述线性运动,所述施力杆进一步包括在其远端处的裸片放置头固持孔;转台,其可旋转地固定到所述框架,所述转台包括旋转测量装置及大体上邻近其周边定位的多个裸片放置头固持部分,其中每一裸片放置头固持部分包括两个同心孔,第一孔及第二孔,所述第一孔邻近所述壳体的所述远端而定位,并且完全延伸穿过所述转台,所述第二孔定位在所述转台的与所述第一孔相对的侧 ...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.08.20 US 62/207,4171.一种用于将裸片放置在衬底上的系统,其包括:框架;壳体,其固定在所述框架,所述壳体包括引导通道,所述引导通道包围施力杆,所述施力杆从所述壳体的远端延伸,所述施力杆经配置用于相对于所述壳体进行线性运动并施加线性力,测量装置经配置以测量所述施力杆的所述线性运动,所述施力杆进一步包括在其远端处的裸片放置头固持孔;转台,其可旋转地固定到所述框架,所述转台包括旋转测量装置及大体上邻近其周边定位的多个裸片放置头固持部分,其中每一裸片放置头固持部分包括两个同心孔,第一孔及第二孔,所述第一孔邻近所述壳体的所述远端而定位,并且完全延伸穿过所述转台,所述第二孔定位在所述转台的与所述第一孔相对的侧上并与其同心,其中所述第一孔的大小仅略大于所述施力杆的大小,并且所述第二孔仅部分地延伸到所述转台中,并且其中,在旋转时,所述多个裸片放置头固持孔中的每一者可与所述施力杆对准;及电动机,其固定到所述框架,并且经配置以在启动时旋转所述转台。2.根据权利要求1所述的系统,其进一步包括至少一个裸片放置头,所述至少一个裸片放置头具有近端,所述近端经配置以在裸片放置操作中使用期间被固持在所述施力杆的所述裸片放置头固持孔中;中央区,其经配置以在所述施力杆在所述转台上缩回时可移除地保持在所述转台的所述第二孔中;及远端,其包含裸片固持及保持部分。3.根据权利要求1所述的系统,其中所述转台的所述多个裸片放置头固持部分经配置成多个同心行。4.根据权利要求1所述的系统,其中所述施力杆的所述裸片放置头固持孔进一步包括磁体,所述磁体经配置以保持插入其中的裸片放置头。5.根据权利要求4所述的系统,其中所述磁体是永磁体。6.根据权利要求4所述的系统,其中所述磁体是电磁体。7.根据权利要求1所述的系统,其中所述转台进一步包括在其中的磁体,所述磁体经配置以将裸片放置头保持在其孔中。8.根据权利要求7所述的系统,其中所述磁体是永磁体。9.根据权利要求7所述的系统,其中所述磁体是电磁体。10.根据权利要求1所述的系统,其中所述施力杆的所述裸片放置头固持孔与可控真空源可操作地连通。11.根据权利要求10所述的系统,其进一步包括裸片放置头,所述裸片放置头经配置以允许贯穿其中抽取真空,借此通过使用此真空,待放置的裸片可被牢固地保持在所述裸片放置头中。12.根据权利要求1所述的系统,其中所述施力杆的位于所述壳体外部的一部分进一步包括突出部,其中所述突出部受限制而不能旋转,但在相对于线性运动的正常使用期间大体上不受限制。13.根据权利要求12所述的系统,其中所述突出部是中空的,借此允许贯穿其中吸取真空或迫使压力进入其中。14.根据权利要求1所述的系统,其中所述施力杆是空气活塞,所述引导通道是气缸,且所述引导通道与真空或压力源连通,其中将真空或压力引入所述引导通道导致所述施力杆进行线性移动或施力。15.根据权利要求14所述的系统,其中所述引导通道进一步包括弹簧,其经配置以偏压所述施力杆的线性移动。16.根据权利要求14所述的系统,其中所述施力杆为多边形形状,且所述引导通道为对应多边形形状,借此所述多边形形状为所述施力杆的旋转提供阻力。17.根据权利要求1所述的系统,其进一步包括至少一个音圈,所述至少一个音圈至少部分地环绕所述施力杆,其中所述至少一个音圈经配置以引起所述施力杆的线性移动或所述施力杆的线性力施加。18.根据权利要求1所述的系统,其中所述电动机经由皮带及皮带轮驱动系统产生所述转台的旋转移动。19.根据权利要求18所述的系统,其中所述皮带是同步皮带,且所述皮带轮是同步皮带轮。20.根据权利要求1所述的系统,其进一步包括霍尔效应传感器,其中所述霍尔效应传感器经配置以测量所述施力杆的位置。21.根据权利要求1所述的系统,其中所述裸片放置头固持孔是锥形的,其具有邻近所述施力杆的所述远端的较大开口,并且距离所述施力杆的所述远端越远,就变得相对越窄。22.根据权利要求21所述的系统,其中所述锥形裸片放置头固持孔是圆锥形的。23.根据权利要求21所述的系统,其进一步包括至少一个裸片放置头,所述至少一个裸片放置头具有近端,所述近端经配置以在裸片放置操作中使用期间被固持在所述施力杆的所述锥形裸片放置头固持孔中;中央区,其经配置以在所述施力杆在所述转台上缩回时可移除地保持在所述转台的所述第二孔中;及远端,其包含裸片固持及保持部分。24.根据权利要求1所述的系统,其中固持在所述施力杆及所述壳体引导通道的端部之间的真空或压力被用作空气弹簧。25.一种用于将裸片放置在衬底上的系统,其包括:框架;壳体,其固定在所述框架,所述壳体包括引导通...
【专利技术属性】
技术研发人员:N·S·小西莉亚,
申请(专利权)人:磁共振谱成像系统有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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