The invention relates to a thermally melted organosilicon composition of active energy ray, which is unfluidity at 25 centigrade and has a viscosity of 1000Pa s or less than 1000Pa s at 100 C, and the composition includes: (A) organosiloxane with an organic group of the aliphatic unsaturated bonds and having or not having an aliphatic group. An organic group of organic groups of unsaturated bonds, a mixture of organic polysiloxanes (B) with at least two sulfhydryl groups in the molecule, and (C) light radical initiator.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】活性能量射线可固化的热熔融有机硅组合物、该组合物的固化产物和制备膜的方法
本专利技术涉及活性能量射线可固化的热熔融有机硅组合物、该组合物的固化产物和制备由该固化产物形成的膜的方法。
技术介绍
由于这些可热固化、可水固化或活性能量射线可固化的有机硅组合物固化形成具有优异的耐热性、耐寒性、电绝缘性、耐气候性、防水性和透明性的固化产物,所以可广泛用于工业领域。具体地,与其它有机材料相比,其固化产物难以掉色,并且固化产物很少引起物理特性劣化。因此,固化产物适合作为光学材料。近年来,透明材料已被用于图像显示装置、太阳能电池模块、触摸屏等。例如,在图像显示装置中,已经提出在布置在图像显示部分和保护部分之间的中间层中使用诸如丙烯酸类树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂和有机硅树脂的透明树脂以防止由于在图像显示部分和保护部分之间引起的光反射而引起的不均匀显示和亮度降低(参见专利文献1)。作为此类有机硅树脂,例如提出了具有压敏粘合剂的液态或膜状的可固化有机硅组合物(参照专利文献2和3)。具有压敏粘合剂的膜通过用液态可固化有机硅组合物涂覆然后固化来制备;然而,存在难以生产厚膜并且难以生产具有均匀厚度的膜的问题。引用列表专利文献专利文献1:日本未经审查的专利申请公布No.2003-029644A专利文献2:日本未经审查的专利申请公布No.2006-290960A专利文献3:日本未经审查的专利申请公布No.2013-253179A
技术实现思路
技术问题本专利技术的一个目的是提供活性能量射线可固化的热熔融有机硅组合物,该组合物在室温下不可流动、通过加热熔融、可形成所需形状并且通过活性能量射线如 ...
【技术保护点】
一种活性能量射线可固化的热熔融有机硅组合物,其在25℃下不可流动并且在100℃下具有1,000Pa·s或小于1,000Pa·s的粘度,并且所述组合物包含:(A)100质量份的含有10至50质量%的下述组分(A‑1)和50至90质量%的下述组分(A‑2)的有机聚硅氧烷混合物:(A‑1)由以下平均单元式表示的有机聚硅氧烷:(R
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.10.19 JP 2015-2059451.一种活性能量射线可固化的热熔融有机硅组合物,其在25℃下不可流动并且在100℃下具有1,000Pa·s或小于1,000Pa·s的粘度,并且所述组合物包含:(A)100质量份的含有10至50质量%的下述组分(A-1)和50至90质量%的下述组分(A-2)的有机聚硅氧烷混合物:(A-1)由以下平均单元式表示的有机聚硅氧烷:(R13SiO1/2)a(R12SiO2/2)b(R1SiO3/2)c(SiO4/2)d其中,每个R1为甲基基团、苯基基团或具有脂族不饱和键的有机基团,所有R1的0.01至1mol%为有机基团,并且其它R1的90mol%或大于90mol%为甲基基团,a为0至0.05的数,b为0.9至1的数,c为0至0.03的数,d为0至0.03的数,并且a至d的总和为1,(A-2)由以下平均单元式表示的有机聚硅氧烷:(R23SiO1/2)e(R22SiO2/2)f(R2SiO3/2)g(SiO4/2)h(HO1/2)i其中,每个R2为甲基基团、苯基基团或具有脂族不饱和键的有机基团,所有R2的0至10mol%为有机基团,其它R2的90mol%或大于90mol%为甲基基团,e为0.3至0.7的数,f为0至0.05的数,g为0至0.05的数,h为0.3至0.7的数,i为0至0.05的数,并且e至h的总和为1;(B)在分子中具有至少两个巯基基团的化合物,其量为使得所述组分中巯基基团的量为在组分(A...
【专利技术属性】
技术研发人员:吉武诚,山崎春菜,道源凉太,吉田伸,
申请(专利权)人:道康宁东丽株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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