阻气膜、有机电子装置，有机电致发光装置用基板及有机电致发光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种阻气膜，其具有耐划伤性高且水分释放少的表面，并且在其表面设置功能层时的密合性也良好，本发明专利技术还提供一种有机电子元件不易劣化的有机电子装置，尤其是有机电致发光装置。阻气膜依次具有膜基材、无机层及与所述无机层直接接触并且设置在其表面上的保护层，所述保护层是通过固化包含具有碳环的(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸聚合物的组合物而得的层。有机电子装置、有机电致发光装置用基板及有机电致发光装置包括所述阻气膜。

Barrier film, organic electronic device, substrate for organic electroluminescent device and organic electroluminescent device

The invention provides an air resistance film, which has a surface with high scratch resistance and less water release, and good consistency when setting the functional layer on its surface. The invention also provides an organic electronic device which is not easily degraded by organic electronic components, especially organic electroluminescent installation. The film is in turn with a membrane substrate, an inorganic layer, and a protective layer on the surface of the inorganic layer, which is a layer obtained by curing a composition containing a (methyl) acrylate and (methyl) acrylic polymer containing a carbon ring. An organic electronic device, an organic electroluminescent device substrate and an organic electroluminescent device include the gas barrier film.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阻气膜、有机电子装置，有机电致发光装置用基板及有机电致发光装置
本专利技术涉及一种阻气膜。本专利技术还涉及一种使用阻气膜的有机电子装置、有机电致发光装置用基板及有机电致发光装置。
技术介绍
作为具有阻断水蒸气、氧气等的功能的阻气膜，从各种观点出发，作为具有高阻隔性的膜，开发了在作为基材的塑料膜上设置无机层的阻气膜。由于阻气膜重量轻并且具有耐冲击性，因此能够提供用作有机电子装置的基板或密封部件的柔性有机电子装置(例如，专利文献1及专利文献2)。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2005-251500号公报专利文献2：日本特开2009-172991号公报
技术实现思路
专利技术要解决的技术课题在专利文献1中记载的有机电子元件用基板中，以如下方式形成有机电子元件，以相对于有机电子元件侧而无机层成为最表面的方式设置阻气膜，并且无机层与有机电子元件中的电极层彼此相邻。通过这样的构成，能够将水分对有机电子元件的影响抑制得较低。然而，无机层易损坏，而将无机层作为最表面的阻气膜因损坏，其阻隔性有时下降。为了防止损坏，可以考虑设置保护层，但存在保护层所包含的水分导致有机电子元件劣化的问题。另外，在无机层的表面上形成保护层等有机层的情况下，通常在有机层中添加硅烷偶联剂来提高两者的密合性，但包含硅烷偶联剂的有机层容易含有水分，因此不优选将有机层用作有机电子装置的基板或密封部件。另一方面，专利文献2中公开了有机层的吸水率小于1.0％的阻气膜。然而，在专利文献2中，没有具体公开在阻气膜的最表面上形成有机层的内容。在专利文献2中记载的技术中，有机层的吸水率的调节是为了抑制因阻气膜的有机层的体积变化引起的无机层中的裂纹产生而进行的，在专利文献2中没有示出有机层用作保护层时的课题。在将有机层设置为最表面而用作有机电子装置的基板或密封部件的情况下，进一步调整高含水率等的情况下，需要研究有机层与设置于其表面的电极、粘结层等功能层之间的密合性，因此，在专利文献2中，没有公开在有机电子装置中使用将有机层设为最表面的阻气膜的构成。本专利技术的课题在于提供一种阻气膜，其具有耐划伤性高且水分释放少的表面，并且在其表面设置功能层时的密合性也良好。本专利技术的另一个课题在于提供一种有机电子元件不易劣化的有机电子装置，尤其是有机电致发光装置。用于解决技术课题的手段本专利技术人为了解决上述课题进行了深入研究，尤其对保护层的组成重复进行了研究而完成了本专利技术。即，本专利技术提供以下[1]至[16]。[1]一种阻气膜，依次具有：膜基材；无机层；及与上述无机层直接接触并且设置在其表面上的保护层，上述保护层是通过固化包含具有碳环的(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酸聚合物的组合物而得的层。[2]根据[1]所述的阻气膜，其中，上述(甲基)丙烯酸酯具有2个以上的(甲基)丙烯酰基。[3]根据[1]或[2]所述的阻气膜，其中，上述(甲基)丙烯酸酯具有芴环。[4]根据[1]～[3]中任一项所述的阻气膜，其中，上述(甲基)丙烯酸聚合物的重均分子量为20，000以上且600，000以下。[5]根据[1]～[4]中任一项所述的阻气膜，其中，上述(甲基)丙烯酸聚合物相对于上述组合物的固体成分总质量为5～40质量％。[6]根据[1]～[4]中任一项所述的阻气膜，其中，上述(甲基)丙烯酸聚合物相对于上述组合物的固体成分总质量为10～30质量％。[7]根据[1]～[6]中任一项所述的阻气膜，其中，上述组合物包含硅烷偶联剂。[8]根据[1]～[7]中任一项所述的阻气膜，其中，上述保护层的膜厚为0.1～2.0μm。[9]根据[1]～[8]中任一项所述的阻气膜，其中，上述无机层含有氧化氮化硅或氮化硅。[10]根据[1]～[9]中任一项所述的阻气膜，其中，在上述膜基材与上述无机层之间包括至少一层有机层。[11]根据[1]～[10]中任一项所述的阻气膜，其具有至少两层有机层及至少两层无机层，依次具有上述膜基材、有机层、无机层、有机层、无机层、上述保护层。[12]一种有机电子装置，其包括根据[1]至[11]中任一项所述的阻气膜。[13]一种有机电致发光装置用基板，其包括根据[1]～[11]中任一项所述的阻气膜以及与上述保护层直接接触的有机电致发光元件。[14]根据[13]所述的有机电致发光装置用基板，其中，上述有机电致发光元件依次具有阳极、发光层及阴极，上述阳极通过涂布形成。[15]一种有机电致发光装置，其包含根据[13]或[14]所述的有机电致发光装置用基板。[16]一种有机电致发光装置，其依次包括基板、设置在上述基板上的有机电致发光元件及根据[1]～[11]中任一项所述的阻气膜，上述有机电致发光元件侧的上述阻气膜的表面是上述保护层。专利技术效果根据本专利技术，提供一种阻气膜，其具有耐划伤性高且水分释放少的表面，并且在其表面设置功能层时的密合性也良好。能够提供一种使用本专利技术的阻气膜而有机电子元件不易劣化的有机电子元件用基板及有机电子装置。具体实施方式以下，对本专利技术的内容进行详细说明。另外，在本说明书中，“～”以包括将其前后记载的数值作为下限值及上限值的含义进行使用。本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”以“丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯的任一方或双方”的含义来使用。“(甲基)丙烯酸聚合物”、“(甲基)丙烯酰基”等也相同。<阻气膜>本专利技术的阻气膜依次包括膜基材、无机层及保护层。本专利技术的阻气膜可以包括其他层。例如，阻气膜优选还包含除保护层以外的有机层。本专利技术的阻气膜可以包含两层以上的无机层，也可以交替层叠两层以上的有机层和两层以上的无机层。作为阻气膜的层结构的优选例可举出以下。并且，以如下顺序层叠。膜基材、无机层、保护层；膜基材、有机层、无机层、保护层；膜基材、无机层、有机层、无机层、保护层；膜基材、有机层、无机层、有机层、无机层、保护层；膜基材、无机层、有机层、无机层、有机层、无机层、保护层。更优选具有至少两层有机层及至少两层无机层，依次具有膜基材、有机层、无机层、有机层、无机层及保护层。构成阻气膜的层数没有特别限定，但典型地优选3层～20层，更优选3～10层。本专利技术的阻气膜具有膜基材、有机层、无机层及保护层以外，还可以具有功能层。在日本特开2006-289627号公报的0036～0038段中详细记载了功能层。作为除这些以外的功能层的例子，可举出消光剂层、耐溶剂层、抗静电层、平滑化层、密合改善层、遮光层、防反射层、硬涂层、应力缓和层、防雾层、防污层及被印刷层等。阻气膜的膜厚优选为10μm～200μm，更优选为20μm～150μm。[膜基材]膜基材(以下也简称为“基材”)可以是塑料膜。所使用的塑料膜只要是能够保持包含在其上设置的无机层及保护层的层叠体的膜，则对材质、厚度等没有特别限制，并且能够根据使用目的等而适当选择。作为塑料膜，具体而言，可举出聚对苯二甲酸乙二酯(PET)等聚酯树脂、甲基丙烯酸树脂、甲基丙烯酸-马来酸共聚物、聚苯乙烯树脂、透明氟树脂、聚酰亚胺、氟化聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂、聚醚酰亚胺树脂、纤维素酰化物树脂、聚氨酯树脂、聚醚醚酮树脂、聚碳酸酯树脂、脂环式聚烯烃树脂、聚芳酯树脂、聚醚砜树脂、聚砜树脂、环烯烃共聚物、芴环改性聚碳酸酯树脂、脂环改性聚碳酸酯、芴环改性聚酯树脂及丙烯酰化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阻气膜，其依次具有：膜基材；无机层；及与所述无机层直接接触并且设置在其表面的保护层，所述保护层是通过固化包含具有碳环的(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酸聚合物的组合物而得的层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.10.09 JP 2015-2007961.一种阻气膜，其依次具有：膜基材；无机层；及与所述无机层直接接触并且设置在其表面的保护层，所述保护层是通过固化包含具有碳环的(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酸聚合物的组合物而得的层。2.如权利要求1所述的阻气膜，其中，所述(甲基)丙烯酸酯具有2个以上的(甲基)丙烯酰基。3.根据权利要求1或2所述的阻气膜，其中，所述(甲基)丙烯酸酯具有芴环。4.根据权利要求1至3中任一项所述的阻气膜，其中，所述(甲基)丙烯酸聚合物的重均分子量为20,000以上且600,000以下。5.根据权利要求1至4中任一项所述的阻气膜，其中，所述(甲基)丙烯酸聚合物相对于所述组合物的固体成分总质量为5～40质量％。6.根据权利要求1至4中任一项所述的阻气膜，其中，所述(甲基)丙烯酸聚合物相对于所述组合物的固体成分总质量为10～30质量％。7.根据权利要求1至6中任一项所述的阻气膜，其中，所述组合物包含硅烷偶联剂。8.根据权利要求1至7中任一项所述的阻气膜，其中，所述保护层的膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：中山亚矢，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP