一种不饱和烃气相硅氢加成工艺制造技术

本发明专利技术属于有机硅化工领域，涉及一种不饱和烃气相硅氢加成工艺，具有碳碳多键的烃类化合物（A）与具有硅氢活性键的聚硅氧烷化合物（B），进行硅氢加成反应，生成烷基硅烷化合物（C）；所述硅氢加成反应采用塞流式反应器进行反应，所述塞流式反应器为螺旋状结构。根据本发明专利技术得到的烷基硅烷类产品，残余硅氢含量小于100ppm，适用于润滑、脱模、防水等领域。

An unsaturated hydrocarbon gas phase hydrogenating process

The invention belongs to the field of organosilicon chemical industry, involving an unsaturated hydrocarbon gas phase siloxane addition process, with carbon carbon multiple bonds (A) and polysiloxane compound (B) with a silicon hydrogen active bond (C), and alkyl silane compound (C). The silicon hydrogen addition reaction uses a plug flow reaction. The plug flow reactor is a helical structure. The alkylsilane products obtained according to the invention contain less than 100ppm of residual hydrogen and silicon, and are suitable for lubrication, demoulding, water proofing and other fields.

【技术实现步骤摘要】
一种不饱和烃气相硅氢加成工艺
本专利技术属于有机硅化工领域，尤其涉及一种不饱和烃气相硅氢加成工艺。
技术介绍
烷基硅烷类产品是一种重要的化工产品，应用于润滑、脱模，具有很好的效果。常规的烷基硅烷类产品合成方法是含有不饱和碳碳键的烯烃、炔烃与含硅氢活性键的小分子硅烷进行硅氢加成反应。但是，存在着以下不足：反应物分散效果不好，分散不均匀；为了增加目标产率、抑制副反应、加快反应速率，反应过程压力高、温度高；反应不完全，反应结束后残留的硅氢活性键含量高，影响产品的质量。专利号为US8420844B2的美国专利公开了一种不饱和烃的气相硅氢加成工艺和装置，但是该工艺仍然存在着反应过程压力高、温度高的不足。
技术实现思路
本专利技术的目的之一是提供一种不饱和烃气相硅氢加成工艺，具有反应物分散效果好、分散均匀，反应过程压力低、温度低，反应完全、残留硅氢活性键含量低的优点。一种不饱和烃气相硅氢加成工艺，具有碳碳多键的烃类化合物（A）与具有硅氢活性键的聚硅氧烷化合物（B），进行硅氢加成反应，生成烷基硅烷化合物（C）；所述硅氢加成反应采用塞流式反应器进行反应，所述塞流式反应器为螺旋状结构。所述碳碳多键可以为碳本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种不饱和烃气相硅氢加成工艺，其特征在于，具有碳碳多键的烃类化合物（A）与具有硅氢活性键的聚硅氧烷化合物（B），进行硅氢加成反应，生成烷基硅烷化合物（C）；所述硅氢加成反应采用塞流式反应器进行反应，所述塞流式反应器为螺旋状结构。

【技术特征摘要】
1.一种不饱和烃气相硅氢加成工艺，其特征在于，具有碳碳多键的烃类化合物（A）与具有硅氢活性键的聚硅氧烷化合物（B），进行硅氢加成反应，生成烷基硅烷化合物（C）；所述硅氢加成反应采用塞流式反应器进行反应，所述塞流式反应器为螺旋状结构。2.根据权利要求1所述的不饱和烃气相硅氢加成工艺，其特征在于，所述化合物（A）为乙烯、丙烯、丁烯、异丁烯、乙炔之一。3.根据权利要求2所述的不饱和烃气相硅氢加成工艺，其特征在于，所述硅氢加成反应，塞流式反应器中控制温度范围为20摄氏度到80摄氏度。4.根据权利要求2所述的不饱和烃气相硅氢加成工艺，其特征在于，所述硅氢加成反应，塞流式反应器中控制压力范围为0.01MPa到0.2MPa。5.根据权利要求2所述的不饱和烃气相硅氢加成工艺，其特征在于，所述硅氢加成反应，在催化剂的条件下进行，催化剂为Speier催化剂、Kars...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖洪流，彭仼远，刘涛，
申请(专利权)人：江西海多化工有限公司，
类型：发明
国别省市：江西,36