The invention relates to a manufacturing method of hydrazine and hydrazine or substituted amino compounds, characterized by the subcritical and supercritical carbon dioxide or liquid state in the presence of carbon dioxide to ketone azine, or hydrazone Schiff base compounds by hydrolysis, ketone, and hydrazine hydrate or substituted hydrazine, or formic acid or hydrazine replace carbazic acid, or carbonyl compounds and amino compounds, or carbamate compounds or substituted amino acid.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】吖嗪键、腙键的切断方法
本专利技术涉及一种制造方法,其利用液体二氧化碳、超临界状态二氧化碳、亚临界状态二氧化碳进行吖嗪化合物的吖嗪键、腙化合物的腙键、席夫碱的甲亚胺键的切断,以低能量抑制副产物的生成且容易得到肼基甲酸(肼甲酸)、水合肼、取代肼、肼基甲酸衍生物、氨基甲酸衍生物、氨基化合物。
技术介绍
水合肼类被用于:除去锅炉水中溶解的氧以防止锅炉腐蚀的作用、树脂的发泡剂的原料、高分子聚合引发剂、气囊的气体发生剂的原料、多种药物、农药的原料、火箭燃料、人造卫星姿态控制用燃料、电子材料用的金属微粒的制造用途、电路基板的蚀刻试剂等很宽的范围,是重要的化合物。此外,取代肼、氨基甲酸衍生物和肼基甲酸衍生物作为药物、农药的合成原料和反应试剂是重要的化合物。[现有制法的说明]在此以水合肼和取代肼为中心进行说明。水合肼和取代肼的制造法是很久以前开发并工业化的技术。现在生产中使用的技术是该过去开发的旧技术,不存在新的有前景的技术。虽然也进行了局部的小的技术改进,但基本反应并未彻底改良。过去、现在所实施的制造方法基本为下述所示的方法。作为第1方法,有被称为脲法的方法。(非专利文献1)其为如下方法:用次氯酸钠等氯化剂(氧化剂)使脲形成氯化脲或取代氯化脲,通过霍夫曼重排生成氨基异氰酸酯,然后通过水解得到水合肼或取代肼(反应式1)。该制法的缺点在于,产物即水合肼或取代肼是还原性非常强的化合物,因此原料中的氧化剂-次氯酸钠共存于体系中时,生成的水合肼或取代肼会立即分解。因此向反应体系中添加胶等稳定剂,在水合肼的情况下,必需在4%以下的低浓度状态下停止反应并进行分离。对该4%以下的水合肼 ...
【技术保护点】
一种水合肼、取代肼或氨基化合物的制造方法,其特征在于,通过在亚临界、超临界或液体二氧化碳状态的二氧化碳存在下使酮吖嗪、腙或席夫碱化合物水解,得到酮、和水合肼或取代肼、或者肼基甲酸或取代肼基甲酸、或者羰基化合物和氨基化合物、或者氨基甲酸化合物或取代氨基甲酸。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种水合肼、取代肼或氨基化合物的制造方法,其特征在于,通过在亚临界、超临界或液体二氧化碳状态的二氧化碳存在下使酮吖嗪、腙或席夫碱化合物水解,得到酮、和水合肼或取代肼、或者肼基甲酸或取代肼基甲酸、或者羰基化合物和氨基化合物、或者氨基甲酸化合物或取代氨基甲酸。2.根据权利要求1所述的水合肼、取代肼或氨基化合物的制造方法,其为如下条件下的制造方法,所述条件为:将在所述二氧化碳的温度为60℃以下且-56.6℃以上、且所述二氧化碳的压力为0.52MPa以上形成亚临界二氧化碳、超临界二氧化碳、液体二氧化碳状态的温度、压力、填充系数组合而成的条件。3.根据权利要求1或2所述的水合肼、取代肼或氨基化合物的制造方法,其为如下条件下的制造方法,所述条件为:将在所述二氧化碳的温度为-30℃~40℃、且所述二氧化碳的压力为1.4MPa以上~7.38MPa以上形成亚临界、超临界、液体二氧化碳状态的温度、压力、填充系数组合而成的条件。4.根据权利要求1~3中任一项所述的水合肼、取代肼或氨基化合物的制造方法,其中,所述二氧化碳能够再利用。5.根据权利要求1~4中任一项所述的水合肼、取代肼或氨基化合物的制造方法,其中,进一步包括如下步骤:加热所述肼基甲酸或取代肼基甲酸而分解为水合肼或取代肼与二氧化碳。6.根据权利要求1~5中任一项所述的水合肼、取代肼或氨基化合物的制造方法,其中,所述酮吖嗪为化学式(1)所示的化合物:式中,R1~R4分别独立地为氢原子、烷基、烯基、炔基、环烷基、环烯基、芳香族环基或杂环基,在此,这些基团根据情况可被选自由烷基、烯基、炔基、卤素基团、烷氧基、氨基、硝基、巯基、芳氧基、芳香族环基和杂环基组成的组中的1个以上取代基取代,或者R1和R2与它们所键合的碳原子一起形成环结构,在此,该环结构基团根据情况可被作为取代基的选自由烷基、烯基、炔基、卤素基团、烷氧基、氨基、...
【专利技术属性】
技术研发人员:谷口正俊,
申请(专利权)人:三菱瓦斯化学株式会社,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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