一种便于提高电磁铁电镀性能的电镀槽残渣处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种便于提高电磁铁电镀性能的电镀槽残渣处理装置，包括槽体、槽体下部安装的支腿，其特征是：所述槽体的底面为锥底，在锥底的最低处开设有通孔，且该同通孔固定连接向下延伸的排泄管；所述排泄管的下端口安装着端盖，且端盖与排泄管为螺纹连接；所述锥底底部的通孔配置有塞子，塞子包括手柄以及安装在手柄下端的固定头，且固定头上安装着塞子头；所述固定头与塞子头连接处的边缘设置有密封圈。在电镀过程中，落进电镀液中的残渣就会顺着锥状底滑入排泄管，使残渣自动汇聚，人们只需通过堵住排泄管上端口，打开排泄管下端口，残渣就会排出来，保证了电镀液的纯度，提高磁铁的电镀效果。

An electroplating bath residue treatment device for improving electromagnet electroplating performance

The utility model relates to a bath device to improve processing performance of electroplating residue electromagnet, which comprises a tank body, the tank is arranged at the lower part of the leg, which is characterized in that the tank bottom is tapered, on the lower part of cone is provided with a through hole, and the through hole is fixedly connected with the downward extension of the the drain pipe; the drain pipe is installed under the port with the end cap, and the end cover and the drain pipe is in threaded connection; hole configuration of the cone bottom at the bottom of the plug, the plug comprises a handle and a fixed head is arranged on the lower end of the handle, and the fixed head mounted on the plug head; the fixing head and plug the first connection is arranged on the edge of the sealing ring. In the electroplating process, the residue will fall into the plating solution along the conical bottom slide into the discharge pipe, the residue of automatic aggregation, people only need to block the drain through port, open drain port, the residue will drain out, to ensure the purity of the plating solution and improve the magnet effect of plating.

【技术实现步骤摘要】
一种便于提高电磁铁电镀性能的电镀槽残渣处理装置
本技术涉及一种便于提高电磁铁电镀性能的电镀槽残渣处理装置，属于磁铁加工过程中的电镀设备领域。
技术介绍
磁铁是一种应用非常广泛的合成物，其成分包括若干稀有金属。根据产品用途需求，机械加工成不同的形状。由于其中一些组成材料化学性质比较活泼，极易被氧化，故其成品需要进行电镀涂覆加工。然而电镀涂覆的质量又与它的前处理和电镀液的质量密切相关。这种前处理工艺一般包括脱脂、去锈、活化等工序。如果这种前处理过程有一个环节处理得不干净，都会给最终的电镀产品带来潜伏性缺陷，致使电镀层出现起泡，剥落等问题产生。在点过程中，磁铁上残留的物质会随着滚筒的滚动而脱落，最终落进电镀槽内，这些物质存在于电镀液中，会被腐蚀，产生的一些离子污染镀液，同时还造成电镀液的成分和电镀工艺条件的改变。最终印象电镀效果。目前通常采用的方法是阶段性中断电镀作业、排空电镀槽中的电镀液，进行人工清理。这样，不仅严重影响电镀生产作业、降低生产效率，而且有毒镀液还严重损害操作工人的身体健康。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种便于提高电磁铁电镀性能的电镀槽残渣处理装置，以便解决现有磁铁电镀设备中存在的电镀液中残渣清理不方便，影响电镀效果的问题。一种便于提高电磁铁电镀性能的电镀槽残渣处理装置，包括槽体、槽体下部安装的支腿，其特征是：所述槽体的底面为锥底，在锥底的最低处开设有通孔，且该同通孔固定连接向下延伸的排泄管；所述排泄管的下端口安装着端盖，且端盖与排泄管为螺纹连接；所述锥底底部的通孔配置有塞子，塞子包括手柄以及安装在手柄下端的固定头，且固定头上安装着塞子头；所述固定头与塞子头连接处的边缘设置有密封圈。该电镀槽能够自动将电镀过程中掉落在电镀液中的残渣收集起来，并存储在排泄管内，省去人们手工收集残渣的过程，需要清理残渣时，用塞子堵住排泄管上端口，旋开端盖，即可将残渣清理出来，使用方便，且可以随时对电镀槽进行清理，以保证电镀液的纯度，提高磁铁的电镀效果。进一步，所述端盖的侧面固定有转动柄。由于端盖与排泄管采用螺纹连接，设置转动柄可以方便人们打开端盖。进一步，所述塞子头的侧面设置有排液槽。当将塞子头向排泄管插入时候，塞子头会受到排泄管内液体的阻力，设置排液槽，多余的液体就会顺着排液槽流出，使塞子头顺利堵塞排泄管上端口。本技术的有益效果在于：该装置将电镀槽的底部设置为锥状，并在锥状底的最低处设置排泄管，在电镀过程中，落进电镀液中的残渣就会顺着锥状底滑入排泄管，使残渣自动汇聚，人们只需通过堵住排泄管上端口，打开排泄管下端口，残渣就会排出来。该装置结构合理，设计巧妙，使用方便，方便人们随时处理残渣，提高磁铁的电镀效果。附图说明图1为本技术的整体结构示意图。图2为本技术的排泄孔被塞子堵塞时的半剖结构示意图。图3为本技术的塞子的结构示意图。图中，槽体1、支腿2、锥底3、排泄管4、端盖5、转动柄6、塞子7、手柄71、固定头72、塞子头73、密封圈74、排液槽75。具体实施方式以下为本技术的较佳实施方式，但并不因此而限定本技术的保护范围。如图所示，一种便于提高电磁铁电镀性能的电镀槽残渣处理装置，包括槽体1、槽体下部安装的支腿2，其特征是：所述槽体1的底面为锥底3，在锥底3的最低处开设有通孔，且该同通孔固定连接向下延伸的排泄管4；所述排泄管4的下端口安装着端盖5，且端盖5与排泄管4为螺纹连接。在端盖5的侧面固定有转动柄6，这可以方便人们旋开端盖5。所述锥底3底部的通孔配置有塞子7，塞子7包括手柄7以及安装在手柄7下端的固定头72，且固定头72上安装着塞子头73；所述固定头72与塞子头73连接处的边缘设置有密封圈74。当塞子头73插进排泄管4上端口时，密封圈74紧贴锥底，防止电镀液漏出去。该电镀槽能够自动将电镀过程中掉落在电镀液中的残渣收集起来，并存储在排泄管4内，省去人们手工收集残渣的过程，需要清理残渣时，用塞子堵住排泄管上端口，旋开端盖5，即可将残渣清理出来，使用方便，且可以随时对电镀槽进行清理，以保证电镀液的纯度，提高磁铁的电镀效果。进一步，所述塞子头73的侧面设置有排液槽75。当将塞子头73向排泄管4插入时候，塞子头73会受到排泄管4内液体的阻力，设置排液槽75，多余的液体就会顺着排液槽流出，使塞子头73顺利堵塞排泄管4上端口。本技术提供了一种便于提高电磁铁电镀性能的电镀槽残渣处理装置，该装置将电镀槽的底部设置为锥状，并在锥状底的最低处设置排泄管，在电镀过程中，落进电镀液中的残渣就会顺着锥状底滑入排泄管，使残渣自动汇聚，人们只需通过堵住排泄管上端口，打开排泄管下端口，残渣就会排出来。该装置结构合理，设计巧妙，使用方便，方便人们随时处理残渣，提高磁铁的电镀效果。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种便于提高电磁铁电镀性能的电镀槽残渣处理装置，包括槽体、槽体下部安装的支腿，其特征是：所述槽体的底面为锥底，在锥底的最低处开设有通孔，且该同通孔固定连接向下延伸的排泄管；所述排泄管的下端口安装着端盖，且端盖与排泄管为螺纹连接；所述锥底底部的通孔配置有塞子，塞子包括手柄以及安装在手柄下端的固定头，且固定头上安装着塞子头；所述固定头与塞子头连接处的边缘设置有密封圈。

【技术特征摘要】
1.一种便于提高电磁铁电镀性能的电镀槽残渣处理装置，包括槽体、槽体下部安装的支腿，其特征是：所述槽体的底面为锥底，在锥底的最低处开设有通孔，且该同通孔固定连接向下延伸的排泄管；所述排泄管的下端口安装着端盖，且端盖与排泄管为螺纹连接；所述锥底底部的通孔配置有塞子，塞子包括手柄以及安装在手柄下端的固定...

【专利技术属性】
技术研发人员：程慧华，肖涛，冒守栋，曾许多，
申请(专利权)人：杭州永磁集团有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33