一种负性光刻胶刻蚀装置制造方法及图纸

技术编号:17653745 阅读:36 留言:0更新日期:2018-04-08 07:35
本发明专利技术公开了一种负性光刻胶刻蚀装置,包括传送带、第一盛放箱、烘干箱、光刻箱和第二盛放箱,所述传送带上方左侧安装有所述烘干箱,所述烘干箱下方左右两边均与所述第二支座固定连接,所述烘干箱内安装有所述电加热箱,所述电加热箱两侧与所述温度传感器固定连接,所述电加热箱下方中心位置与所述出气口固定连接,所述烘干箱右侧安装有所述光刻箱,所述光刻箱内上方右侧与所述第一气缸固定连接,所述第一气缸内与所述第一气动活塞一端滑动连接,所述第一气动活塞另一端与所述第一挡块固定连接,所述第一气缸左侧设有曝光机,所述曝光机与所述光刻箱底部固定连接;本发明专利技术实现了负性光刻胶的刻蚀。

【技术实现步骤摘要】
一种负性光刻胶刻蚀装置
:本专利技术涉及刻蚀
,尤其涉及一种负性光刻胶刻蚀装置。
技术介绍
:目前,显示技术已被广泛应用于电视、手机以及公共信息的显示,用于显示画面的显示产品主要包括驱动显示面板显示画面的阵列基板和用于实现彩色显示的彩膜基板。而阵列基板和彩膜基板在制作过程中,由于基板上不同区域图形密集程度的不同,会影响刻蚀的离子消耗浓度不同,因此会发生刻蚀速率的不同而导致刻蚀均一性较差的问题。这是因为刻蚀过程中需要消耗离子,而图形密集区消耗的离子浓度大,非图形密集区消耗的离子浓度小,因此不同区域图形密集程度不同导致离子消耗程度不同,容易造成由于各区域离子浓度不均产生的刻蚀速率差异,进而导致基板刻蚀均一性较差。
技术实现思路
:本专利技术的目的在于提供一种负性光刻胶刻蚀装置。本专利技术由如下技术方案实施:一种负性光刻胶刻蚀装置,包括传送带、第一盛放箱、烘干箱、光刻箱和第二盛放箱,所述传送带上方左侧安装有所述烘干箱,所述烘干箱下方左右两边均与所述第二支座固定连接,所述烘干箱内安装有所述电加热箱,所述电加热箱两侧与所述温度传感器固定连接,所述电加热箱下方中心位置与所述出气口固定连接,所述烘干箱右侧安装有所述光刻箱,所述光刻箱内上方右侧与所述第一气缸固定连接,所述第一气缸内与所述第一气动活塞一端滑动连接,所述第一气动活塞另一端与所述第一挡块固定连接,所述第一气缸左侧设有曝光机,所述曝光机与所述光刻箱底部固定连接,所述光刻箱上方左侧与所述第二气缸固定连接,所述第二气缸与所述第二气动活塞一端滑动连接,所述第二气动活塞另一端与所述第二挡块固定连接,所述光刻箱上方右侧安装有所述曝光控制器。所述第一盛放箱下方与所述左侧支腿固定连接,所述第一盛放箱下方左侧设有滑块,所述滑块与所述连杆一端固定连接,所述连杆另一端与所述曲柄固定连接,所述曲柄与所述第二电机固定连接,所述第二电机下方与所述第一支座固定连接,所述第一支座下方与所述底板固定连接,所述底板一端与所述左侧支腿固定连接,所述第一盛放箱、滑块、连杆、曲柄和第二电机实现了光刻板的自动进料。进一步,所述传送带左侧与主动轮滑动连接,所述主动轮与所述小带轮固定连接,所述小带轮通过皮带与所述大带轮固定连接,所述大带轮与所述第一电机固定连接,所述第一电机与左侧支腿固定连接,所述传送带右端与所述从动轮滑动连接,所述从动轮与右侧支腿滑动连接,实现了光刻板的自动移动,保证了装置的连续运作。进一步,所述右侧支腿右边设有所述第二盛放箱,所述第二盛放箱内设有缓冲板,所述缓冲板下方与所述缓冲弹簧一端固定连接,所述缓冲弹簧另一端与所述第一盛料箱底部固定连接,缓冲板和弹簧保证了光学元件落到盛料箱内不会发生损坏。进一步,所述第一盛放箱上方设有进料口,保证了光刻板从第一盛放箱内自动排出。进一步,所述烘干箱上方安装有气泵,所述电加热箱内安装有电加热块,通过气泵、电加热箱和电加热块实现了对光刻板的烘干。本专利技术的优点:本专利技术实现了负性光刻胶的刻蚀;设置的滑块通过曲柄、连杆和第二电机的驱动实现了光刻板的连续不断的推出;通过电加热箱的设置实现了对光刻胶的加热;通过缓冲板和缓冲弹簧的设置防止了光刻板的摔坏。附图说明:为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术的结构示意图;图2是本专利技术图1的局部放大图。1传送带,2主动轮,3从动轮,4小带轮,5皮带,6大带轮,7第一电机,8进料口,9第一盛放箱,10曲柄,11连杆,12第二电机,13第一支座,14滑块,15底板,16烘干箱,17电加热箱,18电加热块,19出气口,20第二支座,21温度传感器,22气泵,23光刻箱,24第一气缸,25第一气动活塞,26第一挡块,27第二气缸,28第二气动活塞,29第二挡块,30曝光机,31第二盛放箱,32缓冲板,33缓冲弹簧,34支腿,35曝光控制器。具体实施方式:下面将结合本专利技术实施例中的附图,对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。一种负性光刻胶刻蚀装置,包括传送带1、第一盛放箱9、烘干箱16、光刻箱23和第二盛放箱31,所述传送带1上方左侧安装有所述烘干箱16,所述烘干箱16下方左右两边均与所述第二支座20固定连接,所述烘干箱16内安装有所述电加热箱17,所述电加热箱17两侧与所述温度传感器21固定连接,所述电加热箱17下方中心位置与所述出气口19固定连接,所述烘干箱16右侧安装有所述光刻箱23,所述光刻箱23内上方右侧与所述第一气缸24固定连接,所述第一气缸24内与所述第一气动活塞25一端滑动连接,所述第一气动活塞25另一端与所述第一挡块26固定连接,所述第一气缸24左侧设有曝光机30,所述曝光机30与所述光刻箱23底部固定连接,所述光刻箱23上方左侧与所述第二气缸27固定连接,所述第二气缸27与所述第二气动活塞28一端滑动连接,所述第二气动活塞28另一端与所述第二挡块29固定连接,所述光刻箱23上方右侧安装有所述曝光控制器35。所述第一盛放箱9下方与所述左侧支腿34固定连接,所述第一盛放箱9下方左侧设有滑块14,所述滑块14与所述连杆11一端固定连接,所述连杆11另一端与所述曲柄10固定连接,所述曲柄10与所述第二电机12固定连接,所述第二电机12下方与所述第一支座13固定连接,所述第一支座13下方与所述底板15固定连接,所述底板15一端与所述左侧支腿34固定连接。所述传送带1左侧与主动轮2滑动连接,所述主动轮2与所述小带轮4固定连接,所述小带轮4通过皮带5与所述大带轮6固定连接,所述大带轮6与所述第一电机7固定连接,所述第一电机7与所述左侧支腿34固定连接,所述传送带1右端与所述从动轮3滑动连接,所述从动轮3与所述右侧支腿34滑动连接。所述右侧支腿34右边设有所述第二盛放箱31,所述第二盛放箱31内设有所述缓冲板32,所述缓冲板32下方与所述缓冲弹簧33一端固定连接,所述缓冲弹簧33另一端与所述第二盛放箱31底部固定连接。所述第一盛放箱9上方设有所述进料口8。所述烘干箱16上方安装有所述气泵22,所述电加热箱17内安装有所述电加热块18。所述曝光机30与所述曝光控制器35电性连接。工作原理:使用时,将光刻板放在第一盛放箱9内,滑块14通过曲柄10、连杆11和第二电机12的驱动,在第一盛放箱9底部来回移动,将第一盛放箱9内部的光刻板推出第一盛放箱9,光刻板落在传送带1上,传送带1通过主动轮2上的小带轮4、皮带5、大带轮6通过第一电机7带动运动,当光刻板运动到烘干箱16下方时,,气泵22将外界的空气泵入电加热箱17内,电加热箱17内的电加热块18将空气加热,温度传感器21时刻监控着电加热箱17内的温度,防止烘干过度,加热后的空气从出气口19喷在光刻板上,对光刻板进行烘干,然后光刻板继续运动,光刻板运动在光刻箱23下方时,本文档来自技高网...
一种负性光刻胶刻蚀装置

【技术保护点】
一种负性光刻胶刻蚀装置,其特征在于,包括传送带、第一盛放箱、烘干箱、光刻箱和第二盛放箱,所述传送带上方左侧安装有烘干箱,所述烘干箱下方左右两边均与第二支座固定连接,所述烘干箱内安装有电加热箱,所述电加热箱两侧与温度传感器固定连接,所述电加热箱下方中心位置与出气口固定连接,所述烘干箱右侧安装有光刻箱,所述光刻箱内上方右侧与第一气缸固定连接,所述第一气缸内与第一气动活塞一端滑动连接,所述第一气动活塞另一端与第一挡块固定连接,所述第一气缸左侧设有曝光机,所述曝光机与光刻箱底部固定连接,所述光刻箱上方左侧与第二气缸固定连接,所述第二气缸与第二气动活塞一端滑动连接,所述第二气动活塞另一端与第二挡块固定连接,所述光刻箱上方右侧安装有曝光控制器,所述曝光机与曝光控制器电性连接。

【技术特征摘要】
1.一种负性光刻胶刻蚀装置,其特征在于,包括传送带、第一盛放箱、烘干箱、光刻箱和第二盛放箱,所述传送带上方左侧安装有烘干箱,所述烘干箱下方左右两边均与第二支座固定连接,所述烘干箱内安装有电加热箱,所述电加热箱两侧与温度传感器固定连接,所述电加热箱下方中心位置与出气口固定连接,所述烘干箱右侧安装有光刻箱,所述光刻箱内上方右侧与第一气缸固定连接,所述第一气缸内与第一气动活塞一端滑动连接,所述第一气动活塞另一端与第一挡块固定连接,所述第一气缸左侧设有曝光机,所述曝光机与光刻箱底部固定连接,所述光刻箱上方左侧与第二气缸固定连接,所述第二气缸与第二气动活塞一端滑动连接,所述第二气动活塞另一端与第二挡块固定连接,所述光刻箱上方右侧安装有曝光控制器,所述曝光机与曝光控制器电性连接。2.根据权利要求1所述的负性光刻胶刻蚀装置,其特征在于,所述第一盛放箱下方与左侧支腿固定连接,所述第一盛放箱下方左侧设有滑块,所述滑块与连杆一端固定连接,...

【专利技术属性】
技术研发人员:姜世平杨武董小春郑鑫郭小伟
申请(专利权)人:四川云盾光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:四川,51

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