照明均匀性校正装置、校正方法以及一种曝光投影系统制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种照明均匀性校正装置、校正方法以及一种曝光投影系统，校正装置包括可变遮光校正装置，包括若干设置在照明光束横截面的校正组件对，若干校正组件对沿非扫描方向间隔排列设置以覆盖整个照明场，沿扫描方向重叠设置以覆盖整个照明场；可变灰度补偿板装置，包括两片可相对移动的不同灰度透过率的平板；及可变反射镜阵列装置，包括可变反射镜光学装置，可变反射镜光学装置由多个可变反射率的反射镜阵列组成，通过调节校正组件对的形状和重叠方式、平板的透过率及反射镜阵列的反射率，调节多个照明模式下整个照明场的照明均匀性。本发明专利技术解决了频繁更换灰度补偿板，及多种照明模式情况下光瞳均匀性和视场积分均匀性不能都满足性能的问题。

【技术实现步骤摘要】
照明均匀性校正装置、校正方法以及一种曝光投影系统
本专利技术涉及光刻照明
，特别涉及一种照明均匀性校正装置、校正方法以及一种曝光投影系统。
技术介绍
光刻法用于制造半导体器件，光刻法即使用电磁辐射，如紫外(UV)、深UV或可见光，在半导体器件设计中产生精细的图形，许多种半导体器件，如二极管、三极管和集成电路，能够用光刻技术制作。光刻曝光系统通常包括照明系统、含有电路图的掩模版、投影系统和用于涂覆光刻胶的硅片和硅片对准台，照明系统照射掩模版上的电路图，投影系统把掩模版上的电路图照明区域的像投射到晶片上。在光刻中，对图像质量起关键作用的两个因素是分辨率和焦深，所以既要获得更好的分辨率来形成关键尺寸的图形，又要保持合适的焦深，就需要提高投影物镜的像方数值孔径(NA)，同时对照明系统提出均匀照明、高透过率、光瞳均匀性等需求。光刻中要求照明系统产生的照明场尽量均匀，均匀性误差尽量小，以便整个照明光束能够均匀地照射在掩模版上，并均匀地投影到衬底上。照明均匀性会影响整个曝光场的线宽均匀性。步进扫描光刻系统是典型的光刻系统，它具有矩形照明场，掩模台和工件台沿着全曝光区域扫描矩形照明场，然后步进本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种照明均匀性校正装置，设置于掩模版上方，其特征在于，包括：可变遮光校正装置，包括若干设置在照明光束横截面的校正组件对，若干所述校正组件对沿非扫描方向间隔排列设置以覆盖整个照明场，沿扫描方向重叠设置以覆盖整个所述照明场；可变灰度补偿板装置，包括两片可相对移动的不同灰度透过率的平板；以及可变反射镜阵列装置，包括可变反射镜光学装置，所述可变反射镜光学装置由多个可变反射率的反射镜阵列组成，通过调节所述校正组件对的形状和重叠方式、所述平板的透过率以及所述反射镜阵列的反射率，调节多个照明模式下整个所述照明场的照明均匀性。

【技术特征摘要】
1.一种照明均匀性校正装置，设置于掩模版上方，其特征在于，包括：可变遮光校正装置，包括若干设置在照明光束横截面的校正组件对，若干所述校正组件对沿非扫描方向间隔排列设置以覆盖整个照明场，沿扫描方向重叠设置以覆盖整个所述照明场；可变灰度补偿板装置，包括两片可相对移动的不同灰度透过率的平板；以及可变反射镜阵列装置，包括可变反射镜光学装置，所述可变反射镜光学装置由多个可变反射率的反射镜阵列组成，通过调节所述校正组件对的形状和重叠方式、所述平板的透过率以及所述反射镜阵列的反射率，调节多个照明模式下整个所述照明场的照明均匀性。2.如权利要求1所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述可变遮光校正装置设置于所述掩模版附近或所述掩模版的光学共轭面附近。3.如权利要求1所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述校正组件对包括沿扫描方向插入所述照明场的第一校正组件，和沿扫描反方向插入所述照明场的第二校正组件，所述第一校正组件与第二校正组件数量相同且一一对应。4.如权利要求3所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件上在所述扫描方向与光束传输方向上呈相互平行的平板状，且所述第一校正组件和第二校正组件能够分别在所述扫描方向上做至少一维运动，以改变二者的相对位置。5.如权利要求4所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件的透过率分布随位置变化而变化，且所述第一校正组件的透过率分布与第二校正组件的透过率分布在移动方向上具有相反的变化趋势。6.如权利要求5所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件的透过率分布至少是一维的透过率分布。7.如权利要求6所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件的透过率分布为一次函数分布，或者二次函数分布，或者三角函数分布，或者上述若干种函数的组合分布。8.如权利要求5所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件在垂直于所述扫描方向的光束传输截面是矩形，所述第一校正组件和第二校正组件在所述非扫描方向错位重叠设置。9.如权利要求5所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件在垂直于所述扫描方向的光束传输截面是平行四边形或梯形，所述第一校正组件和第二校正组件在所述非扫描方向错位重叠设置，或者无错位完全重叠设置。10.如权利要求5所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件在垂直于所述扫描方向的光束传输截面是阶梯形，所述第一校正组件和第二校正组件相对于光束截面具有镜像结构。11.如权利要求3所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所有的所述第一校正组件设置于同一平面上，且相邻的两个所述第一校正组件之间设置第一间隔隔开；所有的所述第二校正组件设置于与所述第一校正组件所在平面相异的另一平面上，且相邻的两个所述第二校正组件之间设置第二间隔隔开。12.如权利要求11所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一间隔与所述第二间隔大小相等，均为0.1mm。13.如权利要求3所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件由透射材料制成。14.如权利要求3所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件通过在制造材料上沉积透射物或衰减物制成。15.如权利要求3所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件通过在制造材料上沉积...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙文凤，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31