成像光路装置与成像光路装置的检测控制方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种成像光路装置与成像光路装置的检测控制方法，用于光刻系统中，该成像光路装置包括照明部分、掩模台、物镜组件，所述照明部分产生的光源依次经所述掩模台上的掩模和物镜组件照至硅片表面；其特征在于：还包括：所述物面测量单元，设置在所述物镜组件的物面，用以于所述掩模台上测得不同场点的物面光瞳信息；所述像面测量单元，设置在所述物镜组件的像面，用以于硅片表面处测得不同场点的像面光瞳信息；根据上述物面光瞳信息和像面光瞳信息获得所述物镜组件在不同场点的透过率分布情况，通过所述透过率分布情况调整所述照明部分中照明光瞳的椭圆度分布。

Detection and control method of imaging optical path device and imaging optical path device

The present invention provides a method for detecting and controlling the imaging optical path device and imaging optical device, used in lithography system, the optical imaging device comprises a lighting part, mask, lens assembly, the lighting part generated light source sequentially through the mask mask and wafer surface according to mirror assembly mode on the table; which is characterized by: the surface of the measuring unit is arranged on the lens assembly surface to the mask on the measured object surface at different pupil information; the image measuring unit is arranged on the lens assembly like surface for, on the surface of silicon measured at different points of the pupil image information; according to the surface of the pupil image surface information and pupil information obtained the objective component in the transmittance distribution of different sites, through which the transmittance distribution adjustment of the light The ellipticity of the pupil in the illuminated part of the light.

【技术实现步骤摘要】
成像光路装置与成像光路装置的检测控制方法
本专利技术涉及光刻领域，尤其涉及一种成像光路装置与成像光路装置的检测控制方法。
技术介绍
在光刻系统中，整个成像光路一般可以总结为一个6f系统，即整个光路由6个焦距组成。整个6f系统可以分为两个部分：照明部分和物镜成像部分。照明部分包括2f，而物镜成像部分包括4f。物镜成像部分的4f分别为：物面到入瞳面为1f，入瞳面到出瞳面为2f，出瞳面到像面为1f。入瞳面与出瞳面之间分隔两个f的面为瞳面，瞳面的尺寸即为数值孔径。瞳面与光源面互为共轭面，在没有掩模的情况下，瞳面的分布即光源的分布。光源的分布一般并不会占满整个数值孔径，光源面的尺寸即光源的相干因子，该数值又等于光源面尺寸占数值孔径的比率，因此又被称为瞳面的填充度。Apodization，是指瞳面上物镜透过率的分布。瞳面坐标是角频坐标，瞳面上不同的点代表不同方向的光线，每个场点对应一个瞳面。光刻系统中物面上每个场点衍射出的光构成了每个场点的瞳面，会照射在物镜的不同区域，而由于物镜存在曲率，导致相同传播方向的光在物镜表面的实际入射角不同，如图1所示，同时由于物镜表面有镀膜，膜层对偏振光的s分量和p本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种能够检测物镜透过率分布情况的成像光路装置，用于光刻系统中，包括照明部分、掩模台、物镜组件，所述照明部分产生的光源依次经所述掩模台上的掩模和物镜组件照至硅片表面；其特征在于：还包括：物面测量单元，设置在所述物镜组件的物面，用以于所述掩模台上测得不同场点的物面光瞳信息；像面测量单元，设置在所述物镜组件的像面，用以于硅片表面处测得不同场点的像面光瞳信息；根据上述物面光瞳信息和像面光瞳信息获得所述物镜组件在不同场点的透过率分布情况，通过所述透过率分布情况调整所述照明部分中照明光瞳的椭圆度分布。

【技术特征摘要】
1.一种能够检测物镜透过率分布情况的成像光路装置，用于光刻系统中，包括照明部分、掩模台、物镜组件，所述照明部分产生的光源依次经所述掩模台上的掩模和物镜组件照至硅片表面；其特征在于：还包括：物面测量单元，设置在所述物镜组件的物面，用以于所述掩模台上测得不同场点的物面光瞳信息；像面测量单元，设置在所述物镜组件的像面，用以于硅片表面处测得不同场点的像面光瞳信息；根据上述物面光瞳信息和像面光瞳信息获得所述物镜组件在不同场点的透过率分布情况，通过所述透过率分布情况调整所述照明部分中照明光瞳的椭圆度分布。2.如权利要求1所述的能够检测物镜透过率分布情况的成像光路装置，其特征在于：所述物镜组件形成有入瞳面、瞳面和出瞳面，经掩模台的光依次经所述入瞳面、瞳面和出瞳面后入射至硅片表面。3.如权利要求1所述的能够检测物镜透过率分布情况的成像光路装置，其特征在于：所述物面测量单元包括沿正交于掩模台扫描方向的方向排布于所述掩模台上的多个传感器。4.如权利要求1所述的能够检测物镜透过率分布情况的成像光路装置，其特征在于：不同场点的透过率由该场点对应的像面光瞳信息与物面光瞳信息的比值得到。5.如权利要求1所述的能够检测物镜透过率分布情况的成像光路装置，其特征在于：照明光瞳的椭圆度分布进一步能够结合透过率分布情况和已知的掩模衍射算法得到，从而使得透过率较小的区域对应的照明光瞳区域的光强被加强。6.一种基于物镜透过率的成像光...

【专利技术属性】
技术研发人员：王健，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31