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本发明提供了一种成像光路装置与成像光路装置的检测控制方法，用于光刻系统中，该成像光路装置包括照明部分、掩模台、物镜组件，所述照明部分产生的光源依次经所述掩模台上的掩模和物镜组件照至硅片表面；其特征在于：还包括：所述物面测量单元，设置在所述物...
该专利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海微电子装备（集团）股份有限公司授权不得商用。

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