The utility model discloses a solar battery board used for coating equipment, in the carrier plate is provided with a plurality of wafer placement area, placed in the area around the wafer is provided with a plurality of positioning grooves of the positioning groove on the carrier plate arranged periodically arranged on the positioning pin; the positioning groove, the positioning pin is used for defining the wafer placement area; the wafer placement area for placing silicon wafers, each wafer placement area placed a silicon wafer; regional center placed region in the silicon wafer is provided with concave structure. The carrier plate provided by the utility model can significantly improve the uniformity of the coating area and the quality of the film layer in the edge area of the silicon wafer, thereby improving the electrical performance of the solar cell, and the compatibility of the carrier plate is good, and is suitable for various specifications of solar cells.
【技术实现步骤摘要】
一种用于太阳能电池镀膜设备的载板
本技术属于太阳能电池制造设备领域,具体地说,涉及一种用于太阳能电池镀膜设备的载板。
技术介绍
在晶体硅太阳能电池制造过程中,需要在硅片表面制备膜层,用于硅片表面的钝化、减少光的反射等。例如,在制备常规P型电池过程中,通常采用PECVD(等离子体增强化学气相沉积,PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)的方法在硅片表面镀一层氮化硅膜。这层膜能够起到对硅片表面钝化和减反射的双重作用。在制备PERC(钝化发射极背面接触,PassivatedEmitterRearContactSolarCells)电池过程中,除了需要在电池正面镀氮化硅膜层外,还需要在电池背面依次镀一层氧化铝膜层和一层氮化硅膜层。其中氧化铝膜用于电池背表面的钝化;氮化硅膜用于保护氧化铝膜,使之不被后续印刷的铝浆腐蚀反应而失去钝化作用。氧化铝膜可以采用PECVD或者ALD(原子层沉积,Atomiclayerdeposition)的方法制备。上述的多重膜层都可以采用板式设备来实现,即将硅片排列在一个平板式的载板上,将载板放置在工艺腔内对硅片 ...
【技术保护点】
一种用于太阳能电池镀膜设备的载板,其特征在于,在所述载板上设置有多个硅片放置区,在所述硅片放置区周围设置有多个定位槽;所述硅片放置区用于放置硅片,每个硅片放置区放置一个硅片;所述定位槽在所述载板上周期性排列;在所述定位槽中设置定位销,所述定位销用于限定所述硅片放置区;在所述硅片放置区的中心区域设置有凹陷结构。
【技术特征摘要】
1.一种用于太阳能电池镀膜设备的载板,其特征在于,在所述载板上设置有多个硅片放置区,在所述硅片放置区周围设置有多个定位槽;所述硅片放置区用于放置硅片,每个硅片放置区放置一个硅片;所述定位槽在所述载板上周期性排列;在所述定位槽中设置定位销,所述定位销用于限定所述硅片放置区;在所述硅片放置区的中心区域设置有凹陷结构。2.根据权利要求1所述的载板,其特征在于,所述定位销的高度为0.3mm-5mm。3.根据权利要求1所述的载板,其特征在于,所述定位销为直径为1mm-5mm的圆柱形和/或边长为1mm-5mm的方柱形。4.根据权利要求1所述的载板,其特征在于,所述定位销...
【专利技术属性】
技术研发人员:殷涵玉,王仕鹏,黄海燕,陆川,
申请(专利权)人:浙江正泰太阳能科技有限公司,
类型:新型
国别省市:浙江,33
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