一种有序贵金属纳米颗粒阵列的颗粒间距控制方法技术

本发明专利技术提供一种有序贵金属纳米颗粒阵列的颗粒间距控制方法，包括如下步骤：(1)将载体以浸渍提拉的方式，通过分散有贵金属前驱体/双嵌段共聚物胶团的有机溶液植入初始的有序贵金属颗粒单层阵列；(2)在载有初始阵列的载体上按步骤(1)工艺进行若干次植入，最终得到满足目标颗粒间距的有序贵金属纳米颗粒阵列。本发明专利技术利用球状胶团在多次植入过程中的定位及分散机制，解决了单一双嵌段共聚物模板法无法实现的颗粒间距设计问题。依据本发明专利技术的发现与工艺明确了间距的可控范围，从而实现了各类单层贵金属纳米颗粒有序阵列的相邻颗粒中心距的精确设计与调节，为优化与颗粒间距或密度紧密相关的催化、光、电等性能提供材料制备方法和工艺。

A particle spacing control method for an ordered noble metal nanoparticle array

【技术实现步骤摘要】
一种有序贵金属纳米颗粒阵列的颗粒间距控制方法
：本专利技术属于贵金属纳米颗粒的
，具体涉及一种有序贵金属纳米颗粒阵列的颗粒间距控制方法。
技术介绍
：在催化、光学、电子以及能量转化储存等领域，有序的贵金属纳米颗粒阵列拥有重要的应用价值与广泛的应用前景。一方面，贵金属纳米颗粒本身具有优异的氧化还原催化性能、感光能力、电导能力以及化学稳定性，在涉及光、电、化学能等能量相互转化的过程中是首选的催化剂与敏化剂；另一方面，当贵金属纳米颗粒被排列为均匀有序的阵列后，其在微观尺度上的独特效应能够在宏观尺度集中体现，诸如表面等离子共振、高密度周期性催化活性位点等，同时，有序排布能够明显减少贵金属纳米颗粒在各类能量转化过程的团聚概率，进而保证其催化敏化过程的高效与稳定。现阶段，双嵌段共聚物模板法是制备有序贵金属纳米颗粒阵列首选的技术。两亲性嵌段在选择性有机溶剂里能够自组装形成大量均匀的球形纳米胶团，当胶团核上通过质子化或络合过程负载上适当的前驱体，胶团便可成为材料制备的纳米反应器，同时也是材料生长的形貌模板。通过浸渍提拉技术可将负载前驱体的球形胶团以规整的六角点阵方式排布在载体表面，进而还原获得本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种有序贵金属纳米颗粒阵列的颗粒间距控制方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)将载体以浸渍提拉的方式，在分散有贵金属前驱体/双嵌段共聚物胶团的有机溶液中浸镀上单层的负载贵金属前驱体的有序球形胶团模板阵列，将所述的负载贵金属前驱体/有序球形胶团模板阵列的载体放入等离子清洗机中清洗至有机物完全去除，得到初始植入的按六角点阵排布的有序贵金属颗粒单层阵列；(2)在载有初始阵列的载体上按步骤(1)工艺进行若干次植入，最终得到满足目标颗粒间距的有序贵金属纳米颗粒阵列。

【技术特征摘要】
1.一种有序贵金属纳米颗粒阵列的颗粒间距控制方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)将载体以浸渍提拉的方式，在分散有贵金属前驱体/双嵌段共聚物胶团的有机溶液中浸镀上单层的负载贵金属前驱体的有序球形胶团模板阵列，将所述的负载贵金属前驱体/有序球形胶团模板阵列的载体放入等离子清洗机中清洗至有机物完全去除，得到初始植入的按六角点阵排布的有序贵金属颗粒单层阵列；(2)在载有初始阵列的载体上按步骤(1)工艺进行若干次植入，最终得到满足目标颗粒间距的有序贵金属纳米颗粒阵列。2.根据权利要求1所述的有序贵金属纳米颗粒阵列的颗粒间距控制方法，其特征在于，所述的载体选自金属、合金、碳、半导体和导电玻璃中的一种。3.根据权利要求1所述的有序贵金属纳米颗粒阵列的颗粒间距控制方法，其特征在于，所述的贵金属前驱体选自氯金酸、氯铂酸、氯铱酸、氯钌酸、氯铑酸、氯钯酸和氯锇酸中的一种。4.根据权利要求1所述的有序贵金属纳米颗粒阵列的颗粒间距控制方法，其特征在于，所述的双嵌段共聚物为聚苯乙烯-嵌段-聚乙烯基吡啶。5.根据权利要求1所述的有序贵金属纳米颗粒阵列的颗粒间距控制方法，其特征在于，所述步骤(2)的植入总次数S满足S＝3n，每次植入颗粒的直径、形状与初始植入阵列一致，则所述的满足目标间距的有序贵金属纳米颗粒...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫常峰，甘源，王志达，郭常青，史言，谭弘毅，卢卓信，
申请(专利权)人：中国科学院广州能源研究所，
类型：发明
国别省市：广东,44