一种真空卷绕镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种真空卷绕镀膜设备，包括：真空室，真空室内依次设置有放卷室、镀膜室和收卷室；放卷室内设置有放卷装置；收卷室内设置有收卷装置；通过放卷装置和收卷装置带动基带穿过镀膜室往复运动；镀膜室内设置有第一导膜辊、镀膜辊、第二导膜辊、对准镀膜辊的磁控溅射组合靶和开口对准镀膜辊的蒸发室；第一导膜辊设置在镀膜辊的牵入端一侧，第二导膜辊设置在镀膜辊的牵出端一侧，通过第一导膜辊与第二导膜辊的牵引使基带沿镀膜辊传递。本实用新型专利技术将真空溅射和蒸发镀膜结合，能够获得适宜厚度且结合力好的金属功能层，提高镀膜质量，且多腔室联合使用、能够进行连续真空复合镀膜，实现高效稳定的连续镀膜，满足高端制膜需求。

A vacuum winding coating equipment

The utility model provides a vacuum coating device includes a vacuum chamber, the vacuum chamber is provided with the unwinding and rewinding chamber, the vacuum chamber is arranged inside the chamber; roll unwinding device; the winding chamber is provided with a rolling device; the unwinding device and a winding device drives the base belt through coating ventricular reciprocating motion; coating chamber is provided with a first conductive film coating roller, roller, roller, second conductive film by magnetron sputtering target assembly alignment film coating roller and an evaporation chamber coating and alignment; the first film guide roller is arranged in the coating roller is pulled into the side, the second film guide roller is arranged in the pull side coating roller first, through the film guide roller and the second film guide roller traction in the baseband transfer along the coating roller. The utility model combines vacuum sputtering and evaporation, to obtain suitable metal thickness and good bonding layer, improve the coating quality, and combined use of multi chamber and capable of continuous vacuum composite coating, coating to achieve continuous stable and efficient, to meet the high-end film production demand.

【技术实现步骤摘要】
一种真空卷绕镀膜设备
本技术涉及镀膜设备
，特别涉及一种真空卷绕镀膜设备。
技术介绍
电磁屏蔽性是指能够屏蔽掉外部干扰电磁信号，使电子元件不受其它设备的影响或干扰，是产品质量的重要指标之一。随着人们对网络通讯速度要求的不断提高，智能手机等便携式终端设备对超高频(1Ghz～50Ghz)信号的屏蔽要求越来越高，其屏蔽性通常借助于电子设备中设置的电磁屏蔽膜来实现。电磁屏蔽膜中往往设有金属功能层，其对电磁屏蔽膜的性能起到至关重要的作用，通常是利用各种镀膜设备进行镀膜而得。在电子产品往轻薄化方向发展过程中，对屏蔽材料的要求也越来越高。普通的磁控溅射镀膜设备不能得到1μm以上的金属功能镀层，影响屏蔽效果；而蒸发镀膜设备不能得到较好的金属层间结合力，影响电磁屏蔽材料的使用性能。
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供了一种真空卷绕镀膜设备，采用本申请提供的镀膜设备能够获得适宜厚度且结合力好的金属功能层。本技术提供了一种真空卷绕镀膜设备，包括：真空室(1)，所述真空室(1)内设置有放卷室(2)、镀膜室(3)和收卷室(4)，所述镀膜室(3)位于放卷室(2)与收卷室(4)之间；所述放卷室(2)内设置有放卷装置(2-1)；所述收卷室(4)内设置有收卷装置(4-1)；通过放卷装置(2-1)和收卷装置(4-1)带动基带(5)穿过镀膜室(3)往复运动；所述镀膜室(3)内设置有第一导膜辊(3-1a)、镀膜辊(3-2)、第二导膜辊(3-1b)、对准镀膜辊(3-2)的磁控溅射组合靶(3-3)和开口对准镀膜辊(3-2)的蒸发室(3-4)；所述第一导膜辊(3-1a)设置在镀膜辊(3-2)的牵入端一侧，第二导膜辊(3-1b)设置在镀膜辊(3-2)的牵出端一侧，通过第一导膜辊(3-1a)与第二导膜辊(3-1b)的牵引使基带(5)沿镀膜辊(3-2)传递。优选的，所述镀膜室(3)的数量≥2，各镀膜室之间设置有隔离板(7)，且各镀膜室均与真空室(1)相通；各镀膜室之间设置有过渡导膜辊(6)，通过过渡导膜辊(6)的牵引使基带(5)在各镀膜室之间传递。优选的，各镀膜室中，首镀膜室(3-S)内的第一导膜辊(3-1a)位于放卷装置(2-1)与镀膜辊(3-2)之间，通过第一导膜辊(3-1a)的牵引使基带在放卷装置(2-1)与镀膜辊(3-2)之间传递；尾镀膜室(3-W)内的第二导膜辊(3-1b)位于镀膜辊(3-2)与收卷装置(4-1)之间，通过第二导膜辊(3-1b)的牵引使基带在镀膜辊(3-2)与收卷装置(4-1)之间传递。4、根据权利要求1所述的真空卷绕镀膜设备，其特征在于，所述蒸发室(3-4)内设置有镀料容器(3-4-1)，所述镀料容器(3-4-1)的开口对准蒸发室(3-4)的开口，并通过蒸发室(3-4)的开口对准镀膜辊(3-2)。优选的，所述磁控溅射组合靶(3-3)的靶材数≥2。优选的，各靶材绕镀膜辊(3-2)等间距分布。优选的，所述第一导膜辊(3-1a)的数量≥1。优选的，所述第二导膜辊(3-1b)的数量≥1。优选的，所述过渡导膜辊(6)的数量≥1。优选的，所述镀膜室(3)的数量为5个；各镀膜室中镀膜辊(3-2)的直径独立地选自200～600mm。本技术提供了一种真空卷绕镀膜设备，包括：真空室(1)，所述真空室(1)内设置有放卷室(2)、镀膜室(3)和收卷室(4)，所述镀膜室(3)位于放卷室(2)与收卷室(4)之间；所述放卷室(2)内设置有放卷装置(2-1)；所述收卷室(4)内设置有收卷装置(4-1)；通过放卷装置(2-1)和收卷装置(4-1)带动基带(5)穿过镀膜室(3)往复运动；所述镀膜室(3)内设置有第一导膜辊(3-1a)、镀膜辊(3-2)、第二导膜辊(3-1b)、对准镀膜辊(3-2)的磁控溅射组合靶(3-3)和开口对准镀膜辊(3-2)的蒸发室(3-4)；所述第一导膜辊(3-1a)设置在镀膜辊(3-2)的牵入端一侧，第二导膜辊(3-1b)设置在镀膜辊(3-2)的牵出端一侧，通过第一导膜辊(3-1a)与第二导膜辊(3-1b)的牵引使基带(5)沿镀膜辊(3-2)传递。本技术将真空溅射和蒸发镀膜结合，能够获得适宜厚度且结合力好的金属功能层，提高镀膜质量，且多腔室联合使用、能够进行连续真空复合镀膜，实现高效稳定的连续镀膜，满足高端制膜需求。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1为本技术的一个实施例提供的真空卷绕镀膜设备的结构示意图。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术提供了一种真空卷绕镀膜设备，包括：真空室(1)，所述真空室(1)内设置有放卷室(2)、镀膜室(3)和收卷室(4)，所述镀膜室(3)位于放卷室(2)与收卷室(4)之间；所述放卷室(2)内设置有放卷装置(2-1)；所述收卷室(4)内设置有收卷装置(4-1)；通过放卷装置(2-1)和收卷装置(4-1)带动基带(5)穿过镀膜室(3)往复运动；所述镀膜室(3)内设置有第一导膜辊(3-1a)、镀膜辊(3-2)、第二导膜辊(3-1b)、对准镀膜辊(3-2)的磁控溅射组合靶(3-3)和开口对准镀膜辊(3-2)的蒸发室(3-4)；所述第一导膜辊(3-1a)设置在镀膜辊(3-2)的牵入端一侧，第二导膜辊(3-1b)设置在镀膜辊(3-2)的牵出端一侧，通过第一导膜辊(3-1a)与第二导膜辊(3-1b)的牵引使基带(5)沿镀膜辊(3-2)传递。参见图1，图1为本技术的一个实施例提供的真空卷绕镀膜设备的结构示意图；其中，1为真空室；2为放卷室，2-1为放卷室内的放卷装置；3为镀膜室，3-1a为第一导膜辊，3-2为镀膜辊，3-1b为第二导膜辊，3-3为磁控溅射组合靶，3-4为蒸发室，3-4-1为蒸发室内的镀料容器；4为收卷室，4-1为收卷室内的收卷装置；5为基带；6为各镀膜室之间的过渡导膜辊；7为各镀膜室之间的隔离板。真空室1为整体镀膜设备提供真空镀膜环境，真空室1内依次设置有放卷室(2)、镀膜室(3)和收卷室(4)，放卷室(2)内设置有放卷装置(2-1)；收卷室(4)内设置有收卷装置(4-1)，通过放卷装置(2-1)和收卷装置(4-1)带动基带(5)穿过中间的镀膜室(3)进行往复运动。在一些实施例中，放卷装置(2-1)为放卷轴；在一些实施例中，收卷装置(4-1)为收卷轴。镀膜室(3)内设置有第一导膜辊(3-1a)、镀膜辊(3-2)、第二导膜辊(3-1b)；第一导膜辊(3-1a)设置在镀膜辊(3-2)的牵入端一侧，第二导膜辊(3-1b)设置在镀膜辊(3-2)的牵出端一侧，通过第一导膜辊(3-1a)与第二导膜辊(3-1b)的牵引使基带(5)沿镀膜辊(3-2)传递。放卷装置(2-1)传递本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空卷绕镀膜设备，其特征在于，包括：真空室(1)，所述真空室(1)内设置有放卷室(2)、镀膜室(3)和收卷室(4)，所述镀膜室(3)位于放卷室(2)与收卷室(4)之间；所述放卷室(2)内设置有放卷装置(2‑1)；所述收卷室(4)内设置有收卷装置(4‑1)；通过放卷装置(2‑1)和收卷装置(4‑1)带动基带(5)穿过镀膜室(3)往复运动；所述镀膜室(3)内设置有第一导膜辊(3‑1a)、镀膜辊(3‑2)、第二导膜辊(3‑1b)、对准镀膜辊(3‑2)的磁控溅射组合靶(3‑3)和开口对准镀膜辊(3‑2)的蒸发室(3‑4)；所述第一导膜辊(3‑1a)设置在镀膜辊(3‑2)的牵入端一侧，第二导膜辊(3‑1b)设置在镀膜辊(3‑2)的牵出端一侧，通过第一导膜辊(3‑1a)与第二导膜辊(3‑1b)的牵引使基带(5)沿镀膜辊(3‑2)传递。

【技术特征摘要】
1.一种真空卷绕镀膜设备，其特征在于，包括：真空室(1)，所述真空室(1)内设置有放卷室(2)、镀膜室(3)和收卷室(4)，所述镀膜室(3)位于放卷室(2)与收卷室(4)之间；所述放卷室(2)内设置有放卷装置(2-1)；所述收卷室(4)内设置有收卷装置(4-1)；通过放卷装置(2-1)和收卷装置(4-1)带动基带(5)穿过镀膜室(3)往复运动；所述镀膜室(3)内设置有第一导膜辊(3-1a)、镀膜辊(3-2)、第二导膜辊(3-1b)、对准镀膜辊(3-2)的磁控溅射组合靶(3-3)和开口对准镀膜辊(3-2)的蒸发室(3-4)；所述第一导膜辊(3-1a)设置在镀膜辊(3-2)的牵入端一侧，第二导膜辊(3-1b)设置在镀膜辊(3-2)的牵出端一侧，通过第一导膜辊(3-1a)与第二导膜辊(3-1b)的牵引使基带(5)沿镀膜辊(3-2)传递。2.根据权利要求1所述的真空卷绕镀膜设备，其特征在于，所述镀膜室(3)的数量≥2，各镀膜室之间设置有隔离板(7)，且各镀膜室均与真空室(1)相通；各镀膜室之间设置有过渡导膜辊(6)，通过过渡导膜辊(6)的牵引使基带(5)在各镀膜室之间传递。3.根据权利要求2所述的真空卷绕镀膜设备，其特征在于，各镀膜室中，首镀膜室(3-S)内的第一导膜辊(3-1a)位于放卷装置(2-1...

【专利技术属性】
技术研发人员：田海玉，
申请(专利权)人：海宁卓泰电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33