成膜装置、成膜方法以及太阳能电池的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种在借助溅射在成膜对象基板上形成金属层的情况下能够高效且可靠地进行冷却的技术。在形成有单一的真空气氛的真空槽(2)内具备基板保持器输送机构(3)，该基板保持器输送机构(3)具有沿着输送路径将保持成膜对象基板(50)的基板保持器(11)向既定方向输送的去路侧输送部(33a)、沿着输送路径将基板保持器(11)向与去路侧输送部(33a)的输送方向相反的方向输送的回路侧输送部(33c)、以及将基板保持器(11)以维持上下关系的状态从去路侧输送部(33a)朝向回路侧输送部(33c)折返地输送的输送折返部(30B)。以去路侧输送部(33a)通过冷却区域(7)且回路侧输送部(33c)通过第1以及第2金属层成膜区域(4、5)的方式设置。

Film forming device, film forming method and manufacturing method of solar cell

The present invention provides a technique for efficient and reliable cooling in the case of forming a metal layer on a film forming object substrate by sputtering. The vacuum tank has a single vacuum atmosphere in the formation of (2) with the substrate holder conveying mechanism (3), the substrate holder conveying mechanism (3) is along the transport path will keep the film substrate (50) substrate holder (11) to the roadside transport to the direction of the Department of transportation (33A along the transport path), the substrate holder (11) and the Ministry of transport to go to roadside (33a) loop side conveying conveying direction in the opposite direction to the Ministry of transport (33c), and a substrate holder (11) from the Ministry of transport to the roadside to state the relationship between the maintenance (33a) toward the loop side conveying Department of transportation (33c) of the Ministry of transport reentry reentry (30B). In order to roadside transportation department (33a) through the cooling region (7) and the return side conveying part (33c) through the first and the second metal layer film forming region (4, 5) of the set.

【技术实现步骤摘要】
成膜装置、成膜方法以及太阳能电池的制造方法
本专利技术涉及在真空中借助溅射在基板的单面上进行成膜的成膜装置的技术，特别涉及在异质结型太阳能电池用的基板的单面上形成金属层的技术。
技术介绍
近年来，作为清洁且安全的能源，太阳能电池被实用化，其中异质结型太阳能电池集中受到关注。异质结型太阳能电池与单晶硅太阳能电池相比转换效率高，此外，因为使用非晶硅层，所以具有能够减少硅的使用量等优点。近年来，作为异质结型太阳能电池单元，提出了在受光面不具有电极而在与受光面相反的一侧的背侧面具有背面电极的所谓的后触点构造的方案。该背面电极由金属构成并利用借助溅射进行的成膜而形成，但在借助溅射形成金属层时，温度变得相当高，因此为了避免对其它膜的影响，需要在成膜时(前后)进行冷却。但是，在对形成有金属层的基板进行冷却的情况下，存在难以对金属层进行直接冷却并且由于金属层的发射率低从而在间接地进行冷却的情况下效率也低的问题。此外，作为异质结型太阳能电池在受光面具有由金属构成的电极层的情况下，也存在同样的问题。在将电极层的厚度形成得较厚的情况下，需要反复进行金属层的成膜，因此这样的问题成为重要的问题。并且，上述问题本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成膜装置，其特征在于，前述成膜装置具备：真空槽，其形成有单一的真空气氛；冷却区域，其设置于前述真空槽内，从第1面侧对被保持于基板保持器的成膜对象基板进行冷却；金属层成膜区域，其设置于前述真空槽内，具有溅射源，在被保持于前述基板保持器的前述成膜对象基板的第2面上进行金属层的成膜；输送路径，其以相对于铅垂面的投影形状为一连串的环状的方式形成，并以通过前述金属层成膜区域以及前述冷却区域的方式设置；以及基板保持器输送机构，其将前述基板保持器以设成水平的状态沿前述输送路径输送，前述基板保持器输送机构具有：第1输送部，其沿着前述输送路径将前述基板保持器向既定方向输送；第2输送部，其沿着前述输送路径将前...

【技术特征摘要】
2016.09.06 JP 2016-1736361.一种成膜装置，其特征在于，前述成膜装置具备：真空槽，其形成有单一的真空气氛；冷却区域，其设置于前述真空槽内，从第1面侧对被保持于基板保持器的成膜对象基板进行冷却；金属层成膜区域，其设置于前述真空槽内，具有溅射源，在被保持于前述基板保持器的前述成膜对象基板的第2面上进行金属层的成膜；输送路径，其以相对于铅垂面的投影形状为一连串的环状的方式形成，并以通过前述金属层成膜区域以及前述冷却区域的方式设置；以及基板保持器输送机构，其将前述基板保持器以设成水平的状态沿前述输送路径输送，前述基板保持器输送机构具有：第1输送部，其沿着前述输送路径将前述基板保持器向既定方向输送；第2输送部，其沿着前述输送路径将前述基板保持器向与前述第1输送部的输送方向相反的方向输送；以及输送折返部，其将前述基板保持器以维持上下关系的状态从前述第1输送部朝向前述第2输送部折返地输送，前述成膜装置被设置成：前述第1输送部通过前述金属层成膜区域以及前述冷却区域中的一方，且前述第2输送部通过前述金属层成膜区域以及前述冷却区域中的另一方。2.一种成膜装置，其特征在于，前述成膜装置具备：真空槽，其形成有单一的真空气氛；第1透明导电氧化物层成膜区域，其设置于前述真空槽内，具有溅射源，在被保持于基板保持器的成膜对象基板的第1面上进行透明导电氧化物层的成膜；第2透明导电氧化物层成膜区域，其设置于前述真空槽内，具有溅射源，在被保持于前述基板保持器的前述成膜对象基板的第2面上进行透明导电氧化物层的成膜；冷却区域，其设置在前述真空槽内，从第2面侧对被保持于前述基板保持器的前述成膜对象基板进行冷却；金属层成膜区域，其设置于前述真空槽内，具有溅射源，在被保持于前述基板保持器的前述成膜对象基板的第1面上进行金属层的成膜；输送路径，其以相对于铅垂面的投影形状为一连串的环状的方式形成，并以通过前述第1以及第2透明导电氧化物层成膜区域、前述金属层成膜区域以及前述冷却区域的方式设置；以及基板保持器输送机构，其将前述基板保持器以设成水平的状态沿着前述输送路径输送，前述基板保持器输送机构具有：第1输送部，其沿着前述输送路径将前述基板保持器向既定方向输送；第2输送部，其沿着前述输送路径将前述基板保持器向与前述第1输送部的输送方向相反的方向输送；以及输送折返部，其将前述基板保持器以维持上下关系的状态从前述第1输送部朝向前述第2输送部折返地输送，前述成膜装置被设置成：前述第1输送部通过前述第1以及第2透明导电氧化物层成膜区域中的一方，且前述第2输送部通过前述第1以及第2透明导电氧化物层成膜区域中的另一方，并且前述第1输送部通过前述金属层成膜区域以及前述冷却区域中的一方，且前述第2输送部通过前述金属层成膜区域以及前述冷却区域中的另一方。3.如权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，前述成膜装置被以下述方式构成：将保持有成膜后的成膜对象基板的前述基板保持器从前述基板保持器输送机构取出，并将取出的该基板保持器导入前述基板保持器输送机构。4.如权利要求1或2所述的成膜装置，其特征在于，前述基板保持器以在相对于该输送方向正交的方向上排列地保持多个成膜对象基板的方式构成。5.一种成膜方法，其特征在于，前述成膜方法使用如下所述的成膜装置，该成膜装置具备：真空槽，其形成有单一的真空气氛；冷却区域，其设置于前述真空槽内，从第1面侧对被保持于基板保持器的成膜对象基板进行冷却；金属层成膜区域，其设置于前述真空槽内，具有溅射源，在被保持于前述基板保持器的前述成膜对象基板的第2面上进行金属层的成膜；输送路径，其以相对于铅垂面的投影形状为一连串的环状的方式形成，并以通过前述金属层成膜区域以及前述冷却区域的方式设置；以及基板保持器输送机构，其将前述基板保持器以设成水平的状态沿前述输送路径输送，前述基板保持器输送机构具有：第1输送部，其沿着前述输送路径将前述基板保持器向既定方向输送；第2输送部，其沿着前述输送路径将前述基板保持器向与前述第1输送部的输送方向相反的方向输送；以及输送折返部，其将前述基板保持器以维持上下关系的状态从前述第1输送部朝向前述第2输送部折返地输送，前述成膜装置被设置成：前述第1输送部通过前述金属层成膜区域以及前述冷却区域中的一方，且前述第2输送部通过前述金属层成膜区域以及前述冷却区域中的另一方，其中，前述成膜方法具有下述工序：冷却工序，其借助前述基板保持器输送机构的前述第1以及第2输送部中的一方将前述基板保持器以通过前述冷却区域的方式沿着前述输送路径向既定方向输送，从被保持于前述基板保持器的前述成膜对象基板的第1面侧进行冷却；以及金属层成膜工序，其借助前述基板保持器输送机构的前述第1以及第2输送部中的另一方将前述基板保持器以通过前述金属层成膜区域的方式沿着前述输送路径向与前述既定方向相反的方向输送，借助溅射在被保持于前述基板保持器的前述成膜对象基板的第2面上进行金属层的成膜。6.一种成膜方法，其特征在于，前述成膜方法使用如下所述的成膜装置，该成膜装置具备：真空槽，其形成有单一的真空气氛；第1透明导电氧化物层成膜区域，其设置于前述真空槽内，具有溅射源，在被保持于基板保持器的成膜对象基板的第1面上进行透明导电氧化物层的成膜；第2透明导电氧化物层成膜区域，其设置于前述真空槽内，具有溅射源，在被保持于前述基板保持器的前述成膜对象基板的第2面上进行透明导电氧化物层的成膜；冷却区域，其设置在前述真空槽内，从第2面侧对被保持于前述基板保持器的前述成膜对象基板进行冷却；金属层成膜区域，其设置于前述真空槽内，具有溅射源，在被保持于前述基板保持器的前述成膜对象基板的第1面上进行金属层的成膜；输送路径，其以相对于铅垂面的投影形状为一连串的环状的方式形成，并以通过前述第1以及第2透明导电氧化物层成膜区域、前述金属层成膜区域以及前述冷却区域的方式设置；以及基板保持器输送机构，其将前述基板保持器以设成水平的状态沿着前述输送路径输送，前述基板保持器输送机构具有：第1输送部，其沿着前述输送路径将前述基板保持器向既定方向输送；第2输送部，其沿着前述输送路径将前述基板保持器向与前述第1输送部的输送方向相反的方向输送；以及输送折返部，其将前述基板保持器以维持上下关系的状态从前述第1输送部朝向前述第2输送部折返地输送，前述成膜装置被设置成：前述第1输送部通过前述第1以及第2透明导电氧化物层成膜区域中的一方，且前述第2输送部通过前述第1以及第2透明导电氧化物层成膜区域中的另一方，并且前述第1输送部通过前述金属层成膜区域以及前述冷却区域中的一方...

【专利技术属性】
技术研发人员：松崎淳介，高桥明久，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：日本,JP