用于制造具有隧道电介质层的太阳能电池的方法技术

本文描述了制造具有隧道电介质层的太阳能电池的方法，以及具有隧道电介质层的太阳能电池。

【技术实现步骤摘要】
用于制造具有隧道电介质层的太阳能电池的方法本申请是基于申请日为2011年04月27日、申请号为201180032583.0(国际申请号为PCT/US2011/034089)、专利技术创造名称为“用于制造具有隧道电介质层的太阳能电池的方法”的中国专利申请的分案申请。本文所述的专利技术是在政府的支持下按照美国能源部颁发的合同号DE-FC36-07GO17043完成的。政府在本专利技术中可能具有一定的权利。
本专利技术的实施例是在可再生能源领域，特别是用于制造具有隧道电介质层的太阳能电池的方法。
技术介绍
光伏电池(一般称为太阳能电池)是公知的用于将太阳辐射直接转换成电能的设备。一般来说，太阳能电池是在半导体晶片或衬底上使用半导体加工技术在衬底表面附近形成pn结来制造的。撞击在在衬底表面上的太阳辐射在衬底主体中产生电子和空穴对(其在衬底中迁移到p型掺杂区和n型掺杂区)，从而在掺杂区之间产生电压差。掺杂区被连接到太阳能电池上的金属触点，以将电流从电池导向与其耦合的外部电路。效率是太阳能电池的重要特征，因为其与太阳能电池的发电能力直接相关。因此，能够提高太阳能电池效率的技术总是所希望的。本专利技术的实施例通过提供制造太阳能电池结构的新颖工艺提高了太阳能电池的效率。附图说明图1示出了常规工艺的模型热预算(thermalbudget)，用于同根据本专利技术实施例的用于在太阳能电池中制造隧道电介质层的降低的热预算工艺进行对比。图2示出了代表根据本专利技术实施例制造具有隧道电介质层的太阳能电池的方法的操作的流程图。图3A示出根据本专利技术的一个实施例在制造包括隧道电介质层的太阳能电池的一个阶段的剖视图。图3B示出根据本专利技术的一个实施例在制造包括隧道电介质层的太阳能电池的过程中与图2流程的操作202和图4流程的操作402相对应的阶段的剖视图。图3C示出根据本专利技术的一个实施例在制造包括隧道电介质层的太阳能电池的过程中与图2流程的操作204和图4流程的操作404相对应的阶段的剖视图。图4示出了代表根据本专利技术实施例制造具有隧道电介质层的太阳能电池的方法的操作的流程图。图5A示出根据本专利技术的一个实施例在结合水化和热生长操作之后的隧道氧化物厚度的曲线图。图5B示出根据本专利技术的一个实施例在结合水化和热生长操作之后的氧化物厚度的标准差的曲线图。图6A示出根据本专利技术的一个实施例的作为隧道电介质层的水化薄膜成分的厚度的函数的少数载流子寿命的曲线图。图6B示出根据本专利技术的一个实施例经过水化及热工艺组合的氧化物形成后的晶片的寿命的光致发光结果。具体实施方式本文描述了制造具有隧道电介质层的太阳能电池的方法。在下文的说明中阐述了许多具体细节(诸如具体的工艺流程操作)，以便提供对本专利技术的实施例的透彻理解。对于本领域技术人员来说，显然可以不利用这些具体细节来实现本专利技术的实施例。在其它实例中，没有对公知的制造技术(如光刻技术和蚀刻技术)进行详细描述，以免不必要地模糊本专利技术的实施例。此外应当理解，附图中示出的各种实施例为示例性表示并且不一定按比例绘制。本文公开了具有隧道电介质层的太阳能电池的制造方法。在一个实施例中，制造太阳能电池的方法包括将太阳能电池的衬底表面暴露到湿化学溶液中，以在衬底表面上提供氧化物层。然后在干燥气氛中以接近或超过900摄氏度的温度加热氧化物层，以将氧化物层转换成太阳能电池的隧道电介质层。在一个实施例中，制造太阳能电池的方法包括在低于摄氏600度的温度下，通过热氧化在太阳能电池的衬底表面上形成氧化物层。然后在干燥气氛中以接近或超过900摄氏度的温度加热该氧化物层，以将氧化物层转换成太阳能电池的隧道电介质层。本文还公开了太阳能电池。在一个实施例中，太阳能电池包括衬底。隧道电介质层设置在衬底上，通过仅在摄氏900度附近或更高的温度加热氧化物层一次来形成该隧道电介质层。根据本专利技术的一个实施例，多晶硅/隧道氧化工艺中的热预算被减小。例如在普通工艺中，隧道氧化层可在较低的压力下在约900摄氏度生长。然而，在一个实施例中，已经发现这种方法不足以获得最佳效率，因为热预算较高。较高的热预算会不利地增加循环时间和设备的磨损，这两个因素会提高整体生产成本。在一个特定实施例中，已经发现，传统方法会导致多晶硅沉积工艺中的高循环时间。根据本专利技术的一个实施例，隧道电介质层包括在太阳能电池中以阻挡少数载流子。在一个实施例中，隧道电介质层的厚度为约15埃。然而，在常规情况下形成这种隧道电介质层所需的热预算可能会加速在太阳能电池单元的其他部分(例如整块衬底的衬底、背接触太阳能电池)形成缺陷。因此，在应用传统的方法时，有可能在通过包括隧道电介质层所提供的益处与制造这样的层通常需要增加的热预算的破坏性影响之间取得折衷。因此，根据本专利技术的一个实施例，本专利技术提供的方法允许制造用于高效率太阳能电池设计中的隧道电介质层，并且具有减小的热预算。在一个实施例中，通过减少热预算，能够减少或减轻由于热暴露加剧而增加的缺陷。在一个特定的实施例中，用于提供隧道电介质层的制造工艺被限制为在接近或小于700摄氏度的温度下进行，在整个工艺中仅应用一次900摄氏度附近或更高的温度下的工艺。在一个特定的实施例中，这种方法也减少了总循环时间，提高了在线制造太阳能电池的效率。在一个实施例中，在太阳能电池的制造中改进了用于具有多晶硅触点的隧道结构的薄氧化硅(包括二氧化硅(SiO2))层的生长。例如，这种改进可包括一个或多个以下的膜属性：高性能并且较薄的隧道介电薄膜、可控厚度、可控质量、缩短的工艺循环时间和降低的工艺热预算。在一个实施例中，通过施加一个或多个本文描述的方法，可以在相对低的温度下(例如以降低的热预算)并以较短的循环时间在较宽的衬底上实现具有良好厚度控制的非常薄的氧化硅(例如，二氧化硅)隧道氧化物。在一个实施例中，在工艺炉中使用约为565摄氏度的峰值温度和减少了约1.5小时的循环时间。在一个实施例中，形成的水化氧化物使得晶片不太容易受到污染。上述实施例与包括在约900度摄氏和约500毫托的压强下进行生长的传统方法形成对比。在根据本专利技术的一个实施例中，使用水化和热氧化生长的组合来实现较薄并且高品质的氧化膜。在一个实施例中，氧化膜的厚度大约是在1-2纳米的范围内。在一个实施例中，使用氧化剂、溶液化学物和照射的组合来增加的氧化物的生长率，并且在该工艺的水化生长部分期间改善厚度的均匀性。在一个实施例中，所形成的氧化物随后在一个低温热操作期间进一步加厚，这同时提高了氧化物的水化生长部分的质量。在一个实施例中，水化生长和热生长技术相结合，并执行低温热氧化生长工艺(例如，减少了热预算)以提供高品质的隧道电介质层。在本专利技术的一个方面，制造隧道电介质层中的热预算与常规方法相比得到减少。例如，图1示出了常规工艺的模型热预算，用于同根据本专利技术实施例的用于在太阳能电池中制造隧道电介质层的降低的热预算工艺进行对比。参照图1，绘出了针对常规工艺102和根据本专利技术实施例的降低的热预算工艺104的模型热预算的曲线图100，其中以摄氏度为单位的温度作为按分钟表示的经过时间的函数。在一个实施例中，常规工艺102在隧道电介质层的制造中包含在接近或超过约900摄氏度加热超过一次。与此相反，在一个实施例中，降低的热预算工艺104在隧道电介质层的制造中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造太阳能电池的方法，所述方法包括：将太阳能电池的衬底的表面暴露于湿化学溶液，以在所述衬底的表面上提供硅氧化物层；以及在干燥气氛中以接近或超过900摄氏度的温度加热所述硅氧化物层，以将所述硅氧化物层转换成太阳能电池的隧道电介质层。

【技术特征摘要】
2010.07.02 US 12/829,9221.一种制造太阳能电池的方法，所述方法包括：将太阳能电池的衬底的表面暴露于湿化学溶液，以在所述衬底的表面上提供硅氧化物层；以及在干燥气氛中以接近或超过900摄氏度的温度加热所述硅氧化物层，以将所述硅氧化物层转换成太阳能电池的隧道电介质层。2.根据权利要求1所述的方法，其中在制造过程中仅将所述硅氧化物层暴露于接近或超过900摄氏度的温度一次。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述湿化学溶液包括从臭氧(O3)和过氧化氢(H2O2)构成的组中选择的氧化剂。4.根据权利要求3所述的方法，其中在暴露过程中将所述湿化学溶液和所述衬底的表面暴露于可见光辐射。5.根据权利要求1所述的方法，还包括：在暴露步骤之后以及在加热步骤之前，将所述硅氧化物层从低于500摄氏度的温度加热到大约565摄氏度的温度，然后冷却至低于500摄氏度的温度。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述衬底为体硅衬底。7.一种制造太阳能电池的方法，所述方法包括：在低于600摄氏度的温度下，通过热氧化消耗太阳能电池的衬底的一部分来提供所述衬底的表面氧化物层；以及在干燥气氛中以接近或超过900摄氏度的温度加热所述表面氧化物层，以将所述表面氧化物层转换成太阳能电池的隧道电介质层。8.根据权利要求7所述的方法，其中在制造过程中仅将所述表面氧化物层暴露于接近或超过9...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒂姆·丹尼斯，斯科特·哈林顿，简·曼宁，大卫·史密斯，安·瓦尔德豪尔，
申请(专利权)人：太阳能公司，
类型：发明
国别省市：美国,US