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本发明提供一种在借助溅射在成膜对象基板上形成金属层的情况下能够高效且可靠地进行冷却的技术。在形成有单一的真空气氛的真空槽(2)内具备基板保持器输送机构(3)，该基板保持器输送机构(3)具有沿着输送路径将保持成膜对象基板(50)的基板保持器(...
该专利属于株式会社爱发科所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社爱发科授权不得商用。

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