一种真空镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术实施例公开了一种真空镀膜设备。所述真空镀膜设备包括真空镀膜装置和真空预处理装置。真空预处理装置包括真空泵、真空舱室、设置于真空舱室内的载台、加热系统和真空测量系统。被镀件设置于载台上；真空泵与真空舱室联通，并对真空舱室进行抽真空；加热系统和真空测量系统设置于真空舱室内。本申请中的真空镀膜设备是将被镀件长时间置于高真空度的真空舱室内，高效地去除被镀件内残留的气体和杂质后再送入真空镀膜装置，进而保证真空镀膜装置室内的气氛成分稳定，从而使被镀件表面的膜层颜色均匀，活化被镀件表面，提高膜层结合力并改善膜层表面应力，保证真空镀膜工艺的稳定性和可重复性，提高被镀件生产的效率和良品率。

A vacuum coating equipment

The practical example of the utility model discloses a vacuum coating device. The vacuum coating equipment includes a vacuum coating device and a vacuum preprocessing device. The vacuum pretreatment device includes a vacuum pump, a vacuum chamber, a carrier platform, a heating system and a vacuum measuring system set in the chamber of the vacuum chamber. The plated parts are installed on the carrier, and the vacuum pump is connected with the vacuum cabin and vacuumed the vacuum cabin, and the heating system and the vacuum measurement system are set in the vacuum chamber. Vacuum coating equipment in this application are to be plated long time in high vacuum vacuum chamber, and then into the vacuum coating device to efficiently remove the plated piece within the residual gases and impurities, so as to ensure the stable atmosphere composition of vacuum coating device indoor, thereby being plated surface coating uniform colour. Activation by plating surface, improve film adhesion and improve the film surface stress, ensure the stability of vacuum coating technology and repeatability, improve the plating production efficiency and yield.

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜设备
本技术涉及真空镀膜
，特别涉及一种真空镀膜设备。
技术介绍
真空镀膜，是指在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀件的表面上，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽效果和镜面效果，膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。被镀件表面膜层颜色是否均匀、结合力是否牢固是判断镀膜质量是否优良的重要指标之一，若被镀件表面膜层颜色不均匀或是膜层出现脱落，则被镀件将作为不合格品而被丢弃。为保证被镀件镀膜质量优良，需要维持真空室内的气氛成分稳定。而被镀件在制作过程中其内有可能残留一些气体，如混合注塑件金属和塑胶注塑而成的被镀件，为了保证两者良好结合，两者会有复杂的界面或者孔隙，而这些孔隙中则可能存留一些水分气体或者其它的物体例如清洗液、抛光膏等。现有真空镀膜设备会设定对应的加热温度和真空度。当被镀件放置于真空镀膜设备后，真空镀膜设备启动并逐步达到其设定的加热温度和真空度。一般真空镀膜设备达到预定设定加热温度和预设真空度(如达到真空度6.0*10-3pa)后，就立即进入下一制程环节，不会预留长时间保持真空加热的过程。由于被镀件中的孔隙尺寸特别的微小，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空镀膜设备，包括真空镀膜装置，其特征在于，还包括真空预处理装置，所述真空预处理装置包括真空泵、真空舱室、设置于真空舱室内的载台、加热系统和真空测量系统；所述被镀件设置于所述载台上；所述真空泵与所述真空舱室联通，并对所述真空舱室进行抽真空；所述加热系统和所述真空测量系统设置于所述真空舱室内。

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备，包括真空镀膜装置，其特征在于，还包括真空预处理装置，所述真空预处理装置包括真空泵、真空舱室、设置于真空舱室内的载台、加热系统和真空测量系统；所述被镀件设置于所述载台上；所述真空泵与所述真空舱室联通，并对所述真空舱室进行抽真空；所述加热系统和所述真空测量系统设置于所述真空舱室内。2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述真空舱室内的真空度小于1×10-2Pa。3.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，在所述真空预处理装置进口处设置有与所述真空舱室连通的第一缓冲室。4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，在所述真空预处理装置出...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘彬，施利刚，陈美亚，王磊磊，
申请(专利权)人：北京实力源科技开发有限责任公司，
类型：新型
国别省市：北京,11