一种OLED基板及显示装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种OLED基板及显示装置，涉及显示技术领域，用于解决电极引线容易断线的问题，以确保OLED显示装置正常显示。所述OLED基板包括依次层叠设置的阵列基板、平坦化层和像素界定层；阵列基板的外围布线区域设有信号线，像素界定层的开口区域设有OLED；平坦化层与外围布线区域对应的表面设有第一导电引线，第一导电引线通过设于平坦化层的第一过孔与信号线连接；像素界定层与外围布线区域对应的表面设有电极引线，电极引线与OLED的上电极连接，且电极引线通过设于像素界定层的第二过孔与第一导电引线连接。本实用新型专利技术提供的OLED基板用于OLED显示。

A OLED substrate and display device

The utility model discloses a OLED substrate and display device, and relates to the display technology field, which is used to solve the problem that the lead wire is easy to disconnect, so as to ensure the normal display of the OLED display device. The OLED substrate includes an array substrate, a planarization layer which are sequentially overlapped with the pixel defining layer; peripheral array substrate wiring area is provided with a signal line, the opening area of the pixel defining layer is provided with a OLED flat surface; corresponding layer and the external wiring area is provided with a first conductive wire, a first conductive wire via a planarization layer the first hole is connected with a signal line; the surface layer and the periphery of the pixel defining corresponding wiring area with electrode wire, connecting electrode wire and OLED, and the electrode lead via a pixel defining layer second via holes and a first conductive wire connection. The OLED substrate provided by the utility model is used for the OLED display.

【技术实现步骤摘要】
一种OLED基板及显示装置
本技术涉及显示
，尤其涉及一种OLED基板及显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，简称为OLED)因具有高亮度、全视角、响应速度快以及可柔性显示等优点，而被广泛应用于显示领域。目前，在OLED基板中常用的OLED，主要有顶发光OLED、底发光OLED以及两面发光OLED三种。其中，采用顶发光OLED的OLED基板的结构如图1所示，该OLED基板包括具有显示区域A和外围布线区域B的阵列基板，OLED阵列设置在阵列基板位于显示区域A的表面。OLED的阳极31采用铟锡氧化物(IndiumTinOxide，简称ITO)材料形成在薄膜晶体管2背离衬底基板1的一侧，且与薄膜晶体管2的漏极连接；OLED的OLED发光层32形成在其阳极31背离薄膜晶体管2的表面；OLED的阴极33采用金属材料形成在OLED发光层32背离阳极31的表面，且OLED的阴极33利用穿过过孔4的电极引线91，与外围布线区域B的信号线5连接。然而，由于外围布线区域B的信号线5，一般由与显示区域A薄膜晶体管2的源漏极同层制作的金属层形成，当在薄膜晶体管2的源漏极表面层叠形成各膜层，比如钝化层6、平坦层7以及像素界定层8时，这些膜层也将依次层叠形成在信号线5的表面。因此，利用穿过过孔4的电极引线91来实现OLED的阴极33与信号线5的连接时，由于过孔4需要穿透多层膜层，使得过孔4的深度较深，当在过孔4中沉积制作电极引线91时，容易使得电极引线91出现断线的情形，导致信号线5无法与OLED的阴极33实现连接，进而导致OLED基板所在的OLED显示装置无法正常显示。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种OLED基板及显示装置，用于解决电极引线容易断线的问题，以确保OLED显示装置正常显示。为了实现上述目的，本技术提供如下技术方案：本技术的第一方面提供了一种OLED基板，包括依次层叠设置的阵列基板、平坦化层和像素界定层；阵列基板的外围布线区域设有信号线，像素界定层的开口区域设有OLED；平坦化层与外围布线区域对应的表面设有第一导电引线，第一导电引线通过设于平坦化层的第一过孔与信号线连接；像素界定层与外围布线区域对应的表面设有电极引线，电极引线与OLED的上电极连接，且电极引线通过设于像素界定层的第二过孔与第一导电引线连接。与现有技术相比，本技术提供的OLED基板具有如下有益效果：本技术提供的OLED基板，在与OLED的上电极连接的电极引线和信号线之间设置第一导电引线，且将第一导电引线设在平坦化层与外围布线区域对应的表面，使得第一导电引线通过设于平坦化层的第一过孔与信号线连接，而电极引线通过设于像素界定层的第二过孔与第一导电引线连接。这样在OLED上电极和信号线之间具有相同膜层的情况下，与OLED上电极和信号线之间只利用穿过过孔的电极引线连接相比，将电极引线和第一导电引线分区域设置在OLED上电极和信号线之间，可以相对减少电极引线所需穿透膜层的层数，也就是相对减小电极引线通过的第二过孔的深度，当在第二过孔中沉积制作电极引线时，能够避免出现电极引线因穿透膜层层数较多而断线的情形；而且，第一导电引线所需穿透膜层的层数，为OLED上电极和信号线之间除去电极引线穿透膜层后剩余膜层的层数，使得第一导电引线所需穿透膜层的层数也较少，能够减小第一导电引线通过的第一过孔的深度，当在第一过孔中沉积制作第一导电引线时，能够避免出现第一导电引线因穿透膜层层数较多而断线的情形。因此，与现有技术相比，本技术提供的OLED基板，在OLED上电极和信号线之间分区域设置电极引线和第一导电引线，易于使得电极引线和第一导电引线可靠成型，而避免其断线，确保OLED的上电极通过电极引线和第一导电引线能够与信号线可靠连接，从而确保OLED基板所在的OLED显示装置能够正常显示。基于上述OLED基板的技术方案，本技术的第二方面提供一种显示装置，所述显示装置包括上述技术方案所提供的OLED基板。与现有技术相比，本技术提供的显示装置所能实现的有益效果，与上述技术方案提供的OLED基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。附图说明此处所说明的附图用来提供对本技术的进一步理解，构成本技术的一部分，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：图1为现有技术中的OLED基板的剖视示意图；图2为本技术实施例提供的OLED基板的剖视示意图一；图3为本技术实施例提供的OLED基板的剖视示意图二。附图标记：1-衬底基板，2-薄膜晶体管，21-有源层，22-栅极，23-源漏极，31-阳极，32-OLED发光层，33-阴极，4-过孔，41-第二过孔，42-第一过孔，43-第三过孔，5-信号线，6-钝化层，7-平坦化层，8-像素界定层，91-电极引线，92-第一导电引线，93-第二导电引线，10-栅绝缘层，11-层间绝缘层。具体实施方式为便于理解，下面结合说明书附图，对本技术实施例提供的OLED基板及显示装置进行详细描述。请参阅图2，本技术实施例提供的OLED基板，包括依次层叠设置的阵列基板、平坦化层7和像素界定层8；阵列基板的外围布线区域B设有信号线5，像素界定层8的开口区域设有OLED；平坦化层7与外围布线区域B对应的表面设有第一导电引线92，第一导电引线92通过设于平坦化层7的第一过孔42与信号线5连接；像素界定层8与外围布线区域B对应的表面设有电极引线91，电极引线91与OLED的上电极连接，且电极引线91通过设于像素界定层8的第二过孔41与第一导电引线92连接。上述OLED通常包括相对设置的下电极和上电极，以及位于上电极和下电极之间的OLED发光层32；其中，下电极是指形成在位于像素界定层8的开口区域内的平坦化层7表面的电极，而上电极是指形成在OLED发光层背向下电极的表面的电极。需要说明的是，虽然下电极形成在位于像素界定层8的开口区域内的平坦化层7表面，但是为了方便OLED制作工艺的实施，通常在制作像素界定层8之前，先在平坦化层7与像素界定层8开口区域对应的表面形成OLED的下电极，然后依次层叠制作像素界定层8、OLED发光层32以及OLED的上电极。上述OLED中，其上电极可以作为阴极，也可以作为阳极：当上电极作为阴极时，对应的下电极则作为阳极；而当上电极作为阳极时，对应的下电极则作为阴极。例如图2所示的实施例中，OLED的上电极作为阴极33，通常采用金属材料制作形成；而其下电极作为阳极31，通常采用铟锡氧化物(IndiumTinOxide，简称ITO)材料制作形成，当然，下电极也可以采用由ITO材料及金属材料制作的叠层结构，比如ITO和银(Ag)的叠层结构，或ITO和镁(Mg)的叠层结构等，以使得下电极具有更为优良的导电性能。另外，OLED发光层32可以为单层结构，例如OLED发光层32仅包括设置在上电极与下电极之间的有机发光层；OLED发光层32也可以为多层结构，例如OLED发光层32包括设置在上电极与下电极之间的空穴传输层、有机发光层以及电子传输层等。具体实施时，本技术实施例提供的OLED基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种OLED基板，包括依次层叠设置的阵列基板、平坦化层和像素界定层；所述阵列基板的外围布线区域设有信号线，所述像素界定层的开口区域设有OLED；其特征在于，所述平坦化层与外围布线区域对应的表面设有第一导电引线，所述第一导电引线通过设于所述平坦化层的第一过孔与所述信号线连接；所述像素界定层与外围布线区域对应的表面设有电极引线，所述电极引线与所述OLED的上电极连接，且所述电极引线通过设于所述像素界定层的第二过孔与所述第一导电引线连接。

【技术特征摘要】
1.一种OLED基板，包括依次层叠设置的阵列基板、平坦化层和像素界定层；所述阵列基板的外围布线区域设有信号线，所述像素界定层的开口区域设有OLED；其特征在于，所述平坦化层与外围布线区域对应的表面设有第一导电引线，所述第一导电引线通过设于所述平坦化层的第一过孔与所述信号线连接；所述像素界定层与外围布线区域对应的表面设有电极引线，所述电极引线与所述OLED的上电极连接，且所述电极引线通过设于所述像素界定层的第二过孔与所述第一导电引线连接。2.根据权利要求1所述的OLED基板，其特征在于，所述OLED包括相对设置的下电极和上电极，以及位于上电极和下电极之间的OLED发光层；其中，所述下电极形成在位于所述像素界定层的开口区域内的平坦化层表面，且所述下电极与所述第一导电引线绝缘；所述上电极形成在所述OLED发光层背向所述下电极的表面。3.根据权利要求1所述的OLED基板，其特征在于，所述第一导电引线的数量为至少一条；所述第一过孔与所述第一导电引线一一对应，且每条所述第一导电引线均通过对应的一个所述第一过孔，与所述信号线连接；所述第二过孔与所述第一导电引线一一对应，且所述电极引线通过每个所述第二过孔，分别与对应的一条所述第一导电引线连接。4.根据权利要求3所述的OLED基板，其特征在于，在与一条第一导电引线分别对应的第一过孔和第二过孔中，所述第一过孔的中心线与所述第二过孔的中心线不处在同一条直线。5.根据权利要求1-4任一项所述的OLED基板，其特征在于，所述信号线与所述阵列基板中薄膜晶体管的源漏极同层设置，且所述信号线与所述源漏极绝缘；所述平坦化层面向所述信号线的表面设有钝化层，所述第一过孔贯通所述钝化层。6.根据权利要求1所述的OLED基...

【专利技术属性】
技术研发人员：张玉欣，程鸿飞，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11