一种闭环控制靶台温度的方法技术
A method of closed-loop control of target temperature
The invention discloses a method for closed-loop control, the target temperature includes IPC (1) and a controller (2), a cooling device (3) and the target (4), PID (5) algorithm. This method obtained by PID algorithm on target temperature value and temperature setting, can make the control of the temperature of the target more accurately. The instructions made a detailed description of a method of target temperature closed-loop control, and gives the specific implementation plan. The invention relates to an ion injection device, which belongs to the field of semiconductor manufacturing.
【技术实现步骤摘要】
一种闭环控制靶台温度的方法
本专利技术涉及一种闭环控制靶台温度的方法，涉及离子注入机，属于半导体装备制造领域。
技术介绍
离子注入机隶属于半导体装备领域，随着集成电路的迅猛发展，半导体装备制造的发展趋势日益明显。离子注入机设备由许多运动部件构成，为保证设备的正常运行，需要对运动部件进行降温冷却，一般采取的方法都是在运动部件周围安装水冷系统，以此降低运动部件的温度。为了保证运动部件维持在一个恒定温度，本系统设计了一种闭环控制方法，可用于精确控制离子注入机运动部件的温度。本控制系统结构简单，测量与控制精确、可靠。
技术实现思路
本专利技术公开了一种闭环控制靶台温度的方法，该专利技术应用于离子注入机，该系统用于精确控制离子注入机靶台的温度，保证设备正常运行。本专利技术专利通过以下技术方案来实现：1.根据设备要求，工控机设定冷却装置温度值(1)。2.工控机设定冷却装置温度值(1)通过控制器(2)实现D/A转换传输给冷却装置(3)，冷却装置(3)通过改变自身功率大小调节靶台温度，靶台反馈温度(4)经过控制器(5)的A/D转换，然后经过PID算法(6)计算得到温度值(7)。3.比较工控机设定冷却装置温度值(1)和PID算法得到的温度值(7)，如果工控机设定靶台冷却温度值过高，则减小冷却装置功率，从而使靶台温度升高，也使PID算法得到的温度值增加；如果工控机设定靶台冷却温度值过低，则增大冷却装置功率，从而使靶台温度降低，也使PID算法得到的温度值降低。通过闭环控制，最后使PID算法得到的温度值无限接近工控机设定值，减小温度误差。本专利技术具有如下显著优点：1.通过工控机设定...
【技术保护点】
一种闭环控制靶台温度的方法，其特征在于：工控机(1)、控制器(2)、冷却装置(3)、靶台(4)、PID算法(5)。
【技术特征摘要】
1.一种闭环控制靶台温度的方法，其特征在于：工控机(1)、控制器(2)、冷却装置(3)、靶台(4)、PID算法(5)。2.如权利要求1所述的一种闭环控制靶台温度的方法，其特征在于：通过工控机设定靶台温度值和PID算法得到的靶台温度值多次进行比较，使得PID算法得到的靶台温度值无限接近工控机的输入值，使...
【专利技术属性】
技术研发人员：高婷婷，
申请(专利权)人：北京中科信电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11
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