The invention discloses a multi arc ion plating machine for aluminum processing, which comprises a vacuum chamber, a vacuum chamber is arranged on the outer surface of the small arc source and electromagnetic control large arc source, a vertical vacuum chamber is provided with a column arc source, vacuum chamber at the bottom of a rotary target table, left and right ends rotating targets with the workpiece frame, the bottom end of the vacuum chamber are respectively arranged on both sides of the vacuum pumping system and gas supply system, vacuum chamber at the bottom of a hollow hold, hold in a hollow serve rotating rotary motor, the center of the bottom of the target position is provided with a cylindrical hole, around the cylindrical hole is provided with a guide sleeve, serve rotating motor is connected to the rotation rod, rotary rod through the vacuum chamber at the bottom of the column in the rivet hole, clamps between the guide sleeve and rotating shaft, rotating the target platform provided with a sheathing hole, the workpiece frame by a plurality of first bearing. In the casing hole, the structure is simple, the coating is stable, the uniformity of the film forming and the efficiency of the coating are improved, and the yield of the coating is improved.
【技术实现步骤摘要】
一种铝板加工用多弧型离子镀膜机
本专利技术涉及铝板加工
,具体为一种铝板加工用多弧型离子镀膜机。
技术介绍
电弧离子镀作为制备各种功能膜与装饰膜的主流技术,在近十年获得了长足的发展,它已被广泛应用于工业生产中的各种刀、模具等耐磨损材料的表面强化及日常生活中各种金属制品、工艺品的表面美化工艺。作为离子镀的关键技术——弧源技术也得到了飞速发展。目前在铝板加工时,需要对其表面连续镀制各种多层膜及复合化合物膜,以对铝板起到保护的作用,但是在镀膜的过程中,由于旋转力度和转速的因素,导致镀膜的效率低,而且成膜不稳定,导致铝板上的镀膜层不均匀,严重的降低了镀膜的成品率,并且由于只是旋转靶台的旋转,导致对旋转动力的需求大,耗费大量的电能。
技术实现思路
为了克服现有技术方案的不足,本专利技术提供一种铝板加工用多弧型离子镀膜机,结构简单,镀膜稳定,提高了真空室内各点成膜的一致性,间接起到铝板加工时稳弧的作用,提高了镀膜的效率,提升了镀膜的成品率,节约成本,可以有效解决
技术介绍
中的问题。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种铝板加工用多弧型离子镀膜机,包括真空室1,所述真空室1的内表面上设有小多弧源2和电磁控大面积弧源3,且在真空室1的竖向中心上设有柱弧源4,所述真空室1的底端设有旋转靶台5,所述旋转靶台5的左右两端均设有工件架6,在真空室1的底端两侧还分别设有真空抽气系统7和送气系统8;所述真空室1底部设有中空容纳间9,所述中空容纳间9内设有伺候旋转电机10,所述旋转靶台5底部中心位置处设有柱形孔11,绕所述柱形孔11外设有导向套筒12,所述伺候旋转电机10连接 ...
【技术保护点】
一种铝板加工用多弧型离子镀膜机,包括真空室(1),其特征在于:所述真空室(1)的内表面上设有小多弧源(2)和电磁控大面积弧源(3),且在真空室(1)的竖向中心上设有柱弧源(4),所述真空室(1)的底端设有旋转靶台(5),所述旋转靶台(5)的左右两端均设有工件架(6),在真空室(1)的底端两侧还分别设有真空抽气系统(7)和送气系统(8);所述真空室(1)底部设有中空容纳间(9),所述中空容纳间(9)内设有伺候旋转电机(10),所述旋转靶台(5)底部中心位置处设有柱形孔(11),绕所述柱形孔(11)外设有导向套筒(12),所述伺候旋转电机(10)连接有旋转杆(13),所述旋转杆(13)穿过所述真空室(1)底端,且旋转杆(13)铆接在所述柱形孔(11)内,所述导向套筒(12)与所述旋转杆(13)之间通过卡箍(14)固定,所述旋转靶台(5)上设有套接孔(15),所述工件架(6)通过若干个第一轴承(16)固定安装在所述套接孔(15)内。
【技术特征摘要】
1.一种铝板加工用多弧型离子镀膜机,包括真空室(1),其特征在于:所述真空室(1)的内表面上设有小多弧源(2)和电磁控大面积弧源(3),且在真空室(1)的竖向中心上设有柱弧源(4),所述真空室(1)的底端设有旋转靶台(5),所述旋转靶台(5)的左右两端均设有工件架(6),在真空室(1)的底端两侧还分别设有真空抽气系统(7)和送气系统(8);所述真空室(1)底部设有中空容纳间(9),所述中空容纳间(9)内设有伺候旋转电机(10),所述旋转靶台(5)底部中心位置处设有柱形孔(11),绕所述柱形孔(11)外设有导向套筒(12),所述伺候旋转电机(10)连接有旋转杆(13),所述旋转杆(13)穿过所述真空室(1)底端,且旋转杆(13)铆接在所述柱形孔(11)内,所述导向套筒(12)与所述旋转杆(13)之间通过卡箍(14)固定,所述旋转靶台(5)上设有套接孔(15),所述工件架(6)通过若干个第一轴承(16)固定安装在所述套接孔(15)内。2.根据权利要求1...
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