一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备制造技术

本实用新型专利技术属于管内壁薄膜沉积领域，具体来讲是一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备。该设备包括置于真空室内的管状等离子靶材，管状真空聚焦永磁体，等离子弧引弧装置，其中，管状等离子靶材的两端通过绝缘密封法兰与真空室壳连接上，管状工件非接触套于管状等离子靶材上，两组以上的管状真空聚焦永磁体在管状等离子靶材管内沿管向按反向磁极顺序排放，聚焦控制分布电弧，离化弧靶材料。本实用新型专利技术可将镀膜材料的阴离子导入到管内壁更深的区域。本实用新型专利技术解决电弧离子镀沉积深管内壁深度不够、涂层不均匀的难题，提出一种在现有电弧离子镀技术的基础上制作简单、成本低廉、易于实施的设计思路，拓展电弧离子镀技术在沉积管内壁方面的应用范围。

【技术实现步骤摘要】
一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备
本技术属于管内壁薄膜沉积领域，具体来讲是一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备。
技术介绍
电弧离子镀(AIP)作为一种相对较新的物理气相沉积(PVD)薄膜的技术(也称为真空弧光蒸镀、多弧离子镀)由于镀层质量高、结合力好、成膜均匀、沉积速率快等优点，在机械工业、冶金、高温防护、装饰材料等方面得到广泛应用。电弧离子镀的基本组成包括真空镀膜室、阴极弧源、工件、真空系统等。电弧离子镀的技术原理主要基于冷阴极真空放电理论，阴极弧源产生的金属等离子体自动维持阴极和镀膜室之间的弧光放电，弧斑的电流密度可达105～107A/cm2。在阴极附近形成的金属等离子体主要由电子、正离子、熔滴和中性金属原子组成，其中原子仅占很小比例，一般低于2％。对于单元素金属靶材，离子比例大约可达30％～100％，离子的动能一般在10eV～100eV范围内。长期以来，电弧离子镀的研究集中在刀具、各种轴类、叶片等工件外表面沉积硬质涂层、装饰涂层、防护涂层方面，对于内表面的镀膜技术研究甚少。而在工业应用中，需要对内表面做改性处理的工件还有很多，尤其是管内壁的表面改性，例如：输油管道、化工管道、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备，其特征在于，该设备包括置于真空室内的管状等离子靶材、管状真空聚焦永磁体、等离子弧引弧装置；其中，管状等离子靶材的两端通过绝缘密封法兰与真空室壳连接上，管状工件非接触套于管状等离子靶材上，两组以上的管状真空聚焦永磁体在管状等离子靶材管内沿管向按反向磁极顺序排放，聚焦控制分布电弧，离化弧靶材料。

【技术特征摘要】
1.一种沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备，其特征在于，该设备包括置于真空室内的管状等离子靶材、管状真空聚焦永磁体、等离子弧引弧装置；其中，管状等离子靶材的两端通过绝缘密封法兰与真空室壳连接上，管状工件非接触套于管状等离子靶材上，两组以上的管状真空聚焦永磁体在管状等离子靶材管内沿管向按反向磁极顺序排放，聚焦控制分布电弧，离化弧靶材料。2.按照权利要求1所述的沉积管内壁涂层的电弧离子镀设备，其特征在于，等离子弧引弧装置通过绝缘密封法兰安装在真空室上，等离子弧引弧装置包括露于真空室外部的旋转柄以及位于真空室内与旋...

【专利技术属性】
技术研发人员：华伟刚，曲士广，
申请(专利权)人：曲士广，华伟刚，
类型：新型
国别省市：山东,37