辐射检查系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种辐射检查系统，包括：辐射成像装置；以及控制装置，用于控制辐射成像装置以第一扫描模式对被检测物体进行辐射扫描成像，以得到扫描图像，其中，在扫描图像中存在需要复检的复检嫌疑区域的情况下，控制辐射成像装置使用第二扫描模式对被检测物体上与复检嫌疑区域相对应的部分进行辐射扫描成像，以得到复检图像，第二扫描模式不同于第一扫描模式。由此，通过以不同于第一扫描模式的第二扫描模式对需要复检的复检嫌疑区域进行扫描，可以基于得到的复检图像准确、方便地确定扫描图像中的需要复检的复检嫌疑区域是否存在问题。

【技术实现步骤摘要】
辐射检查系统
本技术涉及辐射成像
，特别是涉及一种辐射检查系统。
技术介绍
利用辐射成像对车辆及货物等大型目标进行检查已是比较成熟的安检技术，根据成像原理不同，主要有透射式辐射成像和散射式辐射成像两大类。一般来说，透射式辐射成像系统主要由辐射源、位于被扫描物体另一侧的探测器组成，辐射源用于向被扫描物体发射扫描射线束，探测器用于接收从被扫描物体透射的辐射信号，所接收到的辐射信号反应了被照物体的密度和厚度等信息，可显示物体的内部结构，因此可以根据探测器探测到的辐射信号形成被检测物体的透射图像。基于透射式辐射成像原理形成的透射图像显示的是扫描射线束路在传播径上穿透的所有物质的投影信息，因此在扫描射线束的传播路径上的被检查物体是多个叠加物体时，基于探测器接收到的透射信号形成的透射图像不能很好地分辨前后重叠的多个物体。散射式辐射成像系统主要通过收集被检测物体散射的射线进行成像。当系统收集的散射的射线的散射角在90°～180°之间时，称之为背散射成像，利用背散射的特点，可以在系统获取的图像上高亮显示低原子序数的物质。利用背散射成像技术对被检测物体进行检测时，不利于探测到隐藏在吸收系数较大的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种辐射检查系统，其特征在于，包括：辐射成像装置，用于以第一扫描模式对被检测物体进行辐射扫描成像，以得到扫描图像，并且在所述扫描图像中存在需要复检的复检嫌疑区域的情况下，以第二扫描模式对所述被检测物体上与复检嫌疑区域相对应的部分进行辐射扫描成像以得到复检图像，所述第二扫描模式不同于所述第一扫描模式；以及控制装置，用于控制所述辐射成像装置在所述第一扫描模式和所述第二扫射模式之间切换。

【技术特征摘要】
1.一种辐射检查系统，其特征在于，包括：辐射成像装置，用于以第一扫描模式对被检测物体进行辐射扫描成像，以得到扫描图像，并且在所述扫描图像中存在需要复检的复检嫌疑区域的情况下，以第二扫描模式对所述被检测物体上与复检嫌疑区域相对应的部分进行辐射扫描成像以得到复检图像，所述第二扫描模式不同于所述第一扫描模式；以及控制装置，用于控制所述辐射成像装置在所述第一扫描模式和所述第二扫射模式之间切换。2.根据权利要求1所述的辐射检查系统，其特征在于，所述辐射成像装置在所述第二扫描模式下的第二扫描速度大于在所述第一扫描模式下的第一扫描速度，并且/或者，所述辐射成像装置在所述第二扫描模式下的第二扫描视角或第二扫描视角组合不同于在所述第一扫描模式下的第一扫描视角或第一扫描视角组合，其中，扫描视角为入射到被检测物体的射线束的发射方向与被检测物体与辐射成像系统的相对运动方向之间的夹角，并且/或者所述辐射成像装置在所述第二扫描模式下发射的第二扫描射线束的能量大于在所述第一扫描模式下发射的第一扫描射线束的能量，并且/或者所述辐射成像装置在所述第二扫描下发射的第二扫描射线束的射线剂量率大于在所述第一扫描模式下发射的第一扫描射线束的射线剂量率。3.根据权利要求2所述的辐射检查系统，其特征在于，第一扫描模式下的第一扫描视角下入射到被检测物体的第一扫描射线束的发射方向基本上垂直于被检测物体与辐射成像系统的相对运动方向，第二扫描模式下的第二扫描视角与所述第一扫描视角的夹角大于或等于5°。4.根据权利要求1所述的辐射检查系统，其特征在于，还包括：检测装置，在所述检测装置检测到被检测物体进入扫描区域时，所述控制装置控制所述辐射成像装置发射扫描射线束，在所述检测装置检测到被检测物...

【专利技术属性】
技术研发人员：王少锋，曹艳锋，王彦华，李苏祺，郭近贤，
申请(专利权)人：北京君和信达科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11