一种真空镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜装置，包括真空室、第一镀膜锅、第二镀膜锅和离子束发生器，所述真空室的一侧连接有控制面板，所述真空室的底部卡接有底座，所述底座的底端固定卡接有支撑脚，所述真空室的内部底端设有第一镀膜锅，所述第一镀膜锅的底端一侧设有缓冲垫，所述真空室的顶部设有联轴器，所述联轴器的一端传动连接有活塞杆，所述联轴器的另一端连接有驱动气缸。本实用新型专利技术结构合理，使用简单，通过将镀膜装置设计为开口锅状，分别为第一镀膜锅和第二镀膜锅，在第二镀膜锅的一端连接有转轴，在转轴的一端连接有活塞杆,活塞杆和转轴使得第二镀膜锅慢慢的转动，从而增加了真空镀膜的效率和质量。

A vacuum coating device

The utility model discloses a vacuum coating device, which comprises a vacuum chamber, the first coating pot, second pan coating and ion beam generator, one side of the vacuum chamber is connected with a control panel, wherein the bottom of the vacuum chamber is connected with a base, wherein the base is fixedly clamped support foot, the the bottom of the inside of the vacuum chamber is provided with a first coating pot, the first coating pot bottom is arranged on one side of the cushion, the top of the vacuum chamber is provided with a coupling end of the drive shaft coupling is connected with a piston rod, wherein the coupling is connected with the other end of the drive cylinder. The utility model has the advantages of reasonable structure, easy to use, the device designed for opening pot shaped respectively, the first and second coating coating pot pot, in the end of the second coating pot is connected with a rotary shaft, a piston rod connected at one end of the shaft, the piston rod and the shaft makes second coating pot slowly rotating, thereby increasing the efficiency and the quality of vacuum coating.

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜装置
本技术涉及镀膜
，特别涉及一种真空镀膜装置。
技术介绍
一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。在进行真空镀膜的过程中，通常将待镀膜的基片放入真空室内，并由安装在基片承载部上的夹具对基片进行夹持，由离子源对置放在镀膜材料置放部的镀膜材料进行轰击，使镀膜材料溅射并均匀沉积在基片表面，在长期进行镀膜材料的轰击，会在夹具上堆积较多的镀膜材料，就会造成镀膜材料的浪费，增加生产的成本。
技术实现思路
本技术提出了一种真空镀膜装置，解决了现有镀膜装置使用效果差等问题。为了解决上述技术问题，本技术提供了如下的技术方案：本技术一种真空镀膜装置，包括真空室、第一镀膜锅、第二镀膜锅和离子束发生器，所述真空室的一侧连接有控制面板，所述真空室的底部卡接有底座，所述底座的底端固定卡接有支撑脚，所述真空室的内部底端设有第一镀膜锅，所述第一镀膜锅的底端一侧设有缓冲垫，所述真空室的顶部设有联轴器，所述联轴器的一端传动连接有活塞杆，所述活塞杆的一端连接有驱动气缸，所述活塞杆的下端卡接有转轴，所述转轴的下端卡接有第二镀膜锅，所述第二镀膜锅的内部底侧安装有卡爪安装盘，所述卡爪安装盘的底侧卡接有卡爪，所述第一镀膜锅的内部底端设有离子束发生器，所述离子束发生器的一侧安装有镀膜料放置腔，所述镀膜料放置腔的一侧设有镀膜喷头，所述第一镀膜锅的一侧安装有电控盒，所述镀膜喷头的一侧开有镀膜喷孔，所述离子束发生器与电控盒电性连接。作为本技术的一种优选技术方案，所述控制面板的表面设有液晶显示屏、电源开关按键和功能按键。作为本技术的一种优选技术方案，所述卡爪设有四个，且卡爪之间等间距分布。作为本技术的一种优选技术方案，所述真空室的内部侧壁上设有密封垫。作为本技术的一种优选技术方案，所述第一镀膜锅和第二镀膜锅的形状大小相同，且第一镀膜锅和第二镀膜锅均为开口状。本技术所达到的有益效果是：本技术结构合理，使用简单，通过将镀膜装置设计为开口锅状，分别为第一镀膜锅和第二镀膜锅，在第二镀膜锅的一端连接有转轴，在转轴的一端连接有活塞杆,活塞杆和转轴使得第二镀膜锅慢慢的转动，从而增加了真空镀膜的效率和质量，第一镀膜锅和第二镀膜锅的形状大小相同，并且都可以进行拆卸，在镀膜过的过程中，第二镀膜锅上的基板会出现镀膜料的堆积，然后将基板拆卸，安装在第一镀膜锅上，使用离子束发生器进行镀膜，使得第二镀膜锅上堆积的镀膜料再次利用，避免镀膜料的浪费，减少成本。附图说明附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：图1是本技术的一种真空镀膜装置的结构示意图；图2是本技术的一种真空镀膜装置的第一镀膜锅结构示意图；图中：1、真空室；2、控制面板；3、缓冲垫；4、底座；5、支撑脚；6、第一镀膜锅；7、卡爪；8、密封垫；9、第二镀膜锅；10、活塞杆；11、驱动气缸；12、联轴器；13、转轴；14、卡爪安装盘；15、镀膜喷孔；16、离子束发生器；17、镀膜料放置腔；18、电控盒；19、镀膜喷头。具体实施方式以下结合附图对本技术的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本技术，并不用于限定本技术。如图1和图2所示，本技术一种真空镀膜装置，包括真空室1、第一镀膜锅6、第二镀膜锅9和离子束发生器16，真空室1的一侧连接有控制面板2，真空室1的底部卡接有底座4，底座4的底端固定卡接有支撑脚5，真空室1的内部底端设有第一镀膜锅6，第一镀膜锅6的底端一侧设有缓冲垫3，真空室1的顶部设有联轴器12，联轴器12的一端传动连接有活塞杆10，活塞杆10的一端连接有驱动气缸11，活塞杆10的下端卡接有转轴13，转轴13的下端卡接有第二镀膜锅9，第二镀膜锅9的内部底侧安装有卡爪安装盘14，卡爪安装盘14的底侧卡接有卡爪7，第一镀膜锅6的内部底端设有离子束发生器16，离子束发生器16的一侧安装有镀膜料放置腔17，镀膜料放置腔17的一侧设有镀膜喷头19，第一镀膜锅6的一侧安装有电控盒18，镀膜喷头19的一侧开有镀膜喷孔15，离子束发生器16与电控盒18电性连接。进一步，控制面板2的表面设有液晶显示屏、电源开关按键和功能按键。进一步，卡爪7设有四个，且卡爪7之间等间距分布。进一步，真空室1的内部侧壁上设有密封垫8，使得内部的真空效果更好。进一步，第一镀膜锅6和第二镀膜锅9的形状大小相同，且第一镀膜锅6和第二镀膜锅9均为开口状，提高真空镀膜的效率和质量。本技术工作原理：在使用时，首先，打开控制面板2上的电源开关按键，设备开始运行，将镀膜料放置在第一镀膜锅6中的镀膜料放置腔17内，将需要镀膜的物件放置在卡爪7上，驱动气缸11使得活塞杆10向下移动，使得第二镀膜锅9与第一镀膜锅6相吻合，活塞杆10一端的转轴13带动卡爪安装盘14慢慢的转动，卡爪安装盘14从而带动卡爪7慢慢的转动，可以使得需要镀膜的物件均匀的进行镀膜处理，第一镀膜锅6中的离子束发生器16发射出离子束，使得镀膜料放置腔17中的镀膜料通过镀膜喷头19上的镀膜喷孔15喷出，然后在卡爪7上的镀膜物件进行镀膜处理，在镀膜的过程中，第二镀膜锅9上的基板接收到镀膜料，可以将基板拆下，然后安装在第一镀膜锅6上镀膜料放置腔17的一侧，再次使用离子束发生器16进行离子冲击，可以避免镀膜料的浪费，节约了生产的成本。最后应说明的是：以上仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空镀膜装置，包括真空室(1)、第一镀膜锅(6)、第二镀膜锅(9)和离子束发生器(16)，其特征在于，所述真空室(1)的一侧连接有控制面板(2)，所述真空室(1)的底部卡接有底座(4)，所述底座(4)的底端固定卡接有支撑脚(5)，所述真空室(1)的内部底端设有第一镀膜锅(6)，所述第一镀膜锅(6)的底端一侧设有缓冲垫(3)，所述真空室(1)的顶部设有联轴器(12)，所述联轴器(12)的一端传动连接有活塞杆(10)，所述活塞杆(10)的一端连接有驱动气缸(11)，所述活塞杆(10)的下端卡接有转轴(13)，所述转轴(13)的下端卡接有第二镀膜锅(9)，所述第二镀膜锅(9)的内部底侧安装有卡爪安装盘(14)，所述卡爪安装盘(14)的底侧卡接有卡爪(7)，所述第一镀膜锅(6)的内部底端设有离子束发生器(16)，所述离子束发生器(16)的一侧安装有镀膜料放置腔(17)，所述镀膜料放置腔(17)的一侧设有镀膜喷头(19)，所述第一镀膜锅(6)的一侧安装有电控盒(18)，所述镀膜喷头(19)的一侧开有镀膜喷孔(15)，所述离子束发生器(16)与电控盒(18)电性连接。

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜装置，包括真空室(1)、第一镀膜锅(6)、第二镀膜锅(9)和离子束发生器(16)，其特征在于，所述真空室(1)的一侧连接有控制面板(2)，所述真空室(1)的底部卡接有底座(4)，所述底座(4)的底端固定卡接有支撑脚(5)，所述真空室(1)的内部底端设有第一镀膜锅(6)，所述第一镀膜锅(6)的底端一侧设有缓冲垫(3)，所述真空室(1)的顶部设有联轴器(12)，所述联轴器(12)的一端传动连接有活塞杆(10)，所述活塞杆(10)的一端连接有驱动气缸(11)，所述活塞杆(10)的下端卡接有转轴(13)，所述转轴(13)的下端卡接有第二镀膜锅(9)，所述第二镀膜锅(9)的内部底侧安装有卡爪安装盘(14)，所述卡爪安装盘(14)的底侧卡接有卡爪(7)，所述第一镀膜锅(6)的内部底端设有离子...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘远能，张震，
申请(专利权)人：浙江优尼特新能源有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33