一种阵列基板及其制备方法、显示面板技术

本发明专利技术提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，包括：基板；形成在所述基板上的阳极层及第一像素界定层；覆盖在所述阳极层上的发光层；形成在所述第一像素界定层上的第二像素界定层，所述第二像素界定层覆盖所述发光层的边缘区域，从而解决了因“咖啡环”效应导致膜层不均匀的问题。

An array substrate and its preparation method and display panel

The present invention provides an array substrate and a preparation method thereof, the display panel includes a substrate on the substrate; the anode layer and the first pixel defining layer is formed; covering the light emitting layer on the anode layer; in the first second pixel pixel defining layer on the definition of the second layer is formed. The pixel defining layer covering the luminous layer edge region, so as to solve the problem of uneven film caused by the \coffee ring\ effect.

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制备方法、显示面板
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。
技术介绍
在显示
中，现有的显示器件中的膜层制作方法主要包括喷墨印刷、微转印印刷、旋涂等。采用其中的喷墨印刷等方法制备膜层时，当膜层溶液滴落到像素区后，靠近像素界定层的液面会略高于中间区域，造成边缘厚度高于中间厚度，即会出现咖啡环效应，由于“咖啡环”效应的存在，将导致像素区内形成的膜层出现中间薄，两边厚，也即膜层不均匀，从而使显示器件的显示亮度不均匀。
技术实现思路
本专利技术提供了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，以解决目前形成膜层时，因“咖啡环”效应导致膜层不均匀的问题。为了解决上述问题，本专利技术公开了一种阵列基板，包括：基板；形成在所述基板上的阳极层及第一像素界定层；覆盖在所述阳极层上的发光层；形成在所述第一像素界定层上的第二像素界定层，所述第二像素界定层覆盖所述发光层的边缘区域。优选的，所述第二像素界定层在所述基板上的正投影覆盖所述第一像素界定层在所述基板上的正投影。优选的，所述第一像素界定层在所述基板上呈渐缩结构。优选的，所述第一像素界定层在所述基板上呈渐缩本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：基板；形成在所述基板上的阳极层及第一像素界定层；覆盖在所述阳极层上的发光层；形成在所述第一像素界定层上的第二像素界定层，所述第二像素界定层覆盖所述发光层的边缘区域。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：基板；形成在所述基板上的阳极层及第一像素界定层；覆盖在所述阳极层上的发光层；形成在所述第一像素界定层上的第二像素界定层，所述第二像素界定层覆盖所述发光层的边缘区域。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二像素界定层在所述基板上的正投影覆盖所述第一像素界定层在所述基板上的正投影。3.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一像素界定层在所述基板上呈渐缩结构。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第一像素界定层在所述基板上呈渐缩结构包括：所述第一像素界定层包括靠近所述基板的第一部分和远离所述基板的第二部分，所述第二部分在所述基板上的正投影部分覆盖所述第一部分在所述基板上的正投影，并部分覆盖所述第二像素界定层在所述基板上的正投影；所述发光层的边缘区域形成在由所述第二像素界定层、所述第一部分和所述第二部分形成的间隙中。5.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第一像素界定层在所述基板上呈渐缩结构包括：所述第一像素界定层呈阶梯结构且阶梯宽...

【专利技术属性】
技术研发人员：张玉欣，程鸿飞，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11