高红外线穿透率结构制造技术

一种高红外线穿透率结构具有一基材、一红外线油墨层以及一抗反射层。红外线油墨层形成于基材之上，而抗反射层形成于红外线油墨层之上，以提升红外线的穿透率。

High infrared penetration rate structure

A high infrared penetration rate structure has a substrate, an infrared ink layer and an anti reflection layer. The infrared ink layer is formed on the base material, and the anti reflective layer is formed on the infrared ink layer to improve the penetration rate of the infrared.

【技术实现步骤摘要】
高红外线穿透率结构
本专利技术是关于一种高红外线穿透率结构，特别是有关于一种提高电子产品侦测设备红外线穿透率的结构。
技术介绍
随着电子产品日新月异的发展，电子产品的安全性与隐私保护，也变得更为重要。目前，部分的电子产品可以透过虹膜辨识与脸部辨识解锁进行解锁，除了利用生物特征的单一性，更需要能够精准的判断不同使用者之间的差异，以避免判断错误，而造成电子产品中的数据外泄的风险。相关虹膜辨识与脸部辨识技术，一般采用红外线镜头，侦测并辨识使用者的虹膜或面貌的特征，若与电子产品中内部储存已获授权的持有者的特征相符，电子产品才会自动解锁。反之，若所侦测到的使用者的虹膜或面貌的特征与电子产品中内部储存已获授权的持有者的特征不相符，则电子产品将无法解锁，以避免数据外泄。电子产品对于红外线侦测功能的灵敏度与距离的要求也因此日渐提高。此外，在外观上更需要能达到红外线侦测孔隐藏的效果，以提升电子产品的外观及保持侦测装置的隐密性。
技术实现思路
本专利技术之一实施态样在于提供一种高红外线穿透率结构，能提升红外线的穿透率。根据本专利技术之一或多个实施方式，一种高红外线穿透率结构具有一基材、一红外线油墨层以及一抗反射层。红外线油墨层形成于基材之上，而抗反射层形成于红外线油墨层之上，以提升红外线的穿透率。在一实施例中，基材在380nm至1000nm的波长下，具有大于80％的光线穿透率。在一实施例中，红外线油墨层，包含有树脂、颜料以及硬化剂，其在550nm的波长下，具有小于15％的光线穿透率，且在850nm的波长下，具有大于75％的光线穿透率。在一实施例中，抗反射层，系由一抗反射膜所形成。在一实施例中，抗反射层，系由一个以上的高折射率材料及一个以上的低折射率材料，相互堆叠所形成。在一实施例中，抗反射层，在380nm至1000nm的波长下，具有小于4％的光线反射率。在一实施例中，基材与红外线油墨层的折射率约介于1.4至1.6之间。在一实施例中，基材的一侧以及抗反射层另一侧均直接暴露在空气中。因此，本专利技术之高红外线穿透率结构可以有效地提升红外线的穿透率，有效地增加电子产品对于红外线侦测功能的灵敏度与侦测距离。此外，藉由低的可见光的穿透率，更能维持红外线侦测孔隐藏的效果。附图说明图1绘示本专利技术所揭露的一种高红外线穿透率结构的一较佳实施例之示意图。图2绘示本专利技术所揭露的一种高红外线穿透率结构的另一较佳实施例之示意图。图3绘示本专利技术所揭露的一种高红外线穿透率结构的光线穿透率之量测数据之示意图。附图标记：100：高红外线穿透率结构110：基材120：红外线油墨层130：抗反射层140：遮光元件142：开口210：基材200：高红外线穿透率结构220：红外线油墨层230：抗反射膜240：遮光元件242：开口310：习知结构之光线穿透率曲线320：高红外线穿透率结构之光线穿透率曲线具体实施方式以下将以图式揭露本专利技术之复数个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本专利技术。也就是说，在本专利技术部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些习知惯用的结构与元件在图式中将以简单示意的方式绘示之。除非另有定义，本文所使用的所有词汇(包括技术和科学术语)具有其通常的意涵，其意涵系能够被熟悉此领域者所理解。更进一步的说，上述之词汇在普遍常用之字典中之定义，在本说明书的内容中应被解读为与本专利技术相关领域一致的意涵。除非有特别明确定义，这些词汇将不被解释为理想化的或过于正式的意涵。参阅图1，图1绘示本专利技术所揭露的一种高红外线穿透率结构的一较佳实施例之示意图。一种高红外线穿透率结构100包含有一基材110、一红外线油墨层120以及一抗反射层130。红外线油墨层120形成于基材110之上，而抗反射层130则形成于红外线油墨层120之上，以提升红外线的穿透率。其中，基材110相对于红外线油墨层120的另一侧暴露于空气中。其中，基材110在380nm至1000nm的波长下，具有大于80％的光线穿透率。而红外线油墨层120则包含有树脂、颜料以及硬化剂所形成。在一实施例中，红外线油墨层120在550nm的波长下，具有小于15％的光线穿透率，且在850nm的波长下，具有大于75％的光线穿透率。如图1所示，抗反射层130系由一个以上的高折射率材料及一个以上的低折射率材料，相互堆叠所形成。较佳地，抗反射层130，在380nm至1000nm的波长下，具有小于4％的光线反射率。此外，前述之抗反射层130直接附着在红外线油墨层120，且另一侧暴露在空气之中。在一实施例中，高红外线穿透率结构100更包含有一遮光元件140设置于基材110之上，其具有一开口142，而红外线油墨层120设置于开口142之中。在一实施例中，抗反射层130以八层的高折射率材料及低折射率材料所形成，其可以在提供在380nm至900nm的波长下，具有约1.2％的反射率。其中，第1、3、5、7层系由高折射率材质所形成，其厚度分别为6.01nm、21.94nm、41.75nm以及29.07nm。相对的镀膜的1/4波长光学厚度(QWOT；Quarter-WaveOpticalThickness)分别为0.1005、0.3669、0.6984以及0.4863。此外，第2、4、6、8层系由低折射率材质所形成，其厚度分别为69.85nm、44.22nm、37.34nm以及119.44nm。相对的QWOT分别为0.7518、0.4760、0.4019以及1.2856。此外，基材110的折射率约介于1.4至1.6之间，而红外线油墨层120的折射率则约介于1.4至1.6之间。参阅图3，其系绘示本专利技术所揭露的一种高红外线穿透率结构的光线穿透率之量测数据之示意图。如图所示，其中习知结构之光线穿透率曲线310并未设置有抗反射层，在实际的量测数据中，550nm的波长下，具有约1％的光线穿透率，而在850nm的波长下，具有约89.3％的光线穿透率。进一步参阅高红外线穿透率结构之光线穿透率曲线320，则在实际的量测数据中，550nm的波长下，具有约1.1％的光线穿透率，而在850nm的波长下，具有约92.4％的光线穿透率。因此，本专利技术所揭露之高红外线穿透率结构100可以有效地提升红外线的穿透率，使红外线的穿透率维持在90％以上，较佳地更可以维持在约94％以上，有效地增加电子产品对于红外线侦测功能的灵敏度与侦测距离。此外，在外观上，由于可见光的穿透率仍维持在5％以下，更能维持红外线侦测孔隐藏的效果，使维持电子产品的外观并保持侦测装置的隐密性。参阅图2，其系绘示本专利技术所揭露的一种高红外线穿透率结构的另一较佳实施例之示意图。如图所示，高红外线穿透率结构200包含有一基材210、一红外线油墨层220以及一抗反射膜230。红外线油墨层220形成于基材210之上，而抗反射膜230则形成于红外线油墨层220之上，以提升红外线的穿透率。在此实施例中，抗反射层系由抗反射膜230所形成。其中，基材210相对于红外线油墨层220的另一侧暴露于空气中。其中，基材210在380nm至1000nm的波长下，具有大于80％的光线穿透率。而红外线油墨层220则包含有树脂、颜料以及硬化剂所形成。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高红外线穿透率结构，其特征在于，包含：一基材；一红外线油墨层，形成于该基材之上；以及一抗反射层，形成于该红外线油墨层之上，以提升红外线的穿透率。

【技术特征摘要】
1.一种高红外线穿透率结构，其特征在于，包含：一基材；一红外线油墨层，形成于该基材之上；以及一抗反射层，形成于该红外线油墨层之上，以提升红外线的穿透率。2.如权利要求1所述之高红外线穿透率结构，其中该基材，在380nm至1000nm的波长下，具有大于80％的光线穿透率。3.如权利要求2所述之高红外线穿透率结构，其中该红外线油墨层，包含树脂、颜料以及硬化剂。4.如权利要求3所述之高红外线穿透率结构，其中该红外线油墨层，在550nm的波长下，具有小于15％的光线穿透率。5.如权利要求4所述之高红外线穿透率结构，其中该红外线油墨层，在850n...

【专利技术属性】
技术研发人员：任陈铭，黄彦衡，姚彦章，黎思奇，
申请(专利权)人：业成科技成都有限公司，业成光电深圳有限公司，英特盛科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：四川,51