The utility model provides a magnetron sputtering device reducing silver shield wall for polysilicon production, including reducing cover base, vacuum pump, rotary frame, cathode assembly and a rotary drive mechanism, reducing hood base for placing the inverted reduction cover, the base is provided with a rotating cover reduction framework, through the lower end of the rotary frame the rotary drive mechanism drives the rotation, argon gas input hole is also provided with a rotary shaft; the cathode assembly includes a plurality of cathode, and the cathode component is arranged in the rotating frame of the side frame and the top frame, wherein the cathode comprises magnetic steel and silver target, the magnetic field of magnetic field of the magnetic steel to restore the runway shield wall, in addition. Cathode components are respectively connected with the power supply, power supply for negative voltage is formed between the anode and cathode; the vacuum pump for vacuum sealed space. The utility model has silver plating on the inner wall of the reduction hood, and the silver layer has high bonding strength and low cost in the inner wall of the reduction hood, and can be widely used in the enterprises of our country.
【技术实现步骤摘要】
一种多晶硅生产用的还原罩内壁镀银的磁控溅射装置
本技术涉及一种多晶硅生产用的还原罩内壁镀银的磁控溅射装置。
技术介绍
高纯度的多晶硅是电子及太阳能光伏产业的基础原料,多晶硅的生产绝大部分采用改良西门子工艺,其中还原炉是多晶硅生产的核心设备之一,多晶硅还原炉主要由双层结构的钟罩式炉体,底盘及其他附属部件组成。由于多晶硅的生产是在1300度高温及强酸的条件下进行的,为了减少设备材质对多晶硅产品的污染及抵御高温化学腐蚀,还原炉的炉体一般为不锈钢316材料制成。多晶硅的生产需要消耗大量电能,一般来讲,电力成本占多晶硅产品总成本的50到75%左右,因此,研究高效节能的还原炉是降低或生产成本的关键。现有的措施是在还原罩内壁镀银层,但是通过现有的技术手段对还原罩内壁进行镀银,银层在还原罩内壁结合强度低,迄今为止都没有一种好的方法将银层牢固的与还原罩内壁结合,国外有一种方法是用爆炸成型的方式将银板贴合上去,但是费用高昂,国内企业无法接受。
技术实现思路
有鉴于此,本技术所要解决的技术问题,就是提出一种多晶硅生产用的还原罩内壁镀银的磁控溅射装置,其经济效益好,成本低,更主要的是,通过本技术的装置对还原罩进行镀银,银层可与还原罩内壁贴合紧密。为解决上述技术问题,本技术采用以下技术方案予以实现:一种多晶硅生产用的还原罩内壁镀银的磁控溅射装置,包括还原罩底座、真空泵组、旋转框架、阴极组件以及旋转驱动机构,所述还原罩底座用于放置倒扣的还原罩形成密闭空间,还原罩底座上方设有旋转框架,所述旋转框架包括侧框架和顶框架,旋转框架的下端通过所述旋转驱动机构驱动旋转,而旋转驱动机构的旋转轴与还原罩底座 ...
【技术保护点】
一种多晶硅生产用的还原罩内壁镀银的磁控溅射装置,其特征在于,包括还原罩底座、真空泵组、旋转框架、阴极组件以及旋转驱动机构,所述还原罩底座用于放置倒扣的还原罩形成密闭空间,还原罩底座上方设有旋转框架,所述旋转框架包括侧框架和顶框架,旋转框架的下端通过所述旋转驱动机构驱动旋转,而旋转驱动机构的旋转轴与还原罩底座之间密封,旋转轴中还设有氩气输入孔,用于向还原罩与还原罩底座之间的密闭空间输入氩气;所述阴极组件包括若干阴极件,且阴极件设于所述旋转框架的侧框架和顶框架上,所述阴极件包括磁钢和银靶材,其中磁钢磁场的磁力线跑道指向还原罩内壁,此外,阴极件分别连接有电源,电源用于使阳极与阴极间形成负电压;所述真空泵组在还原罩底座上连通还原罩与还原罩底座之间的密闭空间,用于对密闭空间抽真空。
【技术特征摘要】
1.一种多晶硅生产用的还原罩内壁镀银的磁控溅射装置,其特征在于,包括还原罩底座、真空泵组、旋转框架、阴极组件以及旋转驱动机构,所述还原罩底座用于放置倒扣的还原罩形成密闭空间,还原罩底座上方设有旋转框架,所述旋转框架包括侧框架和顶框架,旋转框架的下端通过所述旋转驱动机构驱动旋转,而旋转驱动机构的旋转轴与还原罩底座之间密封,旋转轴中还设有氩气输入孔,用于向还原罩与还原罩底座之间的密闭空间输入氩气;所述阴极组件包括若干阴极件,且阴极件设于所述旋转框架的侧框架和顶框架上,所述阴极件包括磁钢和银靶材,其中磁钢磁场的磁力线跑道指向还原罩内壁,此外,阴极件分别连接有电...
【专利技术属性】
技术研发人员:肖世洪,
申请(专利权)人:广州市新佑宏科技有限公司,
类型:新型
国别省市:广东,44
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