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本实用新型提出了一种多晶硅生产用的还原罩内壁镀银的磁控溅射装置，包括还原罩底座、真空泵组、旋转框架、阴极组件以及旋转驱动机构，还原罩底座用于放置倒扣的还原罩，还原罩底座上方设有旋转框架，旋转框架的下端通过旋转驱动机构驱动旋转，旋转轴中还设有...
该专利属于广州市新佑宏科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过广州市新佑宏科技有限公司授权不得商用。

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