用于太阳能电池上镀膜的硅片载板制造技术

本实用新型专利技术涉及领域，尤其涉及一种用于太阳能电池上镀膜的硅片载板，与常规的上镀膜载板相比，硅片四边靠在承托斜面的中部位置上，可以保证待加工硅片与载板只存在四边线接触，改变了原先的面接触形式；斜台面可以保证在硅片上料时存在向下滑动趋势，更加稳定的靠在载板上，保证了在工艺传输过程中的稳定性，减少抖动与碎片情况；承托水平面可以达到阻挡上镀膜存在的绕镀情况，作为防护板装置。

Silicon coated plates for coating on solar cells

The utility model relates to the field, particularly relates to a method for coating the silicon solar cell board, compared with the conventional coating on the carrier plate, four on the central position in the wafer plane bearing, can guarantee to be processed wafer and carrier plate only four line contact, changed the original form of surface contact; inclined surface can guarantee on silicon material is sliding downward trend, more stable on the carrier plate, ensure the stability in the process of the transfer process, reduce jitter and debris; support level can reach from around the plating coating on the plate as a protective device.

【技术实现步骤摘要】
用于太阳能电池上镀膜的硅片载板
本技术涉及领域，尤其涉及一种用于太阳能电池上镀膜的硅片载板。
技术介绍
目前上镀膜载板使用的为台阶式凹槽设计，硅片镀膜面朝上放置沉积SINx(或ALOx)，非镀膜面朝下，这类台阶式的上镀膜载板与硅片存在的为面接触(如图1所示)，容易对清洗后的电池片造成污染；在载板使用较长时间使用后沉积的SINx等变厚，硅片与载板接触部位容易发生镀膜不均匀、放置不平整等问题，且由于目前载板无遮挡部分，会造成较多绕镀情况(绕度主要就是比如需要对背面镀膜，但是会有一部分绕过背面沉积到正面边缘区域)，产生边缘效应。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是：为了改善硅片与载板接触和镀膜造成的绕镀问题，减少污染硅片情况，本技术提供一种用于太阳能电池上镀膜的硅片载板。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种用于太阳能电池上镀膜的硅片载板，包括呈框架状的载板本体，载板本体内壁具有承托斜面和承托水平面，承托水平面和承托斜面的底部连成一体，承托斜面由下往上逐渐向外倾斜，承托水平面和承托斜面之间所形成的角度α为100-150°，所述载板本体内沿承托斜面的底部的宽度L2小于待加工硅片的宽度L1。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于太阳能电池上镀膜的硅片载板，包括呈框架状的载板本体(1)，其特征在于：载板本体(1)内壁具有承托斜面(11)和承托水平面(12)，承托水平面(12)和承托斜面(11)的底部连成一体，承托斜面(11)由下往上逐渐向外倾斜，承托水平面(12)和承托斜面(11)之间所形成的角度α为100‑150°，所述载板本体(1)内沿承托斜面(11)的底部的宽度L2小于待加工硅片(10)的宽度L1。

【技术特征摘要】
1.一种用于太阳能电池上镀膜的硅片载板，包括呈框架状的载板本体(1)，其特征在于：载板本体(1)内壁具有承托斜面(11)和承托水平面(12)，承托水平面(12)和承托斜面(11)的底部连成一体，承托斜面(11)由下往上逐渐向外倾斜，承托水平面(12)和承托斜面(11)之间所形成的角度α为100-150°，所述载板本...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡新兴，孙铁囤，姚伟忠，
申请(专利权)人：常州亿晶光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32