后处理装置、印刷系统制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种后处理装置和印刷系统，后处理装置抑制载置部的介质的变形，并能够顺畅地进行后处理。后处理装置包括：载置部，临时载置介质；后处理部，对处于载置于所述载置部状态的所述介质执行后处理；排纸盘，装载被排出的所述介质；以及抑制部，抑制处于载置于所述载置部状态的所述介质变形。

Post processing device, printing system

The invention provides a post processing device and a printing system. The post processing device inhibits the deformation of the medium in the carrier and can be processed smoothly. Postprocessing device includes a mounting portion, a temporary mounting medium; Department of postprocessing, the medium is disposed in the execution load carrying state postprocessing; discharge tray, the medium is discharged from the loading; and the inhibition of inhibition of the medium in the mounting portion is mounted the state of deformation.

【技术实现步骤摘要】
后处理装置、印刷系统
本专利技术涉及后处理装置及印刷系统。
技术介绍
以往，已知有包括对形成有图像的纸张实施订订书钉处理、位移处理等的后处理的载置片处理部的后处理装置(例如，参照专利文献1)。在该后处理装置中，以将形成有图像的多张纸张载置于处理托盘的状态而实施后处理。需要注意的是，作为在纸张上形成图像的装置，已知有例如包括将作为液体的油墨以液滴喷出的记录头的喷墨打印机等。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015-107840号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题不过，在使用喷墨打印机形成图像时，伴随着油墨(水分)的吸收、油墨的干燥等有时形成有图像的纸张会发生卷曲(纸张的局部发生弯曲变形等的状态)。为此，存在如下问题：将使用喷墨打印机形成图像的纸张依次载置于后处理装置的处理托盘时，若先载置的纸张的卷曲程度变大，则后传送的纸张被先载置的纸张的卷曲部分卡住，从而纸张变得不整齐，发生传送不良。用于解决课题的技术方案本专利技术旨在解决介质的不整齐、传送不良，并可通过以下的方式或适用例来实现。[适用例1]本适用例涉及的后处理装置的特征在于，包括：载置部，临时载置通过印刷装置喷出液体而形成本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种后处理装置，其特征在于，包括：载置部，临时载置通过印刷装置喷出液体而形成有图像的介质；后处理部，对处于载置于所述载置部状态的所述介质执行后处理；排纸盘，装载被排出的所述介质；以及抑制部，抑制处于载置于所述载置部状态的所述介质变形。

【技术特征摘要】
2016.07.13 JP 2016-138251;2016.07.13 JP 2016-138251.一种后处理装置，其特征在于，包括：载置部，临时载置通过印刷装置喷出液体而形成有图像的介质；后处理部，对处于载置于所述载置部状态的所述介质执行后处理；排纸盘，装载被排出的所述介质；以及抑制部，抑制处于载置于所述载置部状态的所述介质变形。2.根据权利要求1所述的后处理装置，其特征在于，当在比所述载置部靠近上游侧的传送路径发生不传送所述介质的情况时，通过所述抑制部来抑制所述介质变形。3.根据权利要求2所述的后处理装置，其特征在于，不传送所述介质的情况为在比所述载置部靠近上游侧的传送路径发生所述介质卡纸的情况。4.根据权利要求1至3中任一项所述的后处理装置，其特征在于，所述抑制部在所述载置部与所述排纸盘之间进行抑制。5.根据权利要求4所述的后处理装置，其特征在于，所述抑制部包括：第一辊；和第二辊，所述第一辊和所述第二辊在夹持所述介质的方向上的间隔能够在第一间隔和第二间隔之间变换，所述第二间隔与所述第一间隔相比间隔变窄，当在比所述载置部靠近上游侧的传送路径发生不传送所述介质的情况时，能够隔着处于载置于所述载置部状态的所述介质，将所述第一辊与所述第二辊的所述间隔变为所述第二间隔。6.根据权利要求5所述的后处理装置，其特征在于，在所述第一间隔中，第一辊和第二辊中的任意一方的辊不接触所述介质，在所述第二间隔中，第一辊和第二辊接触所述介质。7.根据权利要求1至3中任一项所述的后处理装置，其特征在于，所述抑制部在所述载置部上进行抑制。8.根据权利要求7所述的后处理装置，其特征在于，所述抑制部包括能够与所述介质的表面接触的接触部，处于载置于所述载置部状态的所述介质和所述接触部的间隔能够在第一间隔和第二间隔之间变换，所述第二间隔与所述第一间隔相比间隔变窄，...

【专利技术属性】
技术研发人员：儿玉秀俊，足立裕尚，原田裕太朗，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP