曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种曝光装置，包括：基台，基台用于放置基板；光源组件，光源组件设在基台的上方，光源组件用于发射光源；载物台，载物台设在基台和光源组件之间且用于放置掩膜板，掩膜板上具有透光部，透光部的宽度方向与光源组件的扫描方向相同，光源的宽度为d1，透光部的宽度为d2，d1和d2满足：d1＜d2；驱动组件，在对基板进行曝光时驱动组件用于分别驱动光源组件和载物台移动，其中光源组件的移动方向与载物台的移动方向相反；控制组件，控制组件与驱动组件相连以控制驱动组件驱动光源组件和载物台的移动速度。本发明专利技术的曝光装置，可增加基板上电路的集成度，进而增加显示的分辨率。若分辨率不变，则可增加基板的开口率，从而增加显示效果。

Exposure device

The invention discloses an exposure apparatus includes a base station and base station for placing the substrate; the light source component, a base station above the light source, light source module for emitting light; carrier between the loading station is located in the base station and the light source component and is used to place the mask, the mask has a light transmission part on the scanning direction of width direction of transmission parts and components of the same light source, light transmitting part width is D1, width of D2, D1 and D2 meet: D1 < D2; driving component in exposure to substrate driven components are respectively used for driving the light source component and stage moving, moving direction of the moving direction of the the light source component and stage opposite; control module, control module and driving module is connected with the moving speed to control the drive assembly drives the light source component and stage. The exposure device of the invention can increase the integration of the circuit on the substrate, and then increase the resolution of the display. If the resolution is constant, the opening rate of the substrate can be increased, thus increasing the display effect.

【技术实现步骤摘要】
曝光装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种曝光装置。
技术介绍
随着显示技术不断的更新，显示效果随之不断提升。在曝光工序中，如何提高曝光的精细度一直是曝光技术的热点之一。较高的曝光精细度，能够提升基板的开口率以及基板上的集成度，进而增强显示效果，但高精细度的曝光设备较难制备与更新。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种曝光装置，可以有效地增加基板上电路的集成度，进而增加显示的分辨率。若分辨率不变，则可以有效地增加基板的开口率，从而增加显示效果。根据本专利技术实施例的曝光装置，包括：基台，所述基台用于放置基板；光源组件，所述光源组件设在所述基台的上方，所述光源组件用于发射光源；载物台，所述载物台设在所述基台和所述光源组件之间且用于放置掩膜板，所述掩膜板上具有透光部，所述透光部的宽度方向与所述光源组件的扫描方向相同，所述光源的宽度为d1，所述透光部的宽度为d2，所述d1和所述d2满足：d1＜d2；驱动组件，在对所述基板进行曝光时所述驱动组件用于分别驱动所述光源组件和所述载物台移动，其中所述光源组件的移动方向与所述载物台的移动方向相本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，其特征在于，包括：基台，所述基台用于放置基板；光源组件，所述光源组件设在所述基台的上方，所述光源组件用于发射光源；载物台，所述载物台设在所述基台和所述光源组件之间且用于放置掩膜板，所述掩膜板上具有透光部，所述透光部的宽度方向与所述光源组件的扫描方向相同，所述光源的宽度为d1，所述透光部的宽度为d2，所述d1和所述d2满足：d1＜d2；驱动组件，在对所述基板进行曝光时所述驱动组件用于分别驱动所述光源组件和所述载物台移动，其中所述光源组件的移动方向与所述载物台的移动方向相反；控制组件，所述控制组件与所述驱动组件相连以控制所述驱动组件驱动所述光源组件和所述载物台的移动速度。

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：基台，所述基台用于放置基板；光源组件，所述光源组件设在所述基台的上方，所述光源组件用于发射光源；载物台，所述载物台设在所述基台和所述光源组件之间且用于放置掩膜板，所述掩膜板上具有透光部，所述透光部的宽度方向与所述光源组件的扫描方向相同，所述光源的宽度为d1，所述透光部的宽度为d2，所述d1和所述d2满足：d1＜d2；驱动组件，在对所述基板进行曝光时所述驱动组件用于分别驱动所述光源组件和所述载物台移动，其中所述光源组件的移动方向与所述载物台的移动方向相反；控制组件，所述控制组件与所述驱动组件相连以控制所述驱动组件驱动所述光源组件和所述载物台的移动速...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡迎宾，赵策，周斌，王东方，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11