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本发明公开了一种曝光装置，包括：基台，基台用于放置基板；光源组件，光源组件设在基台的上方，光源组件用于发射光源；载物台，载物台设在基台和光源组件之间且用于放置掩膜板，掩膜板上具有透光部，透光部的宽度方向与光源组件的扫描方向相同，光源的宽度为...该专利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司授权不得商用。