一种可控合成氮化硼纳米片的制备方法技术

本发明专利技术为一种可控合成氮化硼纳米片的制备方法。该方法包括如下步骤：将金属镁粉和氧化硼按照混合，在研砵中研磨得到灰白色混合物；再放置于高温管式炉中，氮气保护气氛下从常温升到750‑850℃，保温1‑1.5h；然后气氛换为氨气气氛下，1200‑1400℃，保温2‑10h，再降温至室温，得到白色固体产物；最后经过洗涤、烘干，最后得到氮化硼纳米片粉末。本发明专利技术对设备要求不高，降低了能耗和生产成本。产物通过简单的盐酸洗进行提纯，易于操作。

【技术实现步骤摘要】
一种可控合成氮化硼纳米片的制备方法
本专利技术涉及六方氮化硼纳米材料的技术合成领域，具体为一种纯相粒径均匀的六方氮化硼纳米片的可控合成方法。
技术介绍
六方氮化硼晶体的分子式是BN，与石墨是等电子体，具有类似石墨的层状结构，具有优良的电绝缘性、高温耐火性、热传导性、化学惰性、高润滑性等，被广泛应用于机械、冶金、电子、航空航天等科技领域。氮化硼纳米片具有类似石墨烯的二维纳米结构，由多层六方氮化硼层状结构叠加而成。氮化硼纳米片具有与石墨烯相媲美的力学性能和热传导性能，并且具有比石墨烯更优越的化学稳定性，热稳定性，独特的紫外发光性能等。同时，氮化硼纳米片为典型的宽禁带半导体材料，其带隙宽度为5-6eV,是制备电子器件绝缘膜、高温功率器件、纳米复合材料及紫外发光元件的理想材料。近年来，研究人员不断探求绿色节能环保的合成方法来制备氮化硼纳米片，包括机械分离法、化学气相沉积法、固相化学反应法等。但由于制备方法的局限，所得产物量非常少，且存在严重缺陷，这严重制约了六方氮化硼在研究和应用领域进一步的发展。D.Pacilé等首先报道了二维氮化硼纳米材料的合成，采用微机械分离法，得到了大约10个原子层的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可控合成氮化硼纳米片的制备方法，其特征为该方法包括如下步骤：（1）将金属镁粉和氧化硼混合，在研砵中研磨1‑5min混合均匀得到灰白色混合物；其中，摩尔比镁粉：氧化硼=1~6:1；（2）将步骤（1）中得到的混合物粉末放置于高温管式炉中，氮气保护气氛下从常温升到750‑850℃，升温速率为10℃/min，保温1‑1.5h；然后气氛换为氨气气氛下，以10℃/min的升温速率升到1200‑1400℃，保温2‑10h，再降温至室温，得到白色固体产物；（3）将步骤（2）中的产物盐酸溶液机械搅拌6‑24h洗去氧化镁杂质，然后过滤，再用去离子水洗2‑3次得到白色粉末；（4）将步骤（3）中的白色粉末在70‑...

【技术特征摘要】
1.一种可控合成氮化硼纳米片的制备方法，其特征为该方法包括如下步骤：（1）将金属镁粉和氧化硼混合，在研砵中研磨1-5min混合均匀得到灰白色混合物；其中，摩尔比镁粉：氧化硼=1~6:1；（2）将步骤（1）中得到的混合物粉末放置于高温管式炉中，氮气保护气氛下从常温升到750-850℃，升温速率为10℃/min，保温1-1.5h；然后气氛换为氨气气氛下，以10℃/min的升温速率升到1200-1400℃，保温2-10h，再降温至室温，得到白色固体产物；（3）...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐成春，赵岩，刘振亚，张俊杰，王德坤，曹超超，
申请(专利权)人：河北工业大学，
类型：发明
国别省市：天津,12