氟化结构化有机膜层制造技术

本发明专利技术披露一种成像构件,其包括基底、电荷产生层、电荷传输层；和包含结构化有机膜(SOF)的最外层，所述结构化有机膜(SOF)包含氟化分子构建块和空穴分子构建块，其中所述氟化分子构建块以所述最外层的SOF的约1重量％到约20重量％的量存在于所述SOF中。

【技术实现步骤摘要】
氟化结构化有机膜层
本专利技术涉及用于成像构件的保护外涂层。更具体地说，提供了一种使用用于感光器的外涂层的结构化有机膜。
技术介绍
在电子照相术、电子照相成像或静电照相成像中，在导电层上含有光导绝缘层的电子照相的板、鼓、带等的表面(成像构件或感光器)首先均匀地静电充电。成像构件曝光于激活电磁辐射模式，如光。辐射选择性地消散在光导绝缘层的照亮区域上的电荷，同时在未照亮区域上留下静电潜像。此静电潜像接着可通过在光导绝缘层的表面上沉积微细的验电(electroscopic)标记粒子显影以形成可见的图象。所得可见的图象接着可从成像构件直接或间接(如通过转印或其它构件)转印到印刷基底，如透明或纸。成像过程可用可再用的成像构件重复多次。虽然可用多层带或感光鼓获得极佳的调色剂图像，但是已发现随着更先进更高速的电子照相复印机、复制器和打印机的开发，对打印质量有更高的要求。必须维持带电图像和偏置电位以及调色剂和/或显影剂的特征的微妙平衡。这对感光器制造的质量并且因此对制造成品率施加了附加限制。成像构件通常曝光于重复的电子照相循环，这使曝光的带电输送层或其替代的顶层经受机械磨损、化学侵蚀和热。此重复循环本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成像构件，其包含：基底；电荷产生层；电荷传输层；和包含结构化有机膜(SOF)的最外层，所述结构化有机膜(SOF)包含氟化分子构建块和空穴分子构建块，其中所述氟化分子构建块以所述最外层的SOF的约1重量％到约20重量％的量存在于所述SOF中。

【技术特征摘要】
2016.06.30 US 15/1986801.一种成像构件，其包含：基底；电荷产生层；电荷传输层；和包含结构化有机膜(SOF)的最外层，所述结构化有机膜(SOF)包含氟化分子构建块和空穴分子构建块，其中所述氟化分子构建块以所述最外层的SOF的约1重量％到约20重量％的量存在于所述SOF中。2.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述氟化分子构建块和所述空穴分子构建块以所述最外层的SOF的约90重量％到约99.5重量％的量存在于所述SOF中。3.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述最外层为外涂层，并且所述外涂层为约2微米到约10微米厚。4.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述氟化分子构建块选自由以下组成的群组：具有以下通式结构的α,ω-氟烷基二醇：其中n为具有值为1到约100的整数；所述通式结构的氟化醇HOCH2(CF2)nCH2OH，其中n为具有值为1到约100的整数；四氟对苯二酚；全氟己二酸水合物，4,4'-(六氟亚异丙基)二邻苯二甲酸酐；和4,4'-(六氟亚异丙基)二苯酚。5.根据权利要求1所述的成像构件，其中所述氟化分子构建块选自由以下组成的群组：1,1,8,8-十二氟-1,8-辛二醇、2,2,3,3,4,4,5,5-八氟-1,6-己二醇、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟-1,8-辛二醇、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-全氟癸-1,10-二醇、(2,3,5,6-四氟-4-羟甲基-苯基)-甲醇、2,2,3,3-四氟-1,4-丁二醇、2,2,3,3,4,4-六氟-1,5-戊二醛，和2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8-十四氟-1,9-壬二醇。6.一种静电照相设备，其包含：成像构件，其具有包含结...

【专利技术属性】
技术研发人员：G·M·麦圭尔，杨素霞，NX·胡，E·C·萨维奇，R·W·赫德里克，
申请(专利权)人：施乐公司，
类型：发明
国别省市：美国,US