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氟化结构化有机膜层制造技术
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文档序号:17005701
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本发明披露一种成像构件,其包括基底、电荷产生层、电荷传输层;和包含结构化有机膜(SOF)的最外层,所述结构化有机膜(SOF)包含氟化分子构建块和空穴分子构建块,其中所述氟化分子构建块以所述最外层的SOF的约1重量%到约20重量%的量存在于所...
该专利属于施乐公司所有,仅供学习研究参考,未经过施乐公司授权不得商用。
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