一种等离子体镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及等离子镀膜技术领域，特别涉及一种等离子体镀膜装置，包括壳体，壳体内腔设置有加热套和电极基板，加热套、电极基板和壳体内腔的端面围设有加热腔体，加热丝两端分别与入口导流板和出口导流板相固定连接；加热腔体连接有载流气体进气管和载流气体出气管；壳体内腔的下端面对称设置有两个隔板，隔板沿高度方向设置有若干个对流槽；壳体的内腔侧壁对称设置有两个固定座，壳体内腔的上端面固定设置有两个与固定座相匹配的进气管。本装置既保证了基板表面薄膜的品质；又保证包覆在基板表面的薄膜的均匀性。

A plasma coating device

The utility model relates to the technical field of plasma coating, particularly relates to a plasma coating device, which comprises a shell, shell are arranged in the inner cavity of the heating sleeve and the electrode substrate, electrode substrate and surface heating sleeve, the inner cavity of the casing is provided with a heating cavity around the heating wire, both ends are respectively connected with the entrance guide plate and outlet guide plate which is fixedly connected with the heating cavity connection; a carrier gas inlet pipe and carrier gas outlet pipe; the lower end of the symmetric shell cavity is provided with two baffle, baffle is provided with a plurality of convection grooves along the height direction; the side wall of the inner cavity of the shell is provided with two symmetrical fixed seats, the upper end surface of the inner cavity of the casing is provided with two intake match fixed seat tube. This device not only ensures the quality of the film on the surface of the substrate, but also ensures the uniformity of the film coated on the surface of the substrate.

【技术实现步骤摘要】
一种等离子体镀膜装置
本技术涉及等离子镀膜
，特别涉及一种等离子体镀膜装置。
技术介绍
现有等离子体镀膜装置一般都包括有一个真空反应室，在该真空反应室内设置有两个上下相对设置的平板电极结构，被镀基板放在真空反应室中，在该两个电极之间加正负电压以使得该两个平板电极之间辉光放电产生等离子体，等离子体在电场的作用下进行高速运动并与中性反应气体发生碰撞，从而使得中性反应气体分子变成离子状态或者处于激活状态而容易发生反应，这些具有高活性的反应物质很容易被吸附于被镀基板表面发生非平衡的化学反应而沉积到基板表面而生成薄膜。然而，镀膜过程中高速运动的等离子体很容易与被镀基板发生碰撞，就会很容易使得被镀基板表面上已经完成镀膜的区域被高速运动的等离子的撞伤而影响薄膜的品质，另外，由于等离子体与反应气体的高速碰撞存在着一定程度的不可控制性，采用将被镀基板固定设置在电场中的这种结构很难保证包覆在基板表面的薄膜的均匀性。故有必要提供一种新型的等离子体镀膜装置。
技术实现思路
本技术的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种新型的等离子体镀膜装置。为实现上述目的，本技术采用的技术方案是：本技术所述的一种等离子体镀膜装置，包括壳体，所述壳体内腔的上、下端面对称设置有加热套，所述加热套一端均固定连接有电极基板，加热套、电极基板和壳体内腔的端面围设有加热腔体，两个电极基板呈对称设置；所述加热腔体内设置有入口导流板、加热丝和出口导流板，加热丝两端分别与入口导流板和出口导流板相固定连接；它还包括有载流气体进气管和载流气体出气管，所述载流气体进气管一端设置在壳体外部，所述载流气体进气管另一端伸入加热腔体后与入口导流板相连接；载流气体出气管一端设置在壳体内腔部，载流气体出气管另另一端伸入加热腔体后与出口导流板相连接；壳体内腔的下端面对称设置有两个隔板，电极基板位于两个隔板之间；所述隔板沿高度方向设置有若干个对流槽；壳体的内腔侧壁对称设置有两个固定座，壳体内腔的上端面固定设置有两个与固定座相匹配的进气管，进气管一端设置在壳体外部，进气管另一端设置在壳体内部。进一步地，所述入口导流板和出口导流板的纵向截面呈喇叭状。进一步地，所述入口导流板和出口导流板均采用陶瓷材料制作而成。进一步地，所述加热丝呈螺旋形状设置。进一步地，所述载流气体进气管和载流气体出气管均采用陶瓷材料制作而成。进一步地，所述隔板的横截面呈弧形状。采用上述结构后，本技术有益效果为：在使用本技术时，通过隔板进行疏导，避免气体乱流，进而提高了等离子体与反应气体在高速碰撞的可控性，减少了镀膜过程中高速运动的等离子体发生相互碰撞，同时也减少对等离子体对被镀基板发生碰撞；通过在加热丝的两端设置入口导流板和出口导流板，极大地提高了气化效率；因此，本装置既保证了基板表面薄膜的品质；又保证包覆在基板表面的薄膜的均匀性。附图说明图1是本技术的结构示意图；附图标记说明：1、壳体；2、进气管；3、固定座；4、隔板；4-1、对流槽；5、加热套；6、载流气体进气管；7、入口导流板；8、加热丝；9、出口导流板；10、载流气体出气管；11、电极基板；12、加热腔体。具体实施方式下面结合附图对本技术作进一步的说明。如图1所示，本技术所述的一种等离子体镀膜装置，包括壳体1，所述壳体1内腔的上、下端面对称设置有加热套5，所述加热套5一端均固定连接有电极基板11，加热套5、电极基板11和壳体1内腔的端面围设有加热腔体12，即加热套5两端分别与电极基板11、壳体1内腔的端面相固定连接，加热套5、电极基板11和壳体1经一体成型而成；两个电极基板11呈对称设置，两个电极基板11上加有电压后使得该两个电极基板11之间产生电场。所述加热腔体12内设置有入口导流板7、加热丝8和出口导流板9，加热丝8两端分别与入口导流板7和出口导流板9相固定连接，加热丝8的两端还连接电源，为加热丝8提供电源支持；加热丝8可对加热腔体12的固态或者液态反应物进行加热气化；入口导流板7和出口导流板9能够提高气化效率。它还包括有载流气体进气管6和载流气体出气管10，所述载流气体进气管6一端设置在壳体1外部，所述载流气体进气管6另一端伸入加热腔体12后与入口导流板7相连接；载流气体出气管10一端设置在壳体1内腔部，载流气体出气管10另另一端伸入加热腔体12后与出口导流板9相连接。壳体1内腔的下端面对称设置有两个隔板4，电极基板11位于两个隔板4之间；所述隔板4沿高度方向设置有若干个对流槽4-1；对流槽4-1可起到导流或引流作用，避免气体乱流；壳体1的内腔侧壁对称设置有两个固定座3，壳体1内腔的上端面固定设置有两个与固定座3相匹配的进气管2，进气管2一端设置在壳体1外部，进气管2另一端设置在壳体1内部；进气管2、固定座3和隔板4均为相匹配设置，也可以认为是成套设置。进一步地，所述入口导流板7和出口导流板9的纵向截面呈喇叭状。进一步地，所述入口导流板7和出口导流板9均采用陶瓷材料制作而成。进一步地，所述加热丝8呈螺旋形状设置，这样可对加热腔体12的固态或者液态反应物提高气化效率。进一步地，所述载流气体进气管6和载流气体出气管10均采用陶瓷材料制作而成。进一步地，所述隔板4的横截面呈弧形状。在使用本技术时，通过隔板进行疏导，避免气体乱流，进而提高了等离子体与反应气体在高速碰撞的可控性，减少了镀膜过程中高速运动的等离子体发生相互碰撞，同时也减少对等离子体对被镀基板发生碰撞；通过在加热丝的两端设置入口导流板和出口导流板，极大地提高了气化效率；因此，本装置既保证了基板表面薄膜的品质；又保证包覆在基板表面的薄膜的均匀性。以上所述仅是本技术的较佳实施方式，故凡依本技术专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本技术专利申请范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种等离子体镀膜装置，包括壳体(1)，其特征在于：所述壳体(1)内腔的上、下端面对称设置有加热套(5)，所述加热套(5)一端均固定连接有电极基板(11)，加热套(5)、电极基板(11)和壳体(1)内腔的端面围设有加热腔体(12)，两个电极基板(11)呈对称设置；所述加热腔体(12)内设置有入口导流板(7)、加热丝(8)和出口导流板(9)，加热丝(8)两端分别与入口导流板(7)和出口导流板(9)相固定连接；它还包括有载流气体进气管(6)和载流气体出气管(10)，所述载流气体进气管(6)一端设置在壳体(1)外部，所述载流气体进气管(6)另一端伸入加热腔体(12)后与入口导流板(7)相连接；载流气体出气管(10)一端设置在壳体(1)内腔部，载流气体出气管(10)另一端伸入加热腔体(12)后与出口导流板(9)相连接；壳体(1)内腔的下端面对称设置有两个隔板(4)，电极基板(11)位于两个隔板(4)之间；所述隔板(4)沿高度方向设置有若干个对流槽(4‑1)；壳体(1)的内腔侧壁对称设置有两个固定座(3)，壳体(1)内腔的上端面固定设置有两个与固定座(3)相匹配的进气管(2)，进气管(2)一端设置在壳体(1)外部，进气管(2)另一端设置在壳体(1)内部。...

【技术特征摘要】
1.一种等离子体镀膜装置，包括壳体(1)，其特征在于：所述壳体(1)内腔的上、下端面对称设置有加热套(5)，所述加热套(5)一端均固定连接有电极基板(11)，加热套(5)、电极基板(11)和壳体(1)内腔的端面围设有加热腔体(12)，两个电极基板(11)呈对称设置；所述加热腔体(12)内设置有入口导流板(7)、加热丝(8)和出口导流板(9)，加热丝(8)两端分别与入口导流板(7)和出口导流板(9)相固定连接；它还包括有载流气体进气管(6)和载流气体出气管(10)，所述载流气体进气管(6)一端设置在壳体(1)外部，所述载流气体进气管(6)另一端伸入加热腔体(12)后与入口导流板(7)相连接；载流气体出气管(10)一端设置在壳体(1)内腔部，载流气体出气管(10)另一端伸入加热腔体(12)后与出口导流板(9)相连接；壳体(1)内腔的下端面对称设置有两个隔板(4)，电极基板(11)位于两个隔板(4)...

【专利技术属性】
技术研发人员：王海侠，刘来君，
申请(专利权)人：欧钛鑫光电科技苏州有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32