弹性波装置及其制造方法制造方法及图纸

提供一种能够减小激励弹性波时的IDT电极的形变、能够使得IMD特性良好的弹性波装置。弹性波装置(1)具备：具有电极形成面(3a)的压电基板(3)、和被设置在电极形成面(3a)上的IDT电极(2)。IDT电极(2)具有：被设置在电极形成面(3a)上的紧贴层(4)、和被设置在紧贴层(4)上的主电极层(6)。紧贴层4具有第1层(4A)、第2层(4B)。第1层(4A)、第2层(4B)具有第1侧面(4Ac)、第2侧面(4Bc)。第1侧面(4Ac)、第2侧面(4Bc)的至少一部分与电极形成面(3a)的法线方向Z形成第1侧面(4Ac)的倾斜角度(θ1)、第2侧面(4Bc)的倾斜角度(θ2)，以使得第2层(4B)紧贴于主电极层(6)的面的面积小于第1层(4A)紧贴于压电基板(3)的面的面积。第2侧面(4Bc)的倾斜角度(θ2)小于第1侧面(4Ac)的倾斜角度(θ1)。

Elastic wave device and its manufacturing method

An elastic wave device which can reduce the deformation of the IDT electrode when the elastic wave is excited and can make the IMD characteristic well. The elastic wave device (1) is provided with a piezoelectric substrate (3) having an electrode forming surface (3a), and a IDT electrode (2) arranged on the electrode forming surface (3a). The IDT electrode (2) has a clinging layer (4) arranged on the electrode forming surface (3a), and a main electrode layer (6) arranged on the clinging layer (4). The clinging layer 4 has first layers (4A) and second layers (4B). The first layers (4A) and the second layer (4B) have first sides (4Ac) and second sides (4Bc). The first side (4Ac), second side (4Bc) and at least a portion of the electrode forming surface (3a) of the normal direction of formation of Z (4Ac) first side tilt angle (theta 1), second (4Bc) of the lateral tilt angle (theta 2), so that the second layer (4B) close to the main electrode layer (6) surface area of less than first layers (4A) close to the piezoelectric substrate (3) surface area. The inclination angle (theta 2) of the second side (4Bc) is less than the inclined angle (theta 1) of the first side (4Ac).

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】弹性波装置及其制造方法
本专利技术涉及弹性波装置及其制造方法。
技术介绍
以往，弹性波装置被广泛用于移动电话等。例如，下述的专利文献1中公开了具有IDT电极的弹性波装置的一例。该弹性波装置具有：压电基板、设置在压电基板上的中间层、和设置在中间层上的电极膜。在先技术文献专利文献专利文献1：JP特开2001-217672号公报
技术实现思路
-专利技术要解决的课题-在利用剥离加工法来制造专利文献1所记载的这种弹性波装置的情况下，在压电基板上以及抗蚀剂图案上蒸镀中间层用的金属膜以及电极膜用的金属膜。上述中间层用的金属采用熔点高的金属。因此，在形成中间层时，有时由于来自蒸镀源的辐射热、来自蒸镀粒子的热传导而抗蚀剂图案出现较大的变形。这样一来，有时中间层的侧面会出现较大的倾斜。因此，存在IDT电极被激励时的电极膜的形变变大、IMD特性出现劣化的情况。本专利技术的目的在于：提供一种无论上述中间层用的金属的熔点如何而能够使得弹性波被激励时的IDT电极的形变较小、能够使得IMD特性良好的弹性波装置及其制造方法。-解决课题的手段-在本专利技术的某个宽泛的方面，提供一种弹性波装置，其具备：压电基板，具有电极形成面；和IDT电极，被设置在所述压电基板的所述电极形成面上，所述IDT电极具有：被设置在所述压电基板的所述电极形成面上的紧贴层、和被设置在所述紧贴层上的主电极层，所述紧贴层具有紧贴于所述压电基板的第1层、和紧贴于所述主电极层的第2层，所述第1层具有第1侧面，所述第2层具有第2侧面，所述第1侧面、所述第2侧面的至少一部分分别相对于所述电极形成面的法线方向处于倾斜，以使得所述第2层紧贴于所述主电极层的面的面积小于所述第1层紧贴于所述压电基板的面的面积，在将所述第1侧面、所述第2侧面的处于倾斜的部分与所述电极形成面的法线方向所形成的角度分别设为所述第1侧面、所述第2侧面的倾斜角度时，所述第2侧面的所述倾斜角度小于所述第1侧面的所述倾斜角度。在本专利技术所涉及的弹性波装置的其他的特定方面，所述主电极层具有侧面，在将所述主电极层的所述侧面与所述压电基板的所述电极形成面的法线方向所形成的角度设为所述主电极层的所述侧面的倾斜角度时，所述主电极层的所述侧面的所述倾斜角度为所述第2侧面的所述倾斜角度以下。该情况下，能够更进一步减小弹性波被激励时的主电极层的形变。在本专利技术所涉及的弹性波装置的进一步其他的特定方面，构成所述紧贴层的金属的弹性率大于构成所述主电极层的金属的弹性率。在该情况下，能够有效地减小弹性波被激励时的主电极层的形变。在本专利技术所涉及的弹性波装置的另外的特定方面，构成所述紧贴层的金属的熔点为构成所述主电极层的金属的熔点以上。该情况下，能够更为可靠地减小弹性波被激励时的主电极层的形变。在本专利技术所涉及的弹性波装置的进一步另外的特定方面，所述紧贴层由Ti构成，所述主电极层由Al构成。该情况下，能够更进一步减小弹性波被激励时的主电极层的形变。在本专利技术的其他的宽泛方面，提供一种弹性波装置，具备：压电基板，具有电极形成面；和IDT电极，被设置在所述压电基板的所述电极形成面上，所述IDT电极具有：被设置在所述压电基板的所述电极形成面上的紧贴层、被设置在所述紧贴层上的中间层、和被设置在所述中间层上的主电极层，所述紧贴层以及所述中间层分别具有侧面，所述紧贴层的所述侧面的至少一部分相对于所述电极形成面的法线方向处于倾斜，以使得在所述紧贴层中紧贴于所述中间层的面的面积小于紧贴于所述压电基板的面的面积，所述中间层的所述侧面的至少一部分相对于所述电极形成面的法线方向处于倾斜，以使得在所述中间层中相接于所述主电极层的面的面积小于紧贴于所述紧贴层的面的面积，在将所述紧贴层的所述侧面的处于倾斜的部分以及所述中间层的所述侧面的处于倾斜的部分与所述电极形成面的法线方向所形成的角度分别设为所述紧贴层的所述侧面以及所述中间层的所述侧面的倾斜角度时，所述中间层的所述侧面的所述倾斜角度小于所述紧贴层的所述侧面的所述倾斜角度。该情况下，能够更进一步减小弹性波被激励时的主电极层的形变。在本专利技术所涉及的弹性波装置的进一步另外的特定方面，所述主电极层具有侧面，在将所述主电极层的所述侧面与所述电极形成面的法线方向所形成的角度设为所述主电极层的所述侧面的倾斜角度时，所述主电极层的所述侧面的所述倾斜角度为所述中间层的所述侧面的所述倾斜角度以下。该情况下，能够更进一步减小弹性波被激励时的主电极层的形变。在本专利技术所涉及的弹性波装置的进一步另外的特定方面，构成所述紧贴层的金属的弹性率为构成所述中间层的金属的弹性率以上，构成所述中间层的金属的弹性率大于构成所述主电极层的金属的弹性率。该情况下，能够有效地减小弹性波被激励时的主电极层的形变。在本专利技术所涉及的弹性波装置的进一步另外的特定方面，构成所述紧贴层的金属的熔点为构成所述中间层的金属的熔点以上，构成所述中间层的金属的熔点为构成所述主电极层的金属的熔点以上。该情况下，能够更可靠地减小弹性波被激励时的主电极层的形变。在本专利技术所涉及的弹性波装置的进一步另外的特定方面，所述紧贴层由NiCr以及Ti之中的任一者构成，所述中间层由Ti构成，所述主电极层由Al构成。该情况下，能够更进一步减小弹性波被激励时的主电极层的形变。本专利技术所涉及的弹性波装置的制造方法是具有紧贴层以及主电极层的IDT电极被设置在压电基板上的弹性波装置的制造方法，包括：准备具有电极形成面的压电基板的工序；和将IDT电极设置在所述压电基板的所述电极形成面上的工序，该工序具有在所述压电基板的所述电极形成面上层叠阻挡层的工序、对所述阻挡层进行图案化的工序、在所述压电基板上以及所述阻挡层上通过蒸镀法来层叠紧贴层用的金属膜的工序、在所述紧贴层用的金属膜上通过蒸镀法来层叠主电极层用的金属膜的工序、和将所述阻挡层从所述压电基板剥离的工序，所述紧贴层具有紧贴于所述压电基板的第1层、和紧贴于所述主电极层的第2层，所述第1层具有第1侧面，所述第2层具有第2侧面，在所述压电基板上以及所述阻挡层上层叠所述紧贴层用的金属膜的工序中，通过改变蒸镀法的条件的同时层叠所述紧贴层用的金属膜，使所述第1侧面、所述第2侧面相对于所述电极形成面的法线方向倾斜，以使得所述第2层紧贴于所述主电极层的面的面积小于所述第1层紧贴于所述压电基板的面的面积，在将所述第1侧面、所述第2侧面与所述电极形成面的法线方向所形成的角度分别设为所述第1侧面、所述第2侧面的倾斜角度时，所述第2侧面的所述倾斜角度小于所述第1侧面的所述倾斜角度。该情况下，能够更进一步减小弹性波被激励时的主电极层的形变。在本专利技术所涉及的弹性波装置的制造方法的某个特定方面，在所述压电基板上以及所述阻挡层上层叠所述紧贴层用的金属膜的工序中，使形成所述第2层时的蒸镀法中的成膜速度比形成所述第1层时的蒸镀法中的成膜速度慢。该情况下，能够更为可靠地减小弹性波被激励时的主电极层的形变。-专利技术效果-根据本专利技术，可提供一种能够减小激励弹性波时的IDT电极的形变、能够使得IMD特性良好的弹性波装置及其制造方法。附图说明图1是本专利技术的第1实施方式所涉及的弹性波装置的正面剖视图。图2(a)是本专利技术的第1实施方式中的IDT电极的放大正面剖视图，图2(b)是本专利技术的第1实施方式中的IDT电极的部分欠缺放大本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种弹性波装置，具备：压电基板，具有电极形成面；和IDT电极，被设置在所述压电基板的所述电极形成面上，所述IDT电极具有：被设置在所述压电基板的所述电极形成面上的紧贴层、和被设置在所述紧贴层上的主电极层，所述紧贴层具有紧贴于所述压电基板的第1层、和紧贴于所述主电极层的第2层，所述第1层具有第1侧面，所述第2层具有第2侧面，所述第1侧面、所述第2侧面的至少一部分分别相对于所述电极形成面的法线方向处于倾斜，以使得所述第2层紧贴于所述主电极层的面的面积小于所述第1层紧贴于所述压电基板的面的面积，在将所述第1侧面、所述第2侧面的处于倾斜的部分与所述电极形成面的法线方向所形成的角度分别设为所述第1侧面、所述第2侧面的倾斜角度时，所述第2侧面的所述倾斜角度小于所述第1侧面的所述倾斜角度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.17 JP 2015-1427681.一种弹性波装置，具备：压电基板，具有电极形成面；和IDT电极，被设置在所述压电基板的所述电极形成面上，所述IDT电极具有：被设置在所述压电基板的所述电极形成面上的紧贴层、和被设置在所述紧贴层上的主电极层，所述紧贴层具有紧贴于所述压电基板的第1层、和紧贴于所述主电极层的第2层，所述第1层具有第1侧面，所述第2层具有第2侧面，所述第1侧面、所述第2侧面的至少一部分分别相对于所述电极形成面的法线方向处于倾斜，以使得所述第2层紧贴于所述主电极层的面的面积小于所述第1层紧贴于所述压电基板的面的面积，在将所述第1侧面、所述第2侧面的处于倾斜的部分与所述电极形成面的法线方向所形成的角度分别设为所述第1侧面、所述第2侧面的倾斜角度时，所述第2侧面的所述倾斜角度小于所述第1侧面的所述倾斜角度。2.根据权利要求1所述的弹性波装置，其中，所述主电极层具有侧面，在将所述主电极层的所述侧面与所述压电基板的所述电极形成面的法线方向所形成的角度设为所述主电极层的所述侧面的倾斜角度时，所述主电极层的所述侧面的所述倾斜角度为所述第2侧面的所述倾斜角度以下。3.根据权利要求1或2所述的弹性波装置，其中，构成所述紧贴层的金属的弹性率大于构成所述主电极层的金属的弹性率。4.根据权利要求1至3任一项所述的弹性波装置，其中，构成所述紧贴层的金属的熔点为构成所述主电极层的金属的熔点以上。5.根据权利要求1至4任一项所述的弹性波装置，其中，所述紧贴层由Ti构成，所述主电极层由Al构成。6.一种弹性波装置，具备：压电基板，具有电极形成面；和IDT电极，被设置在所述压电基板的所述电极形成面上，所述IDT电极具有：被设置在所述压电基板的所述电极形成面上的紧贴层、被设置在所述紧贴层上的中间层、和被设置在所述中间层上的主电极层，所述紧贴层以及所述中间层分别具有侧面，所述紧贴层的所述侧面的至少一部分相对于所述电极形成面的法线方向处于倾斜，以使得在所述紧贴层中紧贴于所述中间层的面的面积小于紧贴于所述压电基板的面的面积，所述中间层的所述侧面的至少一部分相对于所述电极形成面的法线方向处于倾斜，以使得在所述中间层中相接于所述主电极层的面的面积小于紧贴于所述紧贴层的面的面积，在将所述紧贴层的所述侧面的处于倾斜的部分以及所述中间层的所述侧面的处于倾斜的部分与所述电极形成面的法线方向所形成的角度分别设为所述紧贴层的所述侧面以及所...

【专利技术属性】
技术研发人员：菊知拓，木间智裕，坪川雅，中川亮，
申请(专利权)人：株式会社村田制作所，
类型：发明
国别省市：日本,JP